一种免底涂工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种免底涂工艺，包括以下步骤：(1)对镀件表面进行高压离子清洗；(2)对清洗后的镀件表面镀基膜，并镀上有机硅等离子重合SiOx；(3)在真空室内对涂有基膜的镀件进行蒸发镀膜，真空度为3×10-2Pa；(4)在炉内对镀膜后的镀件附上保护膜，附保护膜时间为200s。本发明专利技术提高了产品附着力及抗酸碱能力，提高了工作效率，保证了产品品质的稳定性和一致性，减少了人为因素影响，以及环境污染等问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种免底涂工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)对镀件表面进行高压离子清洗，清洗时间≤10s；(2)对清洗后的镀件表面镀基膜，镀基膜时间为60s，并镀上有机硅等离子重合SiOX；(3)在真空室内对涂有基膜的镀件进行蒸发镀膜，真空度为3×10?2Pa；(4)在炉内对镀膜后的镀件附上保护膜，附保护膜时间为200s。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭艳平，
申请(专利权)人：中山天誉真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：