【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种掩模板，其特征在于，包括多个交叠设置的子掩模板，每个所述子掩模板中包括透光区域和遮光区域，多个所述子掩模板的遮光区域共同形成所述掩模板的掩模图形。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：薛静，吴昊，崔子巍，赵秀强，尹岩岩，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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