经由廉价软光刻抑制聚合物膜的反润湿制造技术

一种用于在基底上产生图案化聚合物膜的方法，其包括以下步骤：用聚合物膜涂布基底；将图案化掩模放到所述聚合物膜的表面上，所述图案化掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸小于所述聚合物膜的毛细波长；通过溶剂退火或涉及使所述聚合物膜的温度升高至其玻璃化转变温度以上的基于温度的退火，使所述聚合物膜退火，所述退火的步骤使得所述聚合物膜符合所具有的尺寸小于所述聚合物膜的所述毛细波长的所述至少一个图案部分的尺寸，从而形成图案化聚合物膜；以及将所述图案化掩模从所述图案化聚合物膜移除。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】经由廉价软光刻抑制聚合物膜的反润湿专利
本专利技术涉及涂布有图案化聚合物膜的基底并且涉及形成对抗反润湿(dewetting)的图案化聚合物膜并且使其稳定的方法。 专利技术背景聚合物由于它们的可易于加工性、低成本、持久性以及优越的物理和化学性能而具有许多实际应用。涉及聚合物的大多数先进应用要求聚合物呈涂布在固体基底上的图案化膜的形式，所述应用如有机光电太阳能电池、生物医学支架、纳米光刻掩模以及电子电路板。然而，制作这类膜的主要挑战是使膜在下伏的固体基底上均匀地展开且稳定。在大多数实际应用中，需要光滑、稳定并且无缺陷的涂层，并且对这类系统的持久关注是它们对抗反润湿的稳定性。由于薄膜系统中的约束效应，同时聚合物-基底界面处的短程力与长程力之间的相互影响可能变得越来越主要。这些效应使得薄膜不稳定或亚稳定，经受不利的聚合物-基底相互作用。通过如旋涂和流涂的各种技术所生成的聚合物薄膜当在它们的玻璃化转变温度以上被退火或通过溶剂蒸气而膨胀时，从亚稳定状态朝向热力学平衡的状态放松。这致使去稳定化过程，从而最终导致膜破裂且反润湿。为更好地理解去稳定化过程，关于反润湿的实际机制和动力学的调查已经受本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基底上产生图案化聚合物膜的方法，所述方法包括以下步骤：用聚合物膜涂布基底；将图案化掩模放到所述聚合物膜的表面上，所述图案化掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸小于所述聚合物膜的毛细波长；通过选自溶剂退火和涉及使所述聚合物膜的温度升高至其玻璃化转变温度以上的基于温度的退火的步骤，使所述聚合物膜退火，所述退火的步骤使得所述聚合物膜符合所具有的尺寸小于所述聚合物膜的所述毛细波长的所述至少一个图案部分的尺寸，从而形成图案化聚合物膜；以及将所述图案化掩模从所述图案化聚合物膜移除。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.05.04 US 61/482,4871.一种用于在基底上产生图案化聚合物膜的方法，所述方法包括以下步骤: 用聚合物膜涂布基底； 将图案化掩模放到所述聚合物膜的表面上，所述图案化掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸小于所述聚合物膜的毛细波长； 通过选自溶剂退火和涉及使所述聚合物膜的温度升高至其玻璃化转变温度以上的基于温度的退火的步骤，使所述聚合物膜退火，所述退火的步骤使得所述聚合物膜符合所具有的尺寸小于所述聚合物膜的所述毛细波长的所述至少一个图案部分的尺寸，从而形成图案化聚合物膜；以及 将所述图案化掩模从所述图案化聚合物膜移除。2.如权利要求1所述的方法，其中所述方法进一步包括以下步骤:从可固化弹性体制造所述图案化掩模。3.如权利要求1所述的方法，其中使所述图案化聚合物膜稳定以对抗反润湿。4.如权利要求1所述的方法，其中所述退火的步骤是溶剂退火步骤，并且所述方法进一步包括:在所述退火的步骤之后清除所述溶剂。5.如权利要求1所述的方法，其中所述退火的步骤是基于温度的退火步骤，并且所述方法进一步包括:在所述退火的步骤之后，通过使所述温度降低至所述玻璃化转变温度以下来对所述聚合物膜进行淬火。6.如权利要求1所述的方法，其中所述掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸大于所述聚合物膜的毛细波长。7.一种用于在...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·卡里姆，D·班德约帕希亚，
申请(专利权)人：阿克伦大学，
类型：
国别省市：