基板浮起装置以及基板浮起量测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板浮起装置和基板浮起量测量方法，能够将基板的浮起量始终准确地计算和控制。基板浮起装置（1）使基板浮起，该装置包括浮起单元（2）和解析装置（21），该浮起单元包括与浮起的基板（W）背面相对而置的对向面（14），且将基板浮起至对向面上方，该解析装置计算从该对向面浮起的基板的浮起量；其中，在该对向面下方进一步设置有向输送浮起单元上浮起的基板发射光的光反射型高度测量器（12），所述浮起单元包括贯通孔（15）和板体状基准板（13），该贯通孔使从高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到高度测量器的光通过，该基准板设置在通过该贯通孔从高度测量器向基板发射的光的路径上且反射和透射一部分光。

【技术实现步骤摘要】
基板浮起装置以及基板浮起量测量方法
本专利技术涉及对基板浮起量进行控制的同时使基板浮起的基板浮起装置以及基板浮起量测量方法。
技术介绍
在液晶显示器或等离子体显示器等平板显示器上使用着在基板上涂布有抗蚀剂液的基板（称之为涂布基板）。该涂布基板通过在基板上均匀地涂布抗蚀剂液或药液等涂布液的涂布装置形成。图5表示涂布装置的概略图。涂布装置80包括：涂布部81，其对基板涂布涂布液；基板浮起装置82，其使基板W浮起；输送装置83，其将基板W向一个方向输送。涂布部81具有狭缝，所述狭缝的延伸方向垂直于输送装置83输送基板W的方向，基板浮起装置82将基板W浮起的状态下输送装置83把持基板W端部，并将基板W以规定速度输送的同时从狭缝排出涂布液，由此在基板W上形成涂布膜。如此，通过涂布装置80将基板W浮起而在涂布装置80和基板W未接触的状态下进行涂布，由此与通过吸附平台等来把持基板W的同时进行涂布的情况相比，在涂布过程中能够防止异物附着于基板W上。图6表示涂布装置80向基板W涂布涂布液的例子。如上所述，在基板浮起装置82将基板W浮起的状态下从涂布部81的狭缝排出涂布液，同时将基板W向水平方向输送，由此在基板W上形成涂布膜。图6中在作为涂布部81前端部的涂布部前端84上设置有狭缝，通过从该狭缝排出涂布液来在基板W上形成涂布膜M。在此，在对涂布膜M的膜厚进行均匀涂布时，需要将涂布部前端84和基板W之间的距离h1维持在特定值。为此采用以下方法：由于需要将从基板浮起装置82的基板W的浮起量h2维持在特定值，因此在涂布动作中不断地测量浮起量，然后根据该测量值按照能够将浮起量h2维持在特定值的方式进行控制。图7表示基板浮起装置82的现有的基板浮起量控制方法。如图7的（a）所示，为了控制基板W的浮起量h2，在基板浮起装置82下方设置有激光长度测量器等高度测量器91。并且，首先高度测量器91接收从高度测量器91发射的光通过设置在基板浮起装置82主体的贯通孔92后从基板W反射的光。然后，控制装置93根据该受光信息计算高度测量器91和基板W之间的距离h3。对此，控制装置93预先计算从高度测量器91到基板浮起装置82表面的距离h4，然后从距离h3减去距离h4，由此求出基板W的浮起量h2。然后，按照该值保持在特定值的方式，控制装置93调节基板浮起装置82将基板W浮起的力。在此，距离h4的测量如下：在涂布动作开始前等基板浮起装置82的浮起动作处于停止的状态下，如图7的（b）所示，按照堵住贯通孔92的方式载置金属板、玻璃板等反射板94。这样，反射板94的下表面与基板浮起装置82的表呈同一面，因此控制装置93根据高度测量器91所接收的从反射板94的下表面反射的光的信息计算距离h4。
技术实现思路
但是，在上述的基板浮起量控制方法中，存在所谓无法准确地控制浮起量的担心的问题。具体而言，随着涂布装置80的持续使用，涂布装置80的各构成仪器的周围环境温度发生变化而构成仪器发生膨胀或者收缩，因此存在以下担心，即，涂布动作时的从高度测量器91到基板浮起装置82表面的距离与将反射板94载置后测量距离h4时的从高度测量器91到基板浮起装置82表面的距离不同。这时候，从进行涂布动作时测量的距离h3减去利用反射板94预先测量的距离h4的值与实际求出的浮起量h2不同，因此不能准确地控制浮起量h2。另外，载置反射板94时异物等塞进反射板94和基板浮起装置82表面之间时，由于所测量的距离h4与从高度测量器91到基板浮起装置82表面的实际距离不同，因此也不能准确地控制浮起量h2。本专利技术是鉴于上述问题做出的专利技术，其目的在于提供一种基板浮起装置和基板浮起量测量方法，通过这些装置和方法能够始终准确地计算基板浮起量。解决上述课题的本专利技术的基板浮起装置，将基板浮起，其特征在于，该装置包括浮起单元和解析装置，所述浮起单元具有与浮起的基板的背面相对而置的对向面，且将基板浮起至所述对向面的上方，所述解析装置计算从所述对向面浮起的基板的浮起量，在所述对向面下方进一步设置有光反射型高度测量器，其向从所述浮起单元上浮起的基板发射光，所述浮起单元包括贯通孔和板体状基准板，所述贯通孔使从所述高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到所述高度测量器的光通过，所述基准板设置在通过所述贯通孔从所述高度测量器向基板发射的光的路径上，且反射和透射一部分光。根据上述基板浮起装置，通过具有高度测量器和设置在从高度测量器到基板的光的路径上的基准板，能够始终准确地计算基板的浮起量。具体而言，通过高度测量器检测从接近于对向面一侧的基准板的面反射的反射光，即使是基板浮起时也能够始终掌握对向面位置。另外，高度测量器同时检测从该基准板的面反射的反射光和在基板上反射的光而计算出基板的浮起量，由此即使在使用基板浮起装置期间基板浮起装置周围的环境温度发生变化而构成设备发生膨胀或者收缩时，也能够始终掌握此时的对向面位置和基板位置，因此能够准确地计算基板的浮起量。另外，优选的是，基准板的的上表面或者下表面与所述对向面为同一面。这样，根据从基准板反射的反射光信息能够更加准确地掌握对向面位置。另外，所述基准板材料优选的是玻璃。这样，基准板几乎不会发生热膨胀，因此在基准板的面和对向面为同一面的关系上不容易产生误差，从而能够将基板浮起量更加准确地计算和控制。另外，优选的是，所述基准板被吸附保持在所述浮起单元上。这样，即使是基准板变脏等而要进行更换时也能够容易更换。另外，解决上述课题的本专利技术的基板浮起量测量方法，该方法是基板浮起装置的基板浮起量测量方法，所述基板浮起装置包括：浮起单元，其包括与浮起的基板背面相对而置的对向面，且将基板浮起至所述对向面上方；解析装置，其计算从所述对向面浮起的基板的浮起量；其中，在所述对向面下方进一步设置有光反射型高度测量器，所述高度测量器向所述浮起单元上浮起的基板发射光；所述浮起单元包括贯通孔和板体状基准板，所述贯通孔使从所述高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到所述高度测量器的光通过，所述基准板设置在通过所述贯通孔从所述高度测量器向基板发射的光的路径上，且反射和透射一部分光；其特征在于，该基板浮起量测量方法包括以下工序：投受光工序，在该工序中所述高度测量器发射光，并且接收所述光从所述基准板和基板分别反射的反射光；计算工序，在该工序中所述解析装置从所述投受光工序中获得的受光信息计算从所述对向面浮起的基板的浮起量。根据上述基板浮起量测量方法，由于该方法具有投受光工序和计算工序，因此能够始终准确地计算基板的浮起量。根据本专利技术的基板浮起装置和基板浮起量测量方法，能够始终准确地计算基板浮起量。附图说明图1为本专利技术的一个实施方式的基板浮起装置的概略图；图2为高度测量器获得的受光信息的一个例子；图3为另一实施方式的基板浮起装置的概略图；图4为另一实施方式的基板浮起装置的概略图；图5为包括基板浮起装置的涂布装置的概略图；图6为表示对通过基板浮起装置浮起的基板涂布涂布液的例子的概略图；图7为现有的基板浮起装置的概略图。附图标号说明1基板浮起装置2浮起单元3控制装置11单元主体12高度测量器13基准板14对向面15贯通孔21解析装置80涂布装置81涂布部82基板浮起装置83输送装置84涂布部前端91高度测量器92贯通孔93控本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板浮起装置，该装置将基板浮起，其特征在于，该装置包括：浮起单元，包括与浮起的基板背面相对而置的对向面，且将基板浮起至所述对向面上方；解析装置，计算从所述对向面浮起的基板的浮起量；其中，在所述对向面下方进一步设置有光反射型高度测量器，所述高度测量器向所述浮起单元上浮起的基板发射光；所述浮起单元包括贯通孔和板体状基准板，所述贯通孔使从所述高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到所述高度测量器的光通过，所述基准板设置在通过所述贯通孔从所述高度测量器向基板发射的光的路径上，且反射和透射一部分光。

【技术特征摘要】
2012.09.25 JP 2012-2102631.一种基板浮起装置，该装置将基板浮起，其特征在于，该装置包括：浮起单元，包括与浮起的基板背面相对而置的对向面，且将基板浮起至所述对向面上方；解析装置，计算从所述对向面浮起的基板的浮起量；其中，在所述对向面下方进一步设置有光反射型高度测量器，所述高度测量器向所述浮起单元上浮起的基板发射光；所述浮起单元包括贯通孔和板体状基准板，所述贯通孔使从所述高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到所述高度测量器的光通过，所述基准板设置在通过所述贯通孔从所述高度测量器向基板发射的光的路径上，且反射和透射一部分光，所述基准板的上表面位于所述对向面的下方，所述基准板的上表面和所述基板的下表面之间的距离长于所述解析装置能够分离从所述基准板的上表面及所述基板的下表面反射的光的峰值的极限值。2.根据权利要求1所述的基板浮起装置，所述基准板的材料为玻璃。3.根据权利要求1或2所述的基板浮起装置，其特征在于，所述基准板被吸附保持在所述浮起单元上。4.一种基板浮起量...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨川健史，森俊裕，奥田哲也，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：发明
国别省市：