一种立体与平面分区方式的多气体独立通道的喷淋方法技术

一种立体与平面分区方式的多气体独立通道的喷淋方法，主要解决现有的喷淋方法气体沉积的时间及反应条件不易控制及浪费不可再生特气资源的技术问题。该方法采用立体分区、平面分区或两种分区相结合方式，隔离出不同的气体路径。气体分别从各自独立的气体进口进入喷淋板主体内，又通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区通道到达反应腔室。彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应。通过规划不同的分区结构及分区形式，来满足多种气体的分布，使气体能均匀、快速的扩散到腔室内，并在基板上进行沉积反应。另外，也可在其上安装加热或冷却构件，以满足更严苛的工艺条件要求。本发明专利技术提供了一种能满足多种气体同时、独立、均匀沉积的喷淋方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种喷淋方法，特别是通过立体分区、平面分区或两种分区结合的分区方式，来满足三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，属于半导体薄膜沉积应用及制造
。
技术介绍
半导体镀膜设备在进行沉积反应时，一般是一种或两种气体同时存在，但在某些设备上，有时需要三种(或三种以上)气体同时进入腔室进行薄膜沉积，并要求几种气体路径相互独立，在进入腔体前不能相遇，进入腔室后各气体都要能均匀扩散到基底表面。而现有的喷淋方法大都是针对单独的气体路径设计，或是最多有两种气体路径，并且大多结构都只是在气体进口处进行分离，在进入腔室之前已进行接触、使沉积反应提前进行，即不易于控制沉积的时间及反应条件也浪费了宝贵的不可再生的特气资源。当反应过程需要三种及三种以上气体时，上述的喷淋方法已不能满足要求。针对要求多种(三种及三种以上)气体同时、独立、均匀的苛刻条件，本专利技术应运而生。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的，主要解决现有的喷淋方法气体沉积的时间及反应条件不易控制及浪费不可再生特气资源的技术问题。本专利技术提供了一种能满足多种(三种及三种以上)气体同时、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种立体与平面分区方式的多气体独立通道的喷淋方法，该方法采用立体分区、平面分区或两种分区相结合方式，隔离出不同的气体路径，气体分别从各自独立的气体进口进入喷淋板主体内，又通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区通道到达反应腔室，彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应，通过规划不同的分区结构及分区形式，来满足多种气体的分布，使气体能均匀、快速的扩散到腔室内，并在基板上进行沉积反应。

【技术特征摘要】
1.一种立体与平面分区方式的多气体独立通道的喷淋方法，该方法采用立体分区、平面分区或两种分区相结合方式，隔离出不同的气体路径，气体分别从各自独立的气体进口进入喷淋板主体内，又通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区通道到达反应腔室，彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应，通过规划不同的分区结构及分区形式，来满足多种气体的分布，使气体能均匀、快速的扩散到腔室内，并在基板上进行沉积反应。2.如权利要求1所述的一种立体与平面分区方...

【专利技术属性】
技术研发人员：凌复华，吴凤丽，陈英男，王燚，国建花，
申请(专利权)人：沈阳拓荆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：