一种高亮度GaN基发光二极管外延片及其制备方法技术

技术编号:9278135 阅读:168 留言:0更新日期:2013-10-25 00:03
本发明专利技术提供了一种高亮度GaN基发光二极管外延片,包括衬底、衬底上表面上方设置一非掺杂GaN层,非掺杂GaN层上表面上方依次设置一N型GaN复合层、有源层和P型GaN复合层,在非掺杂GaN层和N型GaN复合层之间进一步设置一极性转换层,所述极性转换层的材料为Mg元素掺杂浓度为1×1020~5×1020cm-3的P型GaN。本发明专利技术的优点在于是一项低成本、简单可控和与传统LED工艺相兼容的N型GaN层表面粗化技术。本发明专利技术提出了采用高掺杂P型GaN作为极性转换层,使后面的表面粗化和工艺是在N面实施的,速度更快,效果更好,粗化的表面对DBR的要求也相应降低,因此可以很容易实现界面粗化和高反射率,从而达到上文所述提高GaN基LED光提取效率的目的。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高亮度GaN基发光二极管外延片,包括衬底、衬底上表面上方设置一非掺杂GaN层,非掺杂GaN层上表面上方依次设置一N型GaN复合层、有源层和P型GaN复合层,其特征在于,在非掺杂GaN层和N型GaN复合层之间进一步设置一极性转换层,所述极性转换层的材料为Mg元素掺杂浓度为1×1020~5×1020cm?3的P型GaN。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓莹康建郑远志陈向东徐琦
申请(专利权)人:马鞍山圆融光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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