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本发明属于纳米微加工与应用领域，具体涉及用纳米压印、物理气相沉积、化学电镀方法复制制备镍模板。首先利用相干光曝光技术制备所需结构的硅模板A；然后在防粘好的硅模板表面浇铸一层PDMS，放入真空烘箱中在一定温度下固化；接着，揭模，得到PDMS的...
该专利属于无锡英普林纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡英普林纳米科技有限公司授权不得商用。

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