超声波清洗装置和超声波清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制被清洗基板产生损伤，还能够对在电子产业等中使用的高精密度的基板等进行高清洁度的清洗的超声波清洗装置和超声波清洗方法。以使被清洗物（16）位于清洗液的从超声波振子（2）的振动面引出的到液面为止的垂线所形成的区域（超声波照射区域）外的液面下的附近的方式保持被清洗物（16），利用超声波在清洗液的表面激发表面张力波（20），不对被清洗物（16）直接照射超声波，而利用由表面张力波（20）形成的声压来剥离被清洗物（16）的微粒污染物，从而抑制被清洗基板产生损伤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木一成，
申请(专利权)人：株式会社华祥，
类型：
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