温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种免底涂工艺，包括以下步骤：(1)对镀件表面进行高压离子清洗；(2)对清洗后的镀件表面镀基膜，并镀上有机硅等离子重合SiOx；(3)在真空室内对涂有基膜的镀件进行蒸发镀膜，真空度为3×10-2Pa；(4)在炉内对镀膜后的镀件附...
该专利属于中山天誉真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山天誉真空科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。