通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片制造技术

一种通过带为7600?9900nm的红外测温滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是：所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有：142nm厚度的Ge层、250nm厚度的ZnS层、175nm厚度的Ge层、223nm厚度的ZnS层、91nm厚度的Ge层、220nm厚度的ZnS层、119nm厚度的Ge层、341nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、275nm厚度的ZnS层、188nm厚度的Ge层、344nm厚度的ZnS层、162nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、199nm厚度的Ge层、314nm厚度的ZnS层、163nm厚度的Ge层、288nm厚度的ZnS层、282nm厚度的Ge层、335nm厚度的ZnS层、369nm厚度的Ge层、243nm厚度的ZnS层、285nm厚度的Ge层、354nm厚度的ZnS层、323nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、359nm厚度的Ge层、363nm厚度的ZnS层、161nm厚度的Ge层、693nm厚度的ZnS层、169nm厚度的Ge层、656nm厚度的ZnS层、283nm厚度的Ge层、685nm厚度的ZnS层、299nm厚度的Ge层、669nm厚度的ZnS层、317nm厚度的Ge层、602nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、783nm厚度的ZnS层、178nm厚度的Ge层、739nm厚度的ZnS层、464nm厚度的Ge层和1078nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有：178nm厚度的Ge层、1686nm厚度的ZnS层、981nm厚度的Ge层、283nm厚度的ZnS层、693nm厚度的Ge层、1795nm厚度的ZnS层、613nm厚度的Ge层、631nm厚度的ZnS层、1149nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、760nm厚度的Ge层、304nm厚度的ZnS层、1225nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、684nm厚度的Ge层、1786nm厚度的ZnS层、656nm厚度的Ge层、337nm厚度的ZnS层、922nm厚度的Ge层和720nm厚度的ZnS层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术所设计的一种测试精度高、能极大提高信噪比的通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，该通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片，其在温度测量过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度。该滤光片50%Cut?on＝7.6±0.05um，50%Cut?off＝9.9±0.05um；1500～7100nm、10300～12000nm?T≤3%；8000～9500nm?T≥88%；7700～9700nm?Tavg≥90%。【专利说明】通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片
本技术涉及红外滤光片领域，尤其是一种通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片。
技术介绍
红外测温仪由光学系统、探测器、信号放大器及信号处理、显示输出等部分组成。光学系统汇聚其视场内的目标红外能量(热量)，视场的大小由测温仪的光学零件及其位置确定。红外能量聚焦在探测器上并转变为相应的电信号。该信号经过放大器和信号处理电路，并按照仪器内的算法和目标发射率校正后转变为被测目标的温度值。红外测温仪的探测器是实现红外能量(热能)转换电信号的关键，由于各种生物所发出来的红外能量(热量)是不同的，所以在日常使用中为了观察某种特定生物的温度值，人们往往会在探测器中添加红外滤光片，通过红外滤光片可以使探测器只接受特定波段的红外能量，保证红外测温仪的测温结果，用于测温和成像。但是，目前的通过带为7600_9900nm的红外测温滤光片，其信噪比低，精度差，不能满足市场发展的需要。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种测试精度高、能极大提高信噪比的通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片。为了达到上述目的，本技术所设计的通过带为7600_9900nm的红外测温滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:142nm厚度的Ge层、250nm厚度的ZnS层、175nm厚度的Ge层、223nm厚度的ZnS层、91nm厚度的Ge层、220nm厚度的ZnS层、119nm厚度的Ge层、341nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、275nm厚度的ZnS层、188nm厚度的Ge层、344nm厚度的ZnS层、162nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、199nm厚度的Ge层、314nm厚度的ZnS层、163nm厚度的Ge层、288nm厚度的ZnS层、282nm厚度的Ge层、335nm厚度的ZnS层、369nm厚度的Ge层、243nm厚度的ZnS层、285nm厚度的Ge层、354nm厚度的ZnS层、323nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、359nm厚度的Ge层、363nm厚度的ZnS层、16 Inm厚度的Ge层、693nm厚度的ZnS层、169nm厚度的Ge层、656nm厚度的ZnS层、283nm厚度的Ge层、685nm厚度的ZnS层、299nm厚度的Ge层、669nm厚度的ZnS层、317nm厚度的Ge层、602nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、783nm厚度的ZnS层、178nm厚度的Ge层、739nm厚度的ZnS层、464nm厚度的Ge层和1078nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:178nm厚度的Ge层、1686nm厚度的ZnS层、98 Inm厚度的Ge层、283nm厚度的ZnS层、693nm厚度的Ge层、1795nm厚度的ZnS层、613nm厚度的Ge层、631nm厚度的ZnS层、1149nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、760nm厚度的Ge层、304nm厚度的ZnS层、1225nm厚度的Ge层、59 Inm厚度的ZnS层、684nm厚度的Ge层、1786nm厚度的ZnS层、656nm厚度的Ge层、337nm厚度的ZnS层、922nm厚度的Ge层和720nm厚度的ZnS层。上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在IOnm左右。本技术所得到的通过带为7600_9900nm的红外测温滤光片，其在温度测量过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度。该滤光片50%Cut on = 7.6±0.05um, 50%Cutoff = 9.9±0.05um ；1500 ~7100nm、10300 ~12000nm T ≤ 3% ；8000 ~9500nm T ≥ 88% ；7700 ~9700nm Tavg ≥ 90%。【专利附图】【附图说明】图1是实施例整体结构示意图；图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。【具体实施方式】下面通过实施例结合附图对本技术作进一步的描述。实施例1:如图1、图2所示，本实施例描述的通过带为7600-9900nm的红外测温滤光片，包括以Ge为原材料的基板2，以Ge、ZnS为第一镀膜层I和以Ge、ZnS为第二镀膜层3，且所述基板2位于第一镀膜层I和第二镀膜层3之间，所述第一镀膜层I由内向外依次排列包含有:142nm厚度的Ge层、250nm厚度的ZnS层、175nm厚度的Ge层、223nm厚度的ZnS层、9Inm厚度的Ge层、220nm厚度的ZnS层、119nm厚度的Ge层、341nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、275nm厚度的ZnS层、188nm厚度的Ge层、344nm厚度的ZnS层、162nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、199nm厚度的Ge层、314nm厚度的ZnS层、163nm厚度的Ge层、288nm厚度的ZnS层、282nm厚度的Ge层、335nm厚度的ZnS层、369nm厚度的Ge层、243nm厚度的ZnS层、285nm厚度的Ge层、354nm厚度的ZnS层、323nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、359nm厚度的Ge层、363nm厚度的ZnS层、16 Inm厚度的Ge层、693nm厚度的ZnS层、169nm厚度的Ge层、656nm厚度的ZnS层、283nm厚度的Ge层、685nm厚度的ZnS层、299nm厚度的Ge层、669nm厚度的ZnS层、317nm厚度的Ge层、602nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、783nm厚度的ZnS层、178nm厚度的Ge层、739nm厚度的ZnS层、464nm厚度的Ge层和1078nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层3由内向外依次排列包含有:178nm厚度的Ge层、1686nm厚度的ZnS层、98 Inm厚度的Ge层、283nm厚度的ZnS层、693nm厚度的Ge层、1795nm厚度的ZnS层、613nm厚度的Ge层、631nm厚度的ZnS层、1149nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、760nm厚度的Ge层、304nm厚度的ZnS层、1225nm厚度的Ge层、59 Inm厚度的ZnS层、684nm厚度的Ge层、1786nm厚度的ZnS层、656nm厚度的Ge层、337nm厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过带为7600?9900nm的红外测温滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是：所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有：142nm厚度的Ge层、250nm厚度的ZnS层、175nm厚度的Ge层、223nm厚度的ZnS层、91nm厚度的Ge层、220nm厚度的ZnS层、119nm厚度的Ge层、341nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、275nm厚度的ZnS层、188nm厚度的Ge层、344nm厚度的ZnS层、162nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、199nm厚度的Ge层、314nm厚度的ZnS层、163nm厚度的Ge层、288nm厚度的ZnS层、282nm厚度的Ge层、335nm厚度的ZnS层、369nm厚度的Ge层、243nm厚度的ZnS层、285nm厚度的Ge层、354nm厚度的ZnS层、323nm厚度的Ge层、312nm厚度的ZnS层、359nm厚度的Ge层、363nm厚度的ZnS层、161nm厚度的Ge层、693nm厚度的ZnS层、169nm厚度的Ge层、656nm厚度的ZnS层、283nm厚度的Ge层、685nm厚度的ZnS层、299nm厚度的Ge层、669nm厚度的ZnS层、317nm厚度的Ge层、602nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、783nm厚度的ZnS层、178nm厚度的Ge层、739nm厚度的ZnS层、464nm厚度的Ge层和1078nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有：178nm厚度的Ge层、1686nm厚度的ZnS层、981nm厚度的Ge层、283nm厚度的ZnS层、693nm厚度的Ge层、1795nm厚度的ZnS层、613nm厚度的Ge层、631nm厚度的ZnS层、1149nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、760nm厚度的Ge层、304nm厚度的ZnS层、1225nm厚度的Ge层、591nm厚度的ZnS层、684nm厚度的Ge层、1786nm厚度的ZnS层、656nm厚度的Ge层、337nm厚度的ZnS层、922nm厚度的Ge层和720nm厚度的ZnS层。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王继平，吕晶，刘晶，
申请(专利权)人：杭州麦乐克电子科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：