一体化连续式等离子清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有导向槽，所述传送台上的传送带位于导向槽内，且传送带的上表面高于下密封台表面，所述上真空罐的两侧设有密封凹槽，所述上真空罐的开口边缘及密封凹槽内均设有密封胶条，从而当上真空罐下降与下密封台紧密接触时能够形成真空腔体，所述传送带能够嵌入密封凹槽。

Integrated continuous plasma cleaning equipment

The utility model discloses an integrated continuous plasma cleaning equipment, which comprises a supporting frame and a transfer station, the support frame comprises a mounting frame and roof frame, chassis is installed on the lower seal and lift cylinder, the top frame is installed on the vacuum tank and push down cylinder, the vacuum tank and the rise lift cylinder and push down cylinder, so as to realize the lifting action, the lower sealing table is provided with a guide groove, wherein the transmission on the belt in the guide groove, and the upper surface of the conveyor belt is higher than that of the lower sealing surface, on both sides of the vacuum tank is provided with a sealing groove, the edge of the opening on the vacuum tank and the sealing groove are provided with sealing rubber strips, and when the vacuum tank and the decline of seal in close contact with Taiwan can form a vacuum chamber, the conveyor belt can be embedded in the sealing groove.

【技术实现步骤摘要】
一体化连续式等离子清洗设备
本技术涉及一体化连续式等离子清洗设备，特别是一体化连续式等离子清洗设备的真空系统。
技术介绍
等离子清洗是在真空室内采用高压（1000-3000V）直流或交流电场作用下进行的。清洗时将待处理的工件放入装有电极板的真空室内，当真空度达到5.0E-1Pa以上时，向真空室中通入氮气，并调节氮气流量为50-100sccm之间。通入电源后，此时电极产生辉光放电，产生氮离子和高能氮原子。通过高能氮原子在真空室内做无规律的运动而对工件也能进行碰撞，将自身的能量传递给工件，对工件起到清洗的作用。以前清洗都是人工打开真空室门然后将工件一件件放入，然后关闭真空室门进行清洗，上述过程耗时耗人，因而生产效率低，因而本人设计了一台可流水作业连续清洗的一体化连续式等离子清洗设备，特别是该设备的真空系统。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术提供一体化连续式等离子清洗设备。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有导向槽，所述传送台上的传送带位于导向槽内，且传送带的上表面高于下密封台表面，所述上真空罐的两侧设有密封凹槽，所述上真空罐的开口边缘及密封凹槽内均设有密封胶条，从而当上真空罐下降与下密封台紧密接触时能够形成真空腔体，所述传送带能够嵌入密封凹槽。

【技术特征摘要】
1.一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有导向槽，所述传送台上的传送带位于导向槽内，且传送带的上表面高于下密封台表面，所述上真空罐的两侧设有密封凹槽，所述上真空罐的开口边缘及密封凹槽内均设有密封胶条，从...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭艳平，解武波，
申请(专利权)人：中山天誉真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44