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本发明提供能够抑制被清洗基板产生损伤，还能够对在电子产业等中使用的高精密度的基板等进行高清洁度的清洗的超声波清洗装置和超声波清洗方法。以使被清洗物（16）位于清洗液的从超声波振子（2）的振动面引出的到液面为止的垂线所形成的区域（超声波照射区...
该专利属于株式会社华祥所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社华祥授权不得商用。

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