【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，包括如下步骤：（1）将单体溶液滴在要压印的衬底上；（2）将模板压到衬底上，使单体溶液分散开并填充模板中的空腔；（3）将步骤（2）所得的模板和衬底放入纳米压印机中，当衬底和模板光学对准后，用紫外光透过模板照射压印区域，固化成型后，移去模板；（4）刻蚀残留层和进行图案转移。本专利技术提供的纳米压印方法操作步骤简单，使用方便、灵活，具有环保高效等优点，有利于推广应用。【专利说明】
本专利技术涉及微加工领域，具体涉及。
技术介绍
目前，纳米压印主要分为热压印和紫外光固化压印两种类型。传统的热压印需要在高温高压的条件下实现，而且即使在高温、高压的条件下，仍然可能导致聚合物不能完全填充印章腔体，这种方法不仅降低了工作效率而且得到的产品效果不稳定；传统的紫外光固化压印工艺较为繁琐且加工难度大，成本高，不利于推广应用。
技术实现思路
专利技术目的:为了克服现有技术中存在的不足，本专利技术提供的纳米压印方法，简单易行、成本低，适于推广应用。技术方案:为解决上述技术问题，本专利技术的采用的技术方案为:，包括如下步骤:( I)将单体溶液滴在要压印的衬底上；(2)将模板压到衬底上，使单体溶液分散开并填充模板中的空腔；(3)将步骤(2)所得的模板和衬底放入纳米压印机中，当衬底和模板光学对准后，用紫外光透过模板照射压印区域，固化成型后，移去模板；(4)刻蚀残留层和进行图案转移。作为优选，所述步骤(2)中将模板压到衬底上的压力为I?80N。作为优选，所述单体溶液为甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯中的一种或几种。作为优选，所述的模板可由硅、二氧...
【技术保护点】
一种纳米压印方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）将单体溶液滴在要压印的衬底上；（2）将模板压到衬底上，使单体溶液分散开并填充模板中的空腔；（3）将步骤（2）所得的模板和衬底放入纳米压印机中，当衬底和模板光学对准后，用紫外光透过模板照射压印区域，固化成型后，移去模板；（4）刻蚀残留层和进行图案转移。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王晶，
申请(专利权)人：无锡英普林纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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