【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及工业硅提纯领域,具体涉及。
技术介绍
硅材料按纯度可分为冶金级硅(MG-Si)、超级冶金级硅(UMG-Si)、太阳能级硅(SG-Si )和电子级硅(EG-Si )。由于西门子法太阳能多晶硅生产过程存在能耗高、成本高和污染严重等问题,冶金法制备工业硅技术成为关注的焦点。冶金法是在不改变主体硅性质的前提下,通过定向凝固、气化一造渣精炼、真空冶炼、高能束(电子、离子)法、酸洗、粉末冶金、合金熔析精炼等一系列组合方法脱除工业硅中的杂质,是一种对杂质操作的逐级净化工艺,整个过程目标产物硅都处于凝聚态。太阳能级多晶硅的制备核心是对杂质的控制,从工业硅到高纯多晶硅,杂质的含量经历了逐级递减的过程。硅中杂质有些是以熔融态进入硅中,有些是以不溶性夹杂物进入硅中。大多数金属杂质在硅中以点缺陷(间隙或取代)或晶界内沉淀化合物存在,硅料表面暴露的杂质少,因此杂质的存在形式与位置不利于后期脱除。例如,受限于处于晶格或间隙位置的非金属杂质硼、磷以及微量固溶类金属杂质的赋存形态,极大的束缚了湿法冶金深度除杂的能力。杂质的赋存形式与位置决定了其提纯过程难以向界面迁移,因此有必要通过添加剂对杂质进行化学重构,以强化杂质向界面迁移,进而提高其分离效率。通过化学反应改变杂质存在的形式,加大硅与杂质的性质差异,从而增强其物理分离特性是冶金法研发的热点。金属硅晶界处的硅化物合金量较少且难以与酸作用,而使用少量金属添加剂可以控制硅化物相的生成,通过构造大量易与酸作用的特殊类型杂质相,这些杂质相可以包裹其他难溶杂质相,从而使主要杂质整体脱除。利用金属(T1、Ca、Zr、V等) ...
【技术保护点】
一种强化工业硅湿法化学除杂的方法,其特征是:包括以下步骤:(1)工业硅破碎为粒度小于500微米颗粒,用去离子水清洗1~5次,烘干;(2)将步骤(1)得到的工业硅粉与金属钙基合金混合加热,直至完全熔化为液体,将液相熔融物冷却,使硅重结晶析出,经过破碎、酸洗、漂洗和烘干,得到重结晶硅。其中金属钙基合金与硅粉的重量比为1:10~1:100,加热熔化温度为1400~1500℃,冷却速率为1~10℃/min,酸浓度为0.1~100wt%,硅与酸的重量比为1:0.1~1:200,酸洗温度为10~100℃,酸洗时间为0.5~50小时;(3)将步骤(2)得到的重结晶硅重新熔化,快速铸锭,破碎酸洗,得到杂质浓度低的高纯硅。
【技术特征摘要】
1.一种强化工业硅湿法化学除杂的方法,其特征是:包括以下步骤: (1)工业硅破碎为粒度小于500微米颗粒,用去离子水清洗I~5次,烘干; (2)将步骤(1)得到的工业硅粉与金属钙基合金混合加热,直至完全熔化为液体,将液相熔融物冷却,使硅重结晶析出,经过破碎、酸洗、漂洗和烘干,得到重结晶硅。其中金属钙基合金与硅粉的重量比为1:10~1:100,加热熔化温度为1400~1500°C,冷却速率为I~IO0C /min,酸浓度为0.1~100wt%,硅与酸的重量比为1:0.1~1:200,酸洗温度为10~100°C,酸洗时间为 0.5~50小时; (3)将步骤(2)得到的重结晶硅重新熔化,快速铸锭,破碎酸洗,得到杂质浓度低的高纯硅。2.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:王志,胡磊,
申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
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