采用磁拖动结构实现的LDP Sn介质EUV光源系统技术方案

采用磁拖动结构实现的LDP Sn介质EUV光源系统，涉及极紫外光刻光源技术，目的是为了解决LDP EUV光源的Sn靶拖动装置无法确保Sn靶与外界处于真空隔离状态的问题。本发明专利技术中Sn靶的拖动装置采用磁拖动结构实现，磁拖动结构中的转动电机用于带动电磁铁旋转，电磁铁带动Sn靶旋转，Sn靶为圆形，并能够绕其轴线转动，支撑架为带有磁铁的圆形框架，Sn靶固定在支撑架上，支撑架位于LDP Sn介质EUV光源系统的真空放电室内部，转动电机和电磁铁位于LDP Sn介质EUV光源系统的真空放电室外部。本发明专利技术能够实现拖动结构、电源及Sn靶之间的真空隔离，结构简单、控制精度高，适用于LDP Sn介质EUV光源系统。

【技术实现步骤摘要】
201610452115

【技术保护点】
采用磁拖动结构实现的LDP Sn介质EUV光源系统，其特征在于，其中Sn靶的拖动装置采用磁拖动结构实现，所述磁拖动结构包括转动电机(1)、电磁铁(2)和支撑架(3)，所述LDP Sn介质EUV光源系统的Sn靶为圆形，并能够绕其轴线转动，支撑架(3)为圆形框架，所述圆形框架上设置有磁铁，所述Sn靶固定在支撑架(3)上，电磁铁(2)固定在转动电机(1)的转轴上，且电磁铁(2)的轴线与转动电机(1)的转轴线垂直，电磁铁(2)的轴线与支撑架(3)所在平面平行，支撑架(3)位于LDP Sn介质EUV光源系统的真空放电室内部，转动电机(1)和电磁铁(2)位于LDP Sn介质EUV光源系统的真空放电室外部。

【技术特征摘要】
1.采用磁拖动结构实现的LDP Sn介质EUV光源系统，其特征在于，其中Sn靶的拖动装置采用磁拖动结构实现，所述磁拖动结构包括转动电机(1)、电磁铁(2)和支撑架(3)，所述LDP Sn介质EUV光源系统的Sn靶为圆形，并能够绕其轴线转动，支撑架(3)为圆形框架，所述圆形框架上设置有磁铁，所述Sn靶固定在支撑架(3)上，电磁铁(2)固定在转动电机(1)的转轴上，且电磁铁(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵永蓬，徐强，王骐，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23