抗蚀剂组合物和干膜制造技术

本发明专利技术提供抗蚀剂组合物和干膜。提供能够形成耐氢氟酸性优异的抗蚀膜的抗蚀剂组合物和具有由该组合物得到的树脂层的干膜。一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其包含具有联苯结构的碱溶性树脂；以及，一种干膜，其具有由该组合物得到的树脂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抗蚀剂组合物和干膜，详细而言，涉及能够形成耐氢氟酸性优异的抗蚀膜的抗蚀剂组合物和具有由该组合物得到的树脂层的干膜。
技术介绍
玻璃制品的加工中，近年来，由于进一步要求微细加工、平滑。而且使用钻头的机械加工中玻璃容易产生裂纹，因此，利用玻璃蚀刻的加工变为主流。玻璃蚀刻为对电子材料、光学材料和测量仪器等的玻璃主体一直以来所应用的方法。作为玻璃蚀刻的方法，例如可以使用如下方法：在作为蚀刻对象的玻璃基板的表面涂布树脂组合物，使其热干燥或固化而形成抗蚀膜，然后将玻璃基板浸渍于氢氟酸系的蚀刻液，去除没有被抗蚀剂覆盖的部分从而在玻璃基板上形成期望的图案(例如专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2007-128052号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题氢氟酸系的蚀刻液的渗透性强，因此，如果不进行较厚地形成抗蚀膜等处理，则存在如下问题：蚀刻液渗透到玻璃基板与抗蚀剂之间，无法获得期望的图案。另外，较厚地形成抗蚀膜时，还存在如下问题：蚀刻后的抗蚀剂的剥离需要时间、显影型的抗蚀剂的情况下分辨率降低。因此，本专利技术的目的在于，提供能够形成耐氢氟酸性优异的抗蚀膜的抗
蚀剂组合物和具有由该组合物得到的树脂层的干膜。用于解决问题的方案本专利技术人等鉴于上述情况进行了深入研究，结果发现：通过在抗蚀剂组合物中配混具有特定结构的碱溶性树脂，可以解决上述课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的抗蚀剂组合物的特征在于，其包含具有联苯结构的碱溶性树脂。本专利技术的抗蚀剂组合物优选还包含具有双酚结构的碱溶性树脂。本专利技术的抗蚀剂组合物优选还含有光固化性成分。本专利技术的抗蚀剂组合物优选还含有偶联剂。本专利技术的干膜的特征在于，其具有将前述抗蚀剂组合物涂布于薄膜并干燥而得到的树脂层。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供能够形成耐氢氟酸性优异的抗蚀膜的抗蚀剂组合物和具有由该组合物得到的树脂层的干膜。具体实施方式本专利技术的抗蚀剂组合物的特征在于，其包含具有联苯结构的碱溶性树脂。由本专利技术的抗蚀剂组合物形成的抗蚀膜的耐氢氟酸性优异，因此在蚀刻处理中难以产生从玻璃基板的剥离。由此，可以以高精度对基板进行蚀刻处理。另外，由于可以在蚀刻工序中使用氢氟酸浓度高的蚀刻液，因此可以缩短蚀刻处理时间。由本专利技术的抗蚀剂组合物形成的抗蚀膜的耐氢氟酸性优异，因此即使不较厚地形成膜厚，也难以用蚀刻液进行剥离。本专利技术的抗蚀剂组合物可以为显影型也可以为热干燥型，但是从也可以不用较厚地形成抗蚀剂的膜厚的方面出发，显影型的情况下，可以形成分辨率优异的抗蚀膜。本专利技术的抗蚀剂组合物优选含有偶联剂，由此，与基板的密合性提高，可以形成耐氢氟酸性更优异的抗蚀膜。然而，即使不含有偶联剂，也可以形成优异的耐氢氟酸性的抗蚀膜，因此也可以不含有偶联剂。在不含有偶联剂的情况下，贮存稳定性也优异，因此，在常温下也可以以单组分的形式保存。含有偶联剂的情况下，优选分成双组分以上而保存。以下，对本专利技术的抗蚀剂组合物含有的成分进行详述。[碱溶性树脂]本专利技术的抗蚀剂组合物含有的碱溶性树脂具有联苯结构。作为碱溶性树脂，可以使用含羧基树脂、含酚系羟基树脂，优选含羧基树脂。本专利技术的固化性树脂组合物为显影型的情况下，碱溶性树脂优选具有烯属不饱和键。碱溶性树脂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。(含羧基树脂)作为前述含羧基树脂，例如可以举出：使含不饱和基团的单羧酸与联苯型环氧树脂等具有联苯结构的2官能或2官能以上的多官能环氧树脂反应、并使二元酸酐加成到存在于侧链的羟基上而得到的含羧基树脂；以及，在该树脂中进一步加成1分子内具有1个环氧基和1个以上(甲基)丙烯酰基的化合物而得到的具有羧基的(甲基)丙烯酸酯改性树脂，但不限定于此。作为前述具有联苯结构的2官能或2官能以上的多官能环氧树脂，例如可以举出下述通式(1)所示的联苯型环氧树脂。(式(1)中，n1表示平均值，为1.01～5。)作为前述含不饱和基团的单羧酸，例如可以举出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸的二聚体、β-苯乙烯基丙烯酸、β-糠基丙烯酸以及饱和二元酸酐或不饱和二元酸酐与1分子中具有1个羟基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的等摩尔反应物即半酯类、或饱和二元酸或不饱和二元酸与含不饱和基团的单缩水
甘油基化合物的等摩尔反应物即半酯类。需要说明的是，本说明书中，(甲基)丙烯酸酯是指统称丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和它们的混合物的用语，对于其他类似的表述也是同样的。作为前述二元酸酐，例如可以举出：邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3-甲基-四氢邻苯二甲酸酐、4-甲基-六氢邻苯二甲酸酐、内亚甲基-四氢邻苯二甲酸酐、甲基-内甲基-四氢邻苯二甲酸酐、琥珀酸酐、马来酸酐、偏苯三酸酐等羧酸酐。前述含羧基树脂的酸值为40～300mgKOH/g的范围是适当的，更优选为45～120mgKOH/g的范围。前述含羧基树脂的酸值在40mgKOH/g以上时，可以通过碱剥离液容易地去除，另一方面，在300mgKOH/g以下时，蚀刻的耐性提高。另外，前述含羧基树脂的重均分子量(Mw)根据树脂骨架而不同，一般来说，优选处于1000～150000、进一步优选处于5000～100000的范围。重均分子量(Mw)为1000以上时，耐蚀刻性提高。另一方面，重均分子量(Mw)为150000以下时，可以通过碱剥离液容易地去除。作为前述含羧基树脂的市售品，可以举出：日本化药株式会社制造的KAYARAD ZCR-1569H、ZCR-1601H、ZCR-1797H、ZCR-1798H(以上，为具有联苯结构的含羧基树脂)等。本专利技术的抗蚀剂组合物中，从剥离性的观点出发，优选组合使用具有双酚结构的碱溶性树脂。对于具有双酚结构的碱溶性树脂没有特别限定，例如可以举出：使含不饱和基团的单羧酸与双酚型环氧树脂等具有双酚结构的2官能或2官能以上的多官能环氧树脂反应、并使二元酸酐加成到存在于侧链的羟基而得到的含羧基树脂；以及，在该树脂中进一步加成1分子内具有1个环氧基和1个以上(甲基)丙烯酰基的化合物而得到的具有羧基的(甲基)丙烯酸酯改性树脂。另外，作为具有双酚结构的碱溶性树脂，还可以举出：在下述那样的具有羟基的2官能或2官能以上的多官能双酚型环氧树脂的羟基上用环氧氯丙
烷等加成环氧基后、使含不饱和基团的单羧酸和二元酸酐进一步反应而得到的含羧基树脂；以及，在该树脂中进一步加成1分子内具有1个环氧基和1个以上(甲基)丙烯酰基的化合物而得到的具有羧基的(甲基)丙烯酸酯改性树脂。作为前述具有羟基的2官能或2官能以上的多官能双酚型环氧树脂，例如可以举出：下述通式(2)所示的双酚F型环氧树脂和双酚A型环氧树脂。(式(2)中，X表示CH2或C(CH3)2，n为1～12。)组合使用具有双酚结构的碱溶性树脂时，将具有联苯结构的碱溶性树脂和具有双酚结构的碱溶性树脂的比例优选以90:10～20:80的比例、更优选以80:20～20:80的比例进行配混时，不会破坏耐蚀刻性，还可以改善剥离性。另外，含羧基树脂整体的含量相对于抗蚀剂组合物的固体成分，优选为80质量％以下、更优选为30～70质量％。碱溶性树脂的含量为80质量％以下时，粘度能够良好地稳定。需要说明的是，本申请说明书中，固体成分是指除了溶剂的成分。(含酚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其包含具有联苯结构的碱溶性树脂。

【技术特征摘要】
2015.03.04 JP 2015-0428121.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其包含具有联苯结构的碱溶性树脂。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，其还包含具有双酚结构的碱溶性树脂。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：西尾一则，宫泽俊春，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP