背照式CMOS影像传感器及其制造方法技术

技术编号:9224191 阅读:140 留言:0更新日期:2013-10-04 17:58
本发明专利技术提供了一种背照式CMOS影像传感器及其制造方法,其中,述背照式CMOS影像传感器包括:晶圆;形成于所述晶圆中的多个光电二极管;形成于所述晶圆中、并将相邻两个光电二极管予以隔离的隔离结构,所述隔离结构的材料为高K介质。通过在每相邻两个光电二极管之间形成材料为高K介质的隔离结构以阻挡电学串扰。由于所述隔离结构的材料为高K介质层,其提高了电子跃迁势垒,从而能够阻挡电学串扰,由此提高了背照式CMOS影像传感器的质量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种背照式CMOS影像传感器,其特征在于,包括:晶圆;形成于所述晶圆中的多个光电二极管;形成于所述晶圆中、并将相邻两个光电二极管予以隔离的隔离结构,所述隔离结构的材料为高K介质。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:费孝爱邢家明
申请(专利权)人:豪威科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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