用于制备阿森那平之还原剂及阿森那平之制备方法技术

一种用于制备阿森那平之还原剂及阿森那平之制备方法，其实施例之一提供了一种用于制备阿森那平之还原剂，包括：一有机金属，具有化学式(I)或(II)：其中，化学式(I)中，Rl～R3独立地包括-H、-OCH2CH2OCH3或-OCH2CH2OCH2CH3，M包括Li或Na，化学式(II)中，R1～R2独立地包括-H、-CH3、-CH2CH3或-CH2CH(CH3)2；以及酸。本发明专利技术另提供一种阿森那平之制备方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于制备阿森那平之还原剂，其特征是，包括：一有机金属，具有化学式(I)或(II)：其中，化学式(I)中，R1～R3独立地包括?H、?OCH2CH2OCH3或?OCH2CH2OCH2CH3，M包括Li或Na，化学式(II)中，R1～R2独立地包括?H、?CH3、?CH2CH3或?CH2CH(CH3)2；以及酸。FDA00003456913300011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石怡山，陈启元，简启恒，
申请(专利权)人：华裕无锡制药有限公司，
类型：发明
国别省市：