本实用新型公开了一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上...

本实用新型公开了一体化真空清洗设备，其特征在于：包括方形框架、真空室体、罗茨泵、机械泵以及电气柜、清洗台及位于清洗台两侧的传送台，所述方形框架包括底架及顶架，底架上从左至右顺序安装有真空室体、罗茨泵、机械泵以及电气柜，所述真空室体通过真...

本实用新型公开了一种封闭式高压引入系统，包括真空罐体及负极导杆，其特征在于：真空罐体上设有引入孔，且真空罐体外侧焊有与引入孔相通的法兰筒，该法兰筒中安装有绝缘座，该绝缘座内设有贯通的内孔，所述负极导杆固定安装于内孔中，所述真空罐体内侧焊...

本实用新型公开了一种多工位式连续式真空镀膜设备，包括主真空罐、主密封门及能够推动主密封门的主驱动机构，该主真空罐具有第一入料口，该第一入料口能够通过主密封门密封，该主真空罐内设有旋转机构及若干个子真空罐，该若干个子真空罐绕旋转机构的转轴...

本实用新型公开了一种一体化真空镀膜机，包括真空室体、扩散泵、罗茨泵、机械泵以及电气柜，其特征在于：包括四方形框架，该方形框架包括底架及顶架，底架上从左至右顺序安装有真空室体、扩散泵、机械泵以及电气柜，所述真空室体通过真空阀门连接扩散泵，...

本发明公开了一种免底涂工艺，包括以下步骤：(1)对镀件表面进行高压离子清洗；(2)对清洗后的镀件表面镀基膜，并镀上有机硅等离子重合SiOx；(3)在真空室内对涂有基膜的镀件进行蒸发镀膜，真空度为3×10-2Pa；(4)在炉内对镀膜后的镀...