肖特基二极管及其制造方法技术

技术编号:9172317 阅读:174 留言:0更新日期:2013-09-19 21:50
本发明专利技术公开了一种肖特基二极管及其制造方法,包括衬底、衬底上的金属硅化物,其特征在于,衬底与金属硅化物之间的界面处还包括注入掺杂离子然后分凝退火形成的掺杂离子分凝区。依照本发明专利技术的新型肖特基二极管及其制造方法,通过对金属硅化物的电极注入掺杂离子并退火驱动使其分凝在与衬底的界面处,有效降低了肖特基势垒高度,例如使其低于0.1eV,从而提高驱动能力。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种肖特基二极管,包括衬底、衬底上的金属硅化物,其特征在于,衬底与金属硅化物之间的界面处还包括掺杂离子分凝区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:尚海平徐秋霞
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
类型:发明
国别省市:

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