一种新型镍模板的制备方法技术

本发明专利技术属于纳米微加工与应用领域，具体涉及用纳米压印、物理气相沉积、化学电镀方法复制制备镍模板。首先利用相干光曝光技术制备所需结构的硅模板A；然后在防粘好的硅模板表面浇铸一层PDMS，放入真空烘箱中在一定温度下固化；接着，揭模，得到PDMS的软模板B；再在PDMS软模板上蒸镀一层60nm的镍，将这种结构放入特定的电镀液中进行电镀，得到厚度为300μm-500μm的镀层；除去电镀完样品背面PDMS层，即可得到复制出的镍模板结构C。本发明专利技术结合化学电镀制备出的镍模板，结构均匀，致密性好，而且其自身的机械强度高，可以长期用作后期热压印过程中的模板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微纳米加工与应用领域，具体涉及用纳米压印、电子束蒸镀、化学电镀的方法复制镍模板的技术。
技术介绍
在集成电路的制造过程中，光学光刻一直扮演着实现图形转移的重要角色。然而，随着半导体技术的不断发展，器件的特征尺寸越来越小，光刻的实现也变得越来越复杂。因此，寻找一种新的图形转移技术保证半导体产业的继续发展变得越来越重要。其中，1995年由华裔科学家Stephen Y Chou提出的纳米压印技术受到了越来越多的研究机构和商业机构的关注。相比于传统的光刻技术，纳米压印将模板上的图案直接转移到衬底上，达到将模板大量复制的目的，具有加工原理简单，生产效率高，成本低的特点；同时由于纳米压印的过程中不涉及光学曝光中光学衍射的影响，其制备微纳图形的能力可以与电子束直接相媲美，具有超高分辨率的特点。在纳米压印的过程中，压印模板的质量好坏决定了压印图形的质量。在传统的热压印过程中，由于硅、石英衬底自身的脆性，不利于模板的重复使用，因而工艺中逐渐使用镍模板来代替。但在传统的结合电镀制备镍模板的过程中，电镀参数，脱模效果都会影响镍模板的质量，因此寻求一种新型的，方便的镍模板的复制过程变本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型镍模板的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：a)利用相干光曝光制备纳米压印母模板A；b)将防粘处理好的纳米压印母模板A表面浇铸一层PDMS，在80℃的真空烘箱中放置4个小时进行固化；c)揭模，得到与母模板A结构互补的PDMS软模板B，再利用物理气相沉积方法在PDMS软模板B的结构那一面蒸镀一层金属镍；d)将蒸镀镍的PDMS软模板B放入电镀液中电镀，得到镍镀层；e)揭模除去电镀完样品背面的PDMS支撑层，即可得到复制了母模板A结构的镍模板C。

【技术特征摘要】
1.一种新型镍模板的制备方法，其特征在于，具体步骤如下: a)利用相干光曝光制备纳米压印母模板A; b)将防粘处理好的纳米压印母模板A表面浇铸一层PDMS，在80°C的真空烘箱中放置4个小时进行固化； c)揭模，得到与母模板A结构互补的PDMS软模板B，再利用物理气相沉积方法在PDMS软模板B的结构那一面蒸镀一层金属镍； d)将蒸镀镍的PDMS软模板B...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨涛，袁长胜，
申请(专利权)人：无锡英普林纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：