正型光致抗蚀剂组合物制造技术

本发明专利技术提供正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法。在包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂、或者包含含有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型感光性组合物中，使(A)线型酚醛树脂中含有规定量的可溶于pH12的碱性水溶液的规定结构的(A1)线型酚醛树脂、或者使用来自包含规定量该(A1)线型酚醛树脂的(A)线型酚醛树脂的(A’)线型酚醛树脂。

【技术实现步骤摘要】
正型光致抗蚀剂组合物
本专利技术涉及正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法。
技术介绍
作为MCP(MultiChipPackage)、SiP(SysteminPackage)等多芯片组件多芯片组件的制造方法，研究了在包含硅、玻璃等的内插件(日文：インターポーザー)上安装多个IC芯片后，进一步将安装有多个IC芯片的内插件安装在树脂制的内插件上的方法。然而，在该方法中，对于包含硅、玻璃等的内插件，存在昂贵、IC芯片的安装困难等问题。因此，也研究了树脂制的内插件作为安装IC芯片的内插件的使用。在这种情况下，为了在树脂制的内插件上形成包含铜等金属的布线、端子，必须形成抗蚀剂图案。作为在树脂基板上形成布线、端子时形成抗蚀剂图案的方法，通常使用包含负型的感光性组合物的干膜，并使用廉价的低pH(例如pH12以下)的碱性水溶液进行显影的方法。作为该显影液，使用了例如碳酸钠水溶液。但是，使用负型的感光性组合物的情况下，存在清晰度不足、难以将抗蚀剂图案从树脂基板剥离等问题。因此，作为解决上述技术问题的方法，可举出使用清晰度为良好、从树脂基板的剥离相对容易的正型的感光性组合物形成抗蚀剂图案的方法。作为用于形成包含金属的布线、端子等而可以使用的正型感光性组合物，已知例如包含甲酚线型酚醛树脂等碱可溶性线型酚醛树脂、感光剂、以及苯并三唑系化合物的感光性组合物(参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-170612号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题若想将负型的感光性组合物置换为正型的感光性组合物，则需要即使在使用碳酸钠水溶液等pH低的碱性水溶液进行显影的情况下，也能良好地分辨细微的抗蚀剂图案。但是，专利文献1中记载的正型感光性组合物使用pH低的碱性水溶液作为显影液时的清晰度未必充分。另外，期望进一步改良专利文献1中记载的正型的感光性组合物从基板的剥离性。此外，使用专利文献1中记载的正型的感光性组合物，通过pH低的碱性水溶液进行显影从而形成抗蚀剂图案时，存在容易产生渣滓、或者难以形成观察抗蚀剂图案的截面时抗蚀剂部的侧壁相对于基板垂直或大致垂直的良好形状的问题。本专利技术鉴于上述课题而完成，目的在于提供一种正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法，关于所述正型光致抗蚀剂组合物，即使在使用低pH的碱性水溶液进行显影的情况下，也能在抑制渣滓产生的同时，形成观察抗蚀剂图案的截面时具有抗蚀剂部的侧壁相对于基板为垂直或大致垂直的良好形状、且从基板的剥离容易的细微的抗蚀剂图案。用于解决课题的手段本专利技术人等发现，通过在包含(A)线型酚醛树脂(日文：ノボラック樹脂)和(B)感光剂、或者包含含有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型感光性组合物中，使(A)线型酚醛树脂中含有规定量的可溶于pH12的碱性水溶液的规定结构的(A1)线型酚醛树脂、或者使用来自包含规定量该(A1)线型酚醛树脂的(A)线型酚醛树脂的(A’)线型酚醛树脂，从而解决了上述技术问题，进而完成了本专利技术。具体而言，本专利技术提供以下的方案。本专利技术的第一方式为一种正型光致抗蚀剂组合物，其包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂，(A)线型酚醛树脂包含含有来自苯酚(日文：フェノール)的单元且可溶于pH12的碱性水溶液的(A1)线型酚醛树脂，(A1)线型酚醛树脂的质量相对于(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％，(B)感光剂为具有萘醌二叠氮基的化合物。本专利技术的第二方式为一种正型光致抗蚀剂组合物，其为包含具有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型光致抗蚀剂组合物，(A’)线型酚醛树脂是在(A)线型酚醛树脂所具有的酚羟基的一部分中，酚羟基中的氢原子被包含萘醌二叠氮基的基团取代的线型酚醛树脂，(A)线型酚醛树脂包含含有来自苯酚的单元且可溶于pH12的碱性水溶液的(A1)线型酚醛树脂，(A1)线型酚醛树脂的质量相对于(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％。本专利技术的第三方式为一种带感光膜的基板，其具备包含第一方式或第二方式的正型光致抗蚀剂组合物的感光膜。本专利技术的第四方式为一种图案化的抗蚀剂膜的形成方法，其包括：包含第一方式或第二方式的正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的位置选择性的曝光；以及被曝光的感光膜的显影。专利技术效果根据本专利技术，可以提供一种正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法，关于所述正型光致抗蚀剂组合物，即使在使用低pH的碱性水溶液进行显影的情况下，也能在抑制渣滓产生的同时，形成观察抗蚀剂图案的截面时具有抗蚀剂部的侧壁相对于基板为垂直或大致垂直的良好形状、且从基板的剥离容易的细微的抗蚀剂图案。具体实施方式＜＜正型光致抗蚀剂组合物＞＞正型光致抗蚀剂组合物(以下，也记作抗蚀剂组合物)是以下说明的第一正型光致抗蚀剂组合物、或第二正型光致抗蚀剂组合物。第一正型光致抗蚀剂组合物包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂。(A)线型酚醛树脂包含(A1)线型酚醛树脂。(A1)线型酚醛树脂包含来自苯酚的单元、且可溶于pH12以下的碱性水溶液。(A1)线型酚醛树脂的质量相对于(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％。并且，(B)感光剂为具有萘醌二叠氮基的化合物。第二正型光致抗蚀剂组合物包含具有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂。(A’)线型酚醛树脂是在(A)线型酚醛树脂所具有的酚羟基的一部分中，酚羟基中的氢原子被包含萘醌二叠氮基的基团取代的树脂。作为(A’)线型酚醛树脂的前体的(A)线型酚醛树脂包含(A1)线型酚醛树脂。(A1)线型酚醛树脂包含来自苯酚的单元、且可溶于pH12以下的碱性水溶液。(A1)线型酚醛树脂的质量相对于(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％。以下，依次对第一正型光致抗蚀剂组合物和第二正型光致抗蚀剂组合物进行说明。[第一正型光致抗蚀剂组合物]以下，关于第一正型光致抗蚀剂组合物，对必须或任意的成分、和正型光致抗蚀剂组合物的制备方法进行说明。＜(A)线型酚醛树脂＞(A)线型酚醛树脂(以下，也记作(A)成分)是碱可溶性线型酚醛树脂。(A)线型酚醛树脂必须含有包含来自苯酚的单元、且可溶于pH12的碱性水溶液的(A1)线型酚醛树脂。这里，线型酚醛树脂可溶于pH12的碱性水溶液是指，通过树脂浓度20质量％的线型酚醛树脂溶液(溶剂：丙二醇单甲基醚乙酸酯)在基板上形成膜厚1μm的树脂膜，将树脂膜在20～30℃的pH12的碱性水溶液中浸渍1分钟时，溶解0.1μm以上的情况。(A)线型酚醛树脂中的(A1)线型酚醛树脂的量超过50质量％。通过使(A)线型酚醛树脂包含该量的(A1)线型酚醛树脂，由此即使在使用例如pH12以下这样低pH的碱性显影液的情况下，也可使用第一抗蚀剂组合物，在抑制渣滓产生的同时，形成抗蚀剂部的侧壁相对于基板垂直或大致垂直的良好形状的细微的抗蚀剂图案。从容易形成形状更良好的抗蚀剂图案的角度出发，(A)线型酚醛树脂中的(A1)线型酚醛树脂的量优选为55～90质量％，更优选为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正型光致抗蚀剂组合物，其包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂，所述(A)线型酚醛树脂包含含有来自苯酚的单元且可溶于pH12的碱性水溶液的(A1)线型酚醛树脂，所述(A1)线型酚醛树脂的质量相对于所述(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％，所述(B)感光剂为具有萘醌二叠氮基的化合物。

【技术特征摘要】
2015.12.01 JP 2015-2350311.一种正型光致抗蚀剂组合物，其包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂，所述(A)线型酚醛树脂包含含有来自苯酚的单元且可溶于pH12的碱性水溶液的(A1)线型酚醛树脂，所述(A1)线型酚醛树脂的质量相对于所述(A)线型酚醛树脂的质量的比率超过50质量％，所述(B)感光剂为具有萘醌二叠氮基的化合物。2.根据权利要求1所述的正型光致抗蚀剂组合物，其中，所述(A)线型酚醛树脂还包含(A2)线型酚醛树脂，该(A2)线型酚醛树脂含有来自烃基苯酚的单元，并且在pH13的碱性水溶液中不溶、但在超过pH13的碱性水溶液中具有溶解性。3.根据权利要求1或2所述的正型光致抗蚀剂组合物，其中，所述(A1)线型酚醛树脂仅包含来自苯酚的单元。4.根据权利要求1～3中任一项所述的正型光致抗蚀剂组合物，其中，在所述(A)线型酚醛树脂所具有的酚羟基的一部分中，所述酚羟基中的氢原子被包含萘醌二叠氮基的基团取代。5.一种正型光致抗蚀剂组合物，其为包含具有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型光致抗蚀剂组合物，所述(A’)线型酚醛树脂是在(A)线型酚醛树脂所具有的酚羟基的一部分中，所述酚羟基中的氢原子被包含萘醌二叠氮基的基团取代的线型酚醛树脂，所述(A)线型酚醛树脂包含含有来...

【专利技术属性】
技术研发人员：增田靖男，黑岩靖司，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP