本发明提出一种用于在制造工厂内处理工件的方法，其包括：为制造工厂提供限定了工件处理流的工件处理站，其中，工件以工件批的形式处理；提供用于在工件处理流内的工件处理站之间运载一个或多个工件的运载器，该运载器具有预先确定的工件保持区域，每个工...

一种螺旋凸轮具有由内部腔和包括凸轮轮廓的外部表面所形成的管状部。线性滑动组件具有沿着旋转轴所定义的长度，限定成纵向滑动进入该螺旋凸轮的该内部腔。该线性滑动组件允许该螺旋凸轮沿着该旋转轴移动，且防止该螺旋凸轮相对于该线性滑动组件的旋转。凸...

一种基底处理设备包括框架、连接到框架上的第一SCARA臂，其包括构造成沿第一径向轴线延伸和收缩的末端执行器；连接到框架上的第二SCARA臂，其包括构造成沿第二径向轴线延伸和收缩的末端执行器，SCARA臂具有公共肩部旋转轴线；以及联接到S...

一种基板加工设备，包括：框架；第一臂，在肩轴线处联接到框架上并且具有串联并且可旋转地联接到彼此的第一上臂，第一前臂和至少一个基板保持器；第二臂，在肩轴线处联接到框架，其中所述臂的肩旋转轴线基本上重合，第二臂具有串联并且可旋转地联接到彼此...

一种机器人输送设备包括驱动系统，驱动系统包括至少一个谐波马达组件、联接到至少一个谐波马达组件上的至少一个驱动轴、安装到至少一个驱动轴上的至少一个机器人臂，其中机器人臂位于密封环境内，以及位于驱动系统的输出表面且形成大气隔层的至少一个大气...

一种装载端口具有端口门和带开口的框体，所述端口门通过所述开口与用于保持半导体工件的容器的容器门进行交接。在一个实施例中，活动的关闭机构连接到端口门并且限定成相对于端口门和框体两者能够以受控的方式活动。在此实施例中，静止的关闭机构设置在框...

一种衬底处理系统，其包括：壳体，用于安置处理装置的至少一部分；固定到所述处理装置上的至少一个目标，所述处理装置具有与所述至少一个目标有已知关系的第一处理装置参考点；至少一个发射器，其位于所述壳体内并且被配置成向所述至少一个目标传送标识所...

本发明公开了超低温闭环再循环气体冷却系统，特别是一种超低温度、双压缩机(114，144)、再循环的气体冷却系统，其包括与闭环气体次级制冷回路(112)相结合的闭环混合制冷剂初次级制冷系统(110)。所公开的超低温度、双压缩机(114，1...

一种用于基片传送臂的驱动部分，包括框架，在框架内安装的至少一个定子，该定子包括第一电机部分和至少一个定子轴承部分，和，基本无接触地由该至少一个定子轴承部分以磁力方式支撑的共轴转轴，其中共轴转轴的每一个驱动轴包括转子，该转子包括第二电机部...

基片对齐器提供了最小的基片运输器延伸和收回运动以快速地对齐基片而不损坏背侧，同时增加了基片处理的生产能力。在一个实施例中，对齐器具有连接到框架的倒转卡盘，带有能将基片从卡盘传递到运输器的基片传递系统而不旋转地再定位基片。倒转卡盘消除了对...

基片装载设备具有框架、盒支撑件和用户接口。框架连接到基片 处理装备。框架具有传送开口，基片通过该传送开口在设备和处理装备 之间传送。盒支撑件连接到框架以保持至少一个基片保持盒。用户接口 设置为用于输入信息，并且安装到框架，使得用户接口与...

对基片载物台加压的方法包含对一种腔室加压以及通过从腔室向载物台释放气体在载物台内维持一种压力的方法。这种腔室与载物台以及／或者载物台内的基片晶舟是一个单位构造。

依照本发明的实施方案中的一种半导体工件加工系统具有至少一件用于加工半导体工件的加工工具，一种用于承载至少一件加工工具的容器，容器中的半导体工件可以在至少一种加工工具之间往返传送，以及一种延长的初级传送单元，该单元界定了运动方向。此初级传...

一种半导体工件加工系统，该系统具有至少一种加工工件的制造装置，一种一级传送系统，一种次级传送系统以及一个或多个一级与次级传送系统之间的接口。主级与次级传送系统均具有一个或多个基本的常速传送单元以及与常速部分通信的排队部件。

一种基片运输装置，包括：具有内表面的外周壁，限定了能够保持隔离环境的基片运输室；至少一个大致环形的电动机，具有至少一个定子模块和至少一个转子，该定子模块位于外周壁中，位于外周壁的内表面和邻近的外表面之间，该转子大致不接触地悬挂在运输室内...

一种装置，所述装置包括控制器、与控制器相连并具有可运动部分或运送路径的工件运送工具以及包括至少一个附接到可运动部分的场生成压板和至少一个沿运送路径定位并与控制器相连的传感器组的多维位置测量设备，场生成压板被配置成用于位置测量和推动可运动...

一种电机换向方法，该方法包括计算调节电角度，并在常用换向方程组中利用调节电角度，以使该常用换向方程组能够在电机中产生一维和二维力。

一种电机换向方法包括工作中对接电机的受激励部件和定子；相对于受激励部件布置至少两个绕组组；及独立控制该至少两个绕组组，从而使用该至少两个绕组组来驱动和定心该受激励部件。

一种电机包括定子以及被配备为在至少第一方向上相对于所述定子可活动的转子，所述转子在操作中与所述定子对接以使得在第一方向上生成电动力。所述定子包括被配置成在至少第一方向和与所述第一方向成角度的第二方向上在所述转子上生成抗齿槽力的抗齿槽元件。

一种感测机构包括：磁源、磁通传感器、以及上面安装有磁源和磁通传感器的传感器背衬、以及铁磁性目标，其中所述磁源、磁通传感器及铁磁性目标被定位为生成磁路，该磁路从磁源到该目标，再从该目标到传感器，并且穿过传感器背衬回到磁源。