层状制品及其制造方法技术

一种层状制品，它包括用整平基片表面凹凸不平处而使基片形成平滑、高光泽和耐温表面的修饰薄层涂敷基片。被施加到由修饰薄层形成的表面上的是一层不透气的隔离层。通过将修饰薄层施加到基片上，由此在施加隔离层期间使表面能减小，以致在基片与隔离层之间获得良好的粘合。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种贴覆于基片上的层状制品，它的一个表面上装有抗气体渗透的隔离层。此外，本专利技术还涉及制造抗气体渗透的层状制品的方法，该层状制品具有贴覆于基片的至少一个表面上的隔离层。在包装领域中，此种层状制品被用来制造具有较高抗气体渗透的袋。然而，为满足袋的较高标准的气密性要求，必须采取特别高的成本密集的措施。这样的措施包括，例如，形成具有至少为两片相互紧密合在一起的复合材料。这些复合材料是非常昂贵的，并且实际上也不适合于包装要求，因为它们比较厚而且柔软性很差。通过涂敷聚二氯乙烯（PVDC）薄膜，可制得其他的气密性层状制品。然而，这类层状制品虽具有较高的不渗透氧和水蒸汽性，但使用PVDC是有害于环境的。由于这些理由，具有例如金属那样的气密性涂层的层状制品已获得广泛的使用。通常，这种金属薄膜是，例如，通过蒸发而沉积于基片上的，并显示出高的抗气体渗透性。此种基于在基片上涂覆金属薄膜的层状制品，其隔离能力明显地高于没有涂层的基片。然而，实践表明，在这样涂敷过的层状制品的整个表面上，其隔离性能是有明显变化的。虽然，上金的层状制品与没有涂层的基片相比，通常其隔离性能有很大的提高，但是层状制品整个表面上隔离性能的-->变化也造成了不少问题。研究表明，隔离性能差的层状制品的表面特征是，对所接触的原子和分子的吸附作用特别差。金属蒸汽在这些表面上冷凝引起特别高的表面能，这种高的表面能不可能被降低，并且对金属薄膜在基片上的粘结起不利的作用。由于用于上金的基片之表面，对贴附金属薄膜来说，是不能预料的底面，因此所施加的金属蒸汽的表面能是不能被饱和的。于是，这样的底面从其一处到另一处可能具有非常不同的表面能饱和状态。表面的某些处可能具有特别高的糙度，一旦通过蒸发而将金属薄膜沉积于基片上时，所说的糙度作为金属薄膜的远离基面表面上的凹凸不平处是明显可见的。因此，金属膜的隔离性能将随凹凸不平处的不同而变化，以致气体分子可以从金属薄膜最薄的地方通过。此外，研究还表明，基片的表面就基片材料的化学饱和度而言是具有不同的状态的。在表面的某些地方饱和度有明显的提高，而在其他地方仍然是基本上为不饱和的粘合。根据饱和度的不同，可以使被涂敷的金属薄膜在基片表面上得到或好或差的粘合。在金属蒸发而沉积于表面上的过程中，所出现的表面张力降低也是随各别表面区中材料饱和度的不同而变化的。本专利技术的目的是提供一种消除上述缺陷和改进的层状制品。本专利技术的目的特别是提供一种改进的层状制品，它能在整个表面使隔离层和基片之间具有均匀而牢固的粘合。本专利技术的另一目的是提供一种改进的方法，以便在隔离层和基片之间达到牢固的粘合。本专利技术的又一目的是提供一种改进的用于制造其特征为具有优良的抗气体渗透性、特别是抗氧和水蒸汽渗透的层状制品的方-->法。通过在将隔离层沉积于基片上之前，在隔离层和与其相对的基片表面之间施加一修饰薄层可以达到本专利技术的这些目的和下文中的其他目的。通过涂敷修饰薄层，基片的表面变成足够的光滑而使在基片上可沉积厚度均匀的隔离层。特别是，在隔离层的在汽相沉积过程中，提供修饰薄层通过基片的光滑表面可以达到表面能的饱和。修饰薄层的原子和分子被与其接触的隔离层材料所吸附。此外，基片的整个表面特征是，均匀良好的隔离层粘合状态，以致由于构成基片的化学组成的不同饱和度所造成的不同的吸附作用被消除。还有，修饰薄层使状制品具有很高的温度稳定性，因为修饰薄层的高光泽表面使隔离层避免受到不能允许的高热，而这种高热会破坏隔离层的抗气体渗透性。因此，按照本专利技术沉积修饰薄层可以使隔离层持久、均匀地粘合在基片上。按照本专利技术的另一种实施方式，修饰薄层是由与隔离层材料密切相关的材料制成的，从而能实现类似材料的粘合和选择降低能量的最佳条件。修饰薄层最好是一层以很薄形式涂敷在基片上的底层涂料，以形成非常光滑和平坦的表面。底层涂料被填充于基片上微观的凹凸不平处而形成高光泽表面，由此可补偿冷凝蒸汽的表面张力。这引起隔离层被牢牢地粘在修饰薄层上，而修饰薄层是掩盖在基片上的，由此使隔离层被均匀地粘合在整个基片上。被涂敷的底层涂料之厚度以0.2至0.6g/m2干重量为宜，而这种干组分是以有机溶液形式被涂敷在基面表面上的。-->合适的底层涂料可由氯化聚丙烯制成，它作为薄膜而修饰于基片上。在涂敷这种清漆型的氯化聚丙烯后，可立即将隔离层，例如，金属薄片以其蒸汽形式沉积于干的氯化聚丙烯清漆薄膜上，从而降低自由表面的能含量，以致使金属片与聚丙烯修饰薄膜形成牢固的粘合。然而，底层涂料也可由树脂制成，树脂可以应用天然树脂或合成树脂。树脂形成高光泽薄膜，其厚度最好在0.2至0.6g/m2干重量之间。这种树脂还可以作为与有机溶剂一起的清漆来施用。修饰薄层也可以由溶解于有机溶剂中的硅烷构成。当应用金属基的隔离层时，使用金属硅烷作修饰薄层是合宜的。按照本专利技术的其他特征，在隔离层的远离基片的表面上可以涂敷防止机械损伤的涂层，此涂层可以使隔离层，例如当层状制品被缠绕在辊或转鼓上时，避免受到邻近缠绕层的直接作用，而在转动期间这种作用会对隔离层造成机械破环，从而危及隔离层的密封性能。对隔离层还可涂以滑爽剂，使邻近的缠绕层能在隔离层上滑动而不损伤隔离层，也是合适的做法。此外，隔离层还可带有树脂或蜡涂层，以避免缠绕层与隔离层的直接接触。合适的隔离层呆以是金属薄膜也可以是氧化硅薄膜。在这两种情况中，通过蒸发沉积的隔离层具有抗气体渗透性，它使整个层状制品密封，从而防止氧气透过。此外，这种密封的层状制品能阻止水蒸汽和二氧化碳透过。作为包装件的内容物例子的所有芳香族化合物，可被防止从包装件中逸出。修饰薄层浸透金属薄膜表面，并产生对微孔的完全阻塞作用。提供修饰薄层避免金属薄膜受到损伤，例如，在缠绕于辊上的过程中所受到的机械应力损伤。此外，-->修饰薄膜增进层状制品的压印性能。按照本专利技术的另一种实施方式，基片可以是聚烯烃薄膜，例如，聚乙烯薄膜。这种类型的基片具有修饰薄膜，其上有隔离层，并随后涂敷避免隔离层受到机械损伤的涂层，此种类型的基片可以单层形式使用而不需结合第二隔离层。因此，从比较便宜的薄膜制造高度抗气体渗透的层状制品是可能的，这种层状制品特别适用于包装。此外，它是耐表面机械应力，例如，机械刮伤的，并且耐温度，因为修饰薄层防止隔离层受到温度冲击。按照本专利技术的其他特征，隔离层的保护层被涂以保护漆，它保护该层免受温度影响，并促使整个层状制品具有可焊性。保护漆是可焊的，并使它所附着的涂层能经受焊接操作过程中所遇到的高温。如上所述，在基片的表面涂敷面对隔离层的修饰薄层能使表面张力减至最小，特别是在当通过蒸发作用作用沉积隔离层时。此表面张力在基片的整个表面上妨碍与隔离层之间的牢固粘合。通过使表面张力减至最小可以实现隔离层与基片的牢固粘合。与常规的未涂敷修饰薄层的基片相比较，粘合效果提高大约10%。通过吸附所接触的原子和分子使表面能减小，从而为隔离层在基片表面上的均匀和牢固的粘合创造的条件。最好对着基片给修饰薄层加压，以便在基片上获得非常均匀厚度的薄层。合适的是，修饰薄层是以溶剂形式沉积在基片表面上的。使用高光泽表面的转鼓还能提供具有高光泽和均匀流延的薄膜形式的基片。在沉积隔离层时，这种薄膜特别适用于抵偿表面能。此外，这种薄膜使隔离层能耐大约140℃本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层状制品，它包括：－一具有表面的基片；－一层不透气的隔离层；和－一层位于所说的基片表面和所说的隔离层之间的、被用来降低在基片上沉积所说的隔离层的过程中的表面能的修饰薄层。

【技术特征摘要】
DE 1993-5-14 P94316251.71、一处层状制品，它包括：-一具有表面的基片；-一层不透气的隔离层；和-一层位于所说的基片表面和所说的隔离层之间的、被用来降低在基片上沉积所说的隔离层的过程中的表面能的修饰薄层。2、按照权利要求1的层状制品，还包括一层被施加在所说的隔离层的远离基片的表面上的、被用来防止机械损伤的保护涂层。3、按照权利要求2的层状制品，其中所说的保护涂层是由一种选自有机材料、滑爽剂、树脂、合成树脂、蜡、合成蜡、无机材料和二氧化硅中的材料制成的。4、按照权利要求2的层状制品，其中所说的保护涂层具有一远离隔离层的表面，并且还包括涂敷在所说的保护层的所说的表面上的保护漆。5、按照权利要求4的层状制品，其中所说的保护漆包括溶剂。6、按照权利要求5的层状制品，其中所说的溶剂为水基溶剂。7、按照权利要求4的层状制品，其中所说的保护漆是含颜料的保护漆。8、按照权利要求4的层状制品，其中所说的保护漆是透明的保护漆。9、按照权利要求4的层状制品，其中所说的保护漆是含颜料和透明的保护漆。10、按照权利要求4的层状制品，其中所说的保护漆是可焊接的保护漆。11、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层是一层平整所说的基片表面的涂层。12、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层具有一远离基片的高光泽表面。13、按照权利要求11的层状制品，其中所说的修饰薄膜是平整涂层，它与被选作隔离层的材料在化学上是相关的。14、按照权利要求11的层状制品，其中平整涂层形式的所说的修饰薄层是一层非常薄的底层涂料。15、按照权利要求14的层状制品，其中所说的底层涂料厚度为0.2～0.6g/m2干重量。16、按照权利要求14的层状制品，其中所说的底层涂料是由氯化聚丙烯制成的。17、按照权利要求14的层状制品，其中所说的底层涂料是由树脂制成的。18、按照权利要求17的层状制品，其中所说的树脂的涂敷厚度为0.2～0.6g/m2干重量。19、按照权利要求17的层状制品，其中所说的树脂是作为与有机溶剂一起的清漆提供的。20、按照权利要求19的层状制品，其中所说的清漆是通过蒸发而沉积在基片上的。21、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层是由一种选自硅烷、金属硅烷、至少两种硅烷的混合物、以及有机与无机试剂的混合物的材料制成的。22、按照权利要求21的层状制品，其中所说的金属硅烷是一种被选择作为通过蒸发工艺而沉积在修饰薄层上的所说的隔离层的金属的硅烷。23、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层具有高度的耐擦刮性。24、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层具有足以填平所说的基片表面的微细凹凸不平处的稠度。25、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层作为底层涂层促进所说的基片表面与所说的隔离层之间的粘合。26、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层是一层能减小在通过蒸发工艺而将所说的隔离层沉积在基片上时所产生的表面张力的涂层。27、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层具有耐高温性。28、按照权利要求27的层状制品，其中所说的修饰薄层能耐直至为140℃的温度。29、按照权利要求27的层状制品，其中所说的修饰薄层在温度高达140℃下保持高光泽表面。30、按照权利要求1的层状制品，其中所说的修饰薄层具有补偿所说的基片表面的粘合性能的稠度。31、按照权利要求1的层状制品，其中所说的基片是由聚烯烃制成的。32、按照权利要求31的层状制品，其中所说的基片是由聚乙烯制成的。33、按照权利要求32的层状制品，其中所说的聚乙烯基片是单层片材。34、按照权利要求33的层状制品，其中所说的修饰薄层被施加在所说的聚乙烯基片上，以平整表面上存在的凹凸不平处，并提供高光泽表面。35、按照权利要求34的层状制品，其中被施加到高光泽表面的所说的隔离层是完全齐平的和厚度均匀的。36、按照权利要求33的层状制品，其中所说的修饰薄层填充所说的聚乙烯基基片表面上的微细缝隙。37、按照权利要求36的层状制品，其中施加所说的修饰薄层的所说的聚乙烯基基片的表面具有高的表面密度。38、按照权利要求33的层状制品，其中施加所说的修饰薄层的所说的聚乙烯基片的表面是微细封闭的。39、按照权利要求33的层状制品，其中施加所说的修饰薄层的所说的聚乙烯基基片的表面具有高的抗拉性。40、按照权利要求33的层状制品，其中所说的修饰薄层在沉积所说的隔离层时具有减小的表面张力的表面。41、按照权利要求33的层状制品，其中所说的修饰薄层具有与被施加在其上的隔离层牢固粘合的表面。42...

【专利技术属性】
技术研发人员：海尔曼尤斯斯奇墨科，
申请(专利权)人：海尔曼尤斯斯奇墨科，
类型：发明
国别省市：DE[德国]