一种负压式纳米压印设备制造技术

本发明专利技术公开了一种负压式纳米压印设备，包括支撑座和升降台，升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上，升降台可以沿升降柱移动，所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台，升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯。所述升降柱上端开口，升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部，下端密闭，并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔，至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。采用本发明专利技术的设计，升降台下压过程，气流能够在负压阀流通，使得气压正常，不会影响防滑硅胶垫和样品台，上抬过程，体积变大，气流不流通，在空腔内形成负压，能够防止硅胶垫滑动，结构简单，勿需采用真空泵。

A negative pressure nanoscale imprint equipment

The invention discloses a negative pressure type nano imprint device comprises a supporting seat and a lifting platform around the lifting platform lifting column has a plurality of hollow fixed on the supporting seat, the lifting platform can move along the lifting column, the supporting seat is provided with antiskid silicone pad and a sample table, the lifting platform is arranged in the middle of a template and the UV lamp located above the template. The lifting column at the lower end of the upper opening, lifting column is arranged on the bottom of the cavity, the lower end of the supporting seat is closed, and the lifting cylinder is located at the side of the seat support part of the cavity is provided with air holes, negative pressure valve at least one lifting column is also arranged in fixed on the lifting platform can move along the lifting column. The design of the invention, the process of pressure lifts, air can flow in the negative pressure valve, the pressure will not affect the normal, non slip silicone pad and a sample table, lift process, volume change, air circulation, negative pressure is formed in the cavity to prevent the silicone pad sliding, simple structure, without using vacuum pump.

【技术实现步骤摘要】
一种负压式纳米压印设备
本专利技术涉及一种纳米压印设备，特别是一种负压式纳米压印设备。
技术介绍
现有的纳米压印设备如果采用负压式固定，采用的技术方案基本都是在支撑座内设置真空泵，对支撑座内的空腔进行抽真空，来进一步对防滑硅胶垫和样品台进行固定，但是此种方式消耗的成本很高。
技术实现思路
专利技术目的：本专利技术在于解决现有的纳米压印设备采用真空泵进行抽真空消耗成本过高的问题。技术方案：本专利技术提供以下技术方案：一种负压式纳米压印设备，包括支撑座和升降台，升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上，升降台可以沿升降柱移动，所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台，升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯，所述升降柱上端开口，下端密闭，升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部，并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔，至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。进一步地，采用四个升降柱，且四个升降柱内均设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。进一步地，所述升降柱位于支撑座内的部分靠近底部的位置设有气孔。进一步地，所述支撑座的空腔位于防滑硅胶垫的下部设有开口。进一步地，所述负压阀为凹陷型的柔软负压硅胶垫，凹陷面朝向升降台下压的方向。工作原理：升降台下压过程，负压硅胶垫由于凹陷面的存在发生形变，气流能够在负压阀流通，使得气压正常，不会影响防滑硅胶垫和样品台，上抬过程，凹陷面不发生形变，体积变大，气流不流通，在空腔内形成负压，能够防止防滑硅胶垫滑动。有益效果：本专利技术与现有技术相比：采用本专利技术的设计能够通过很简洁的设计，达到和真空泵的效果，本设计的成本节约在每台压印机5000元以上，并且由于形成的负压基于升降柱的上升和下降距离的体积，所以产生的负压压力值并不大，也不会影响到防滑硅胶垫和样品台。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术作进一步的解释。如附图1所示，一种负压式纳米压印设备，包括支撑座1和升降台2，升降台2的四周具有多根内部中空的升降柱3固定于支撑座1上，升降台2可以沿升降柱3移动，所述支撑座1上还设有防滑硅胶垫4和样品台5，升降台2中部设有模板6以及位于模板6上方的紫外灯7，所述升降柱3上端开口，下端密闭，升降柱3的下端设置于支撑座1的空腔8底部，并且升降柱3位于支撑座空腔8内的部分侧面设有气孔9，至少一个升降柱3内还设有固定于升降台2上能够沿升降柱3移动的负压阀。采用四个升降柱3，且四个升降柱3内均设有固定于升降台2上能够沿升降柱3移动的负压阀。所述升降柱3位于支撑座1内的部分靠近底部的位置设有气孔9。所述支撑座1的空腔8位于防滑硅胶垫4的下部设有开口10。所述负压阀为凹陷型的柔软负压硅胶垫11，凹陷面朝向升降台下压的方向。升降台下压过程，负压硅胶垫11由于凹陷面的存在发生形变，气流能够在负压阀流通，使得气压正常，不会影响防滑硅胶垫4和样品台5，上抬过程，凹陷面不发生形变，体积变大，气流不流通，在空腔8内形成负压，能够防止防滑硅胶垫4滑动。本专利技术提供了一种能够进行空气循环的纳米压印设备，具体实现该技术方案的方法和途径很多，以上所述仅是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围，本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负压式纳米压印设备，包括支撑座和升降台，升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上，升降台可以沿升降柱移动，所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台，升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯，其特征在于：所述升降柱上端开口，下端密闭，升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部，并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔，至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。

【技术特征摘要】
1.一种负压式纳米压印设备，包括支撑座和升降台，升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上，升降台可以沿升降柱移动，所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台，升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯，其特征在于：所述升降柱上端开口，下端密闭，升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部，并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔，至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。2.根据权利要求1所述的负压式纳...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵敏洁，杨彦涛，
申请(专利权)人：无锡英普林纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32