【技术实现步骤摘要】
气体处理系统及化学气相沉积设备
本专利技术属于微电子
，具体涉及ー种气体处理系统及化学气相沉积设备。
技术介绍
显示装置制造行业，所采用的化学气相沉积、干法刻蚀等エ艺中气体被广泛应用。例如说，在进行化学气相沉积的エ艺过程中，随着气体在反应腔室里对基板进行处理，同时会产生一定的废气。对于具有较强的水溶性废气，通常采用水溶解的方式进行尾气处理，如图1所示，ー种气体处理系统200，其抽气装置(干泵)201抽取反应腔室里产生的废气，后端通过管道S与气体处理装置202连接，经过抽气装置201的气体进入到气体处理装置202后，气体处理装置202中的洒水单元喷水，将可溶于水的气体水溶解处理，再通过抽水装置(水泵)将溶解气体的废水排出。在此过程中，洒水单元和抽水装置处于常开状态，对气体实时处理，但是エ艺限制时(也就是反应腔室100内暂时性停止工作吋)，此时气体处理装置202仍在工作，与此同时就会造成水资源、电能大量的消耗，浪费能源且生产成本高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题包括，针对现有的气体处理系统存在的上述不足，提供一种节能的气体处理系统及化学...
【技术保护点】
一种气体处理系统，其包括：用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置，其特征在于，所述气体处理系统还包括：气体监测装置，其中，?所述反应腔室、抽气装置、气体处理装置间通过第一管道连接；?所述气体监测装置与第一管道气路连接，用于将气体电离，并俘获电离产生的离子而产生电流；?所述气体监测装置与气体处理装置电连接，用于控制气体处理装置工作。
【技术特征摘要】
1.ー种气体处理系统，其包括:用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置，其特征在于，所述气体处理系统还包括:气体监测装置，其中， 所述反应腔室、抽气装置、气体处理装置间通过第一管道连接； 所述气体监测装置与第一管道气路连接，用于将气体电离，并俘获电离产生的离子而产生电流； 所述气体监测装置与气体处理装置电连接，用于控制气体处理装置工作。2.根据权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述反应腔室通过第一管道连接抽气装置，抽气装置通过第一管道连接气体处理装置。3.根据权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述反应腔室通过第一管道连接气体处理装置，气体处理装置通过第一管道连接抽气装置。4.根据权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，还包括开关控制単元，所述开关控制单元受气体监测装置控制，并与气体处理装置连接，用于控制气体处理装置。5.根据权利要求4所述的气体处理系统，其特征在干，所述开关控制单元为电磁继电器。6.根据权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈甫，刘祖宏，刘建辉，李婷婷，丁欣，张亮，侯智，吴代吾，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。