一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，由多个镀膜腔体单元串接而成，相邻镀膜腔体单元之间设有工艺隔离腔体；镀膜腔体单元与工艺隔离腔体之间设有隔离阀。镀膜腔体单元，包括基座、靶材架、背板座、玻璃架；靶材架、背板座安装于基座上，围成镀膜腔；靶材架上设有靶材阴极，靶材架与基座之间设有开合装置；所述玻璃架设于镀膜腔内，为立式结构，与垂直面具有0－10度角。所述开合装置由液压或气压驱动。玻璃架设有玻璃传送装置。本实用新型专利技术生产节能低辐射玻璃时，玻璃为立式放置，减少了杂质在玻璃表面的沉积，减少了杂质对薄膜的伤害，从而增强薄膜的附着力；同时该结构还减少了杂质在靶材阴极上的沉积导致的弧光放电现象。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种节能低福射玻璃立式磁控溅射生产设备
本技术涉及节能低辐射玻璃生产设备。
技术介绍
节能低辐射镀膜玻璃是最新开发的一种采光材料，它通过高科技方法在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的膜系，极大地降低了玻璃表面辐射热或紫外线等的透过率，并提高了玻璃的光谱选择性，玻璃镀上节能低辐射膜后，可见光可以有效地透过膜系和玻璃，但有害的紫外线部份就会有效地被抑制，肉眼看不见的红外线，80%以上被膜系反射。透过节能低辐射镀膜玻璃的太阳能光谱，经膜系过滤后进入室内的是“冷光”，节能低辐射镀膜玻璃成功地解决了玻璃采光与节能难以兼顾的矛盾。特别是当节能低辐射镀膜玻璃加工合成为中空玻璃后，与普通单体玻璃比较，夏季可以节省降温能源60%以上，冬季可以节省采暖能源70%以上。因此，使用节能低辐射镀膜玻璃的中空玻璃可以有效节省空调费或取暖费。同时，节能低辐射镀膜玻璃的中空玻璃具有良好的隔音性能，噪声可以降低34dB以上。目前低辐射镀膜玻璃无论是采用在线的沉积方法，还是采用离线的薄膜沉积方法，其所采用的设备都是卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线，而且这一类的腔体在制造时为了降低成本，多采用易氧化且表面吸附性很强的碳钢制造。在这样的卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线沉积薄膜时，玻璃基板通常放置在水平滚动的传动轴上，通过玻璃与传动轴间的摩擦力带动玻璃水平向前运动，依次通过整条薄膜沉积生产线的各个腔体，所有的薄膜沉积阴极和靶材或者其它类似的气相沉积源都置于玻璃沉积表面的上方。使得在玻璃进行薄膜沉积生产时，由于各种震动导致腔体上的各种氧化物微粒，以及腔体内表面吸附的众多杂质随时都能掉落在玻璃的镀膜面上，这既破坏了所沉积的薄膜的连续一致性，又阻断了薄膜与玻璃基体表面的联结，降低了薄膜的附着力，从而大大的降低了整个沉积薄膜的综合品质。很大程度的缩短了低辐射玻璃的耐候性能和使用功能。同时，在这样的卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线上多布置有大量的加热装置，薄膜沉积时，由于加热装置布置的不一定均匀，也就造成了腔体内的温度场不一定很均匀，导致了整个玻璃上的温度不能均匀一致，在重力和其它各种外力作用下，使得玻璃的上表面变形很不一致，明显的影响了所沉积的薄膜在整个玻璃表面的均匀性，产生了很难以克服的边沿效应，也就降低了整个沉积薄膜的综合品质。过量的加热装置即增加了腔体内部的结构复杂性，加大了腔体内的灰层死角，也增大了生产成本，降低了生产效率。卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线由于必须将整个沉积阴极和靶材或者其它类似的气相沉积源悬挂于腔体上，使得阴极的整体结构复杂笨重，完全没有可调节的空间，安装及调试极为困难，导致薄膜的沉积工艺难以实现。
技术实现思路
本技术所要解决的问题:为了解决现有技术下低辐射玻璃质量不足的问题。为解决上述问题，本技术采用的方案如下:一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，由多个镀膜腔体单元串接而成；相邻镀膜腔体单元之间设有工艺隔离腔体；镀膜腔体单元与工艺隔离腔体之间设有隔离阀。所述镀膜腔体单元，包括基座、靶材架、背板座、玻璃架；靶材架、背板座安装于基座上，围成镀膜腔。靶材架上设有靶材阴极，靶材架与基座之间设有开合装置。所述玻璃架设于镀膜腔内，为立式结构。所述玻璃架与垂直面具有O — 10度的角度，所述靶材阴极与垂直面具有O — 10度的角度。所述的靶材架上的靶材阴极采用自闭合形式的非平衡磁场布置形式的多阴极的溅射靶位布置。所述玻璃架设有玻璃传送装置。所述开合装置包括:驱动杆、轴套、转轴、传动臂、压力机；驱动杆的一端与靶材架固定，另一端固定在轴套上；轴套套在转轴外；传动臂的一端固定在轴套上；压力机的压力杆顶在传动臂的另一端。所述压力机为液压缸或气压缸。本技术的技术效果:1、本技术薄膜沉积时，玻璃基体在整条生产线内采用立式的输送方式进行，从而避免了卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线薄膜沉积过程中存在的由于各种震动导致腔体上的各种氧化物微粒，以及腔体内表面吸附的众多杂质随时都能掉落在玻璃的镀膜面上，既破坏了所沉积的薄膜的连续一致性，又阻断了薄膜与玻璃基体表面的联结，降低了薄膜的附着力之一不可克服的巨大缺陷，保证了在玻璃的整个表面上所沉积的薄膜均匀一致，附着力牢固可靠。2、本技术薄膜沉积时，玻璃基体在整条生产线内采用立式的输送方式进行，这种方式下减少了溅射过程中所产生的各种粉尘落在溅射靶的表面上所弓I起的弧光放电现象，确保靶材表面溅射的均匀稳定。3、本技术的生产设备采用多个镀膜腔体单元之间设置工艺隔离腔体，镀膜腔体单元与工艺隔离腔体之间设置隔离阀。低辐射玻璃通常是由多层不同成分和不同微观结构要求以及不同的光学和电性能要求的相互叠加沉积组成的。本技术中的多个镀膜腔体单元可以实现不同成分和不同微观结构要求以及不同的光学和电性能要求的薄膜在不同的气相沉积腔体内依次沉积。完全隔离的工艺隔离腔体满足这些不同成分和不同微观结构要求以及不同的光学和电性能要求的薄膜沉积工艺之间相互独立、不能够相互混同的要求。并且在出现应急需要时，可以及时地关闭异常情况发生的腔体两端的隔离阀，可以便于迅速的排除故障，尽快恢复生产。4、本技术的生产设备在基座与靶材架之间设有开合装置，可以将靶材架翻转到水平状态的靶材安装结构形式。在不同的气相沉积腔体内需要的不同成分的靶材。这些靶材数量众多，尺寸相对较大，重量不轻，依次安装非常费时，采用可翻转到水平状态的靶材安装结构形式可以在最短的时间内同时大量的安装所有的沉积所需的靶材，并且当出现异常情况时急需应急处理靶材或者阴极时，可以迅速的找到并解决所出现的异常故障，立即投入正常的生产。5、本技术的生产设备采用自闭合形式的非平衡磁场布置形式的多阴极的溅射靶位布置。在自闭合的非平衡磁场布置形式的条件下，多个阴极磁场的布置形式所作的基本改动就是使磁极之间的磁场强度由几乎相等而改为磁场强度不相等，磁极之间的磁场强度差别越大就越不平衡。由于磁极间的磁场强度不相等，只有一部分磁力线能够穿过中心磁极得到闭合，但另一部分非闭合的磁力线则发散开来，而且通过基体后才能形成相互之间自闭合的磁力线。溅射产生的部分二次电子将不再局限于靶的附近，并沿着扩散开来的磁力线朝着基体旋转飞行，在薄膜沉积的整个过程中，玻璃基片表面都将受到气体离子的稳定轰击，这也就使得靶基距的调节空间范围得到一定程度的扩大，能够在确保所沉积的薄膜品质和不降低沉积速率的前提下，实现玻璃基片不要求必须尽量靠近溅射靶，不会造成因靶基距过近使溅射靶的辉光轰击到薄膜而引起膜层中的内应力过大。【附图说明】图1为本技术整体的局部结构布置示意图。图2为本技术镀膜腔体单元侧视结构示意图。图3为本技术镀膜腔体单元正视结构示意图。【具体实施方式】下面结合说明书附图，对本技术作进一步详细说明。如图1所示，一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，包括镀膜腔体单元I。多个镀膜腔体单元I之间设置有工艺隔离腔体2。镀膜腔体单元I与工艺隔离腔体2之间设置有隔离阀。工艺隔离腔体2用于镀膜腔体单元I之间的隔离，结构上无特殊要求。镀膜腔体单元1，如图2、图3所示，包括:基座11、靶材架12、背板座13、玻璃架14。靶材架12、背板座13本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，包括镀膜腔体单元，其特征在于，所述的镀膜腔体单元，包括基座、靶材架、背板座、玻璃架；靶材架、背板座安装于基座上，围成镀膜腔；靶材架上设有靶材阴极，靶材架与基座之间设有开合装置；所述玻璃架设于镀膜腔内，为立式结构。

【技术特征摘要】
1.一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，包括镀膜腔体单元，其特征在于，所述的镀膜腔体单元，包括基座、靶材架、背板座、玻璃架；靶材架、背板座安装于基座上，围成镀膜腔；靶材架上设有靶材阴极，靶材架与基座之间设有开合装置；所述玻璃架设于镀膜腔内，为立式结构。2.如权利要求1所述的节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，其特征在于，它由多个镀膜腔体单元串接而成；相邻镀膜腔体单元之间设有工艺隔离腔体；镀膜腔体单元与工艺隔离腔体之间设有隔离阀。3.如权利要求1或2所述的节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备，其特征在于，所述玻璃架与垂直面具有O — 10度的角度，所述靶材阴极与垂直面具有O — 10度的角度。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘战合，
申请(专利权)人：有度功能薄膜材料扬州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：