炔类杂芳基化合物制造技术

本发明专利技术涉及通式(I)的化合物，其中变化基团如说明书中定义；它们的可药用盐；包含所述化合物或其可药用盐和可药用载体的组合物；以及涉及它们的用途。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
式I、式III或式IV的化合物、其互变异构体、或其可药用盐、水合物或其它溶剂合物：式I式III?????????????????????式IV其中：环T为X1、X2和X3所定义的杂芳基环，其中；(a)X1为CH或CRt1；和(a)?1:X2为CRt2且X3为N；或(a)?2:X2为CRt2且X3为CRt3；或(a)?3：X2为N且X3为CRt4或N；或，(b)X1为N；且(b)?1:X2为CRt2且X3为CRt3；或(b)?2:X2为CRt2且X3为N；或，(c)X1为CRt，(c)?1:X2为N且X3为CRt3；或(c)?2:X2为CRt2且X3为N或CRt3；Rt选自H；?C(=O)NH2或?NH2取代的烷基；?NH?C(C=O)?烷基；吡啶基；?NH=N(H)?NH?CN；?NH=N(H)?OH；?NH2取代的苯基；吡咯烷基；或Rt和Rt2与他们相连的原子一起任选地形成饱和、部分饱和或不饱和的5或6元环，其包含碳原子和0?3个选自O和N的杂原子且该环任选地被氧代取代；条件是当Rt和Rt2与他们相连的原子一起形成环时，Rb或Rd中至少一个为YP(=O)(YR4)(YR4)、Si(R4)3或?YC(=NH)NH2，其中Y独立地为烷基或化学键；Rt1为?C(=O)NH2取代的烷基；Rt2和Rt3独立地选自H；?NH2；吡咯烷基、?C(=O)NH2或?NH(烷基)取代的烷基；?NH2取代的吡咯烷基；或Rt2和Rt3与他们相连的原子一起形成不饱和的5?或6?元环，其包含碳原子和0?3个氮原子且该环任选地被?NH2、?NH?C(=O)NH2、?NH?C(=O)?烷基、?C(O)O?烷基或?NH=N(H)?NH2取代；条件是当X1为CH时，Rt2和Rt3不形成未取代的苯基；Rt4为H；环A为苯基、呋喃基或噻唑基；Ra独立地为烷基或卤素；L1选自NR1C(O)和C(O)NR1；R1为H；环B为苯基、吡啶基、异唑基或噻唑基；Rb独立地为任选地被至多3个卤原子或C(=NH)NH2取代的烷基；卤素；环烷基；?O?烷基?N(烷基)2；?NH?烷基?C(=O)NH?烷基；?Si(R4)3，其中R4为烷基；环C为咪唑基；Rc独立地为任选被?NR2R3取代的烷基；?CN；R2和R3独立地为烷基；或R2和R3与他们相连的氮原子一起形成杂环环；环D为哌嗪基、吡咯烷基、哌啶基、咪唑基、高哌嗪基、吗啉基；Rd独立地为任选被卤素、羟基或?P(=O)(烷基)2独立取代的烷基；?NR2R3；氧代；羟基；L2为(CH2)z、O(CH2)x；m为0或1；p为1或2；t为1；v为0或1；w为0或1；x为0；z为1；条件是所述化合物不是：FDA00003620834800011.jpg,FDA00003620834800012.jpg,FDA00003620834800021.jpg,FDA00003620834800031.jpg...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：王义汉，朱笑天，拉杰斯瓦里桑达拉莫尔蒂，黄卫生，邹东，R马修托马斯，戚积纬，简安托瓦妮特C罗梅罗，戴维C达尔加诺，威廉C莎士比亚，托米K索耶，切斯特A梅特卡夫，
申请(专利权)人：阿里亚德医药股份有限公司，
类型：发明
国别省市：