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本实用新型公开了一体化连续式等离子清洗设备，其特征在于：包括支撑架及传送台，支撑架包括安装底架及顶架，底架上安装有下密封台及升举气缸，顶架上安装有上真空罐及下推气缸，所述上真空罐与升举气缸及下推气缸连接，从而实现升降动作，所述下密封台上设有...
该专利属于中山天誉真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山天誉真空科技有限公司授权不得商用。

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