带有蚀刻掩膜的基材及其制造方法技术

本发明专利技术提供能够实现高精细的图案形成的带有蚀刻掩膜的基材及其制造方法。通过在基材的表面涂敷感光材料并使其曝光·显影而形成抗蚀图案，在该基材及抗蚀图案的表面形成DLC覆盖膜，将形成于该抗蚀图案上的DLC覆盖膜连同该抗蚀图案剥离，在基材的表面形成DLC图案，由此形成所述带有蚀刻掩膜的基材。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：重田核，菅原申太郎，重田龙男，
申请(专利权)人：株式会社新克，
类型：
国别省市：