圆柱磁控溅射靶制造技术

技术编号:9272173 阅读:97 留言:0更新日期:2013-10-24 21:23
一种圆柱磁控溅射靶,其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体,该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置,该防护装置包括一内挡板,该绝缘装置包括至少一绝缘件,所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。所述绝缘装置可有效免因内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形,进而避免内挡板与靶材发生短路。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种圆柱磁控溅射靶,其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体,其特征在于:该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置,该防护装置包括一内挡板,该绝缘装置包括至少一绝缘件,所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄登聪徐华勇刘振章
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1