洗涤装置及洗涤方法制造方法及图纸

能够同时洗涤或漂洗晶圆的表面及背面并且能够确实防止已洗涤或漂洗过背面的洗涤用流体对表面造成重复污染。通过洗涤槽（２３）内的洗涤用流体洗涤或漂洗该洗涤槽中设置的晶圆（１）的洗涤装置（１１）包括：嵌接在装置主体（２９）上构成洗涤槽并且形成对应于晶圆外形的开口部（３０）的正面壁（２８）；从正面壁的外侧通过上述开口部能够支持从正面壁内侧搬入的晶圆的背面（３）、并使上述晶圆在纵向上呈竖直状态的晶圆支持装置（２４）；以及在上述正面壁内面的上述开口部周围设置的接触晶圆的背面、并使上述晶圆与上述开口部周围之间形成环状间隙（７２）的栓（７１）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在洗涤槽内洗涤被处理物的，具体地说涉及将晶圆(wafer)等半导体基片表面及/或背面一片一片地同时洗涤的。
技术介绍
在半导体制造工艺中，将晶圆等半导体基片一片一片洗涤、漂洗、干燥的洗涤装置一般采用专利文献1中记载的旋转方式。如图24所示，这样的洗涤装置100是在圆筒状容器(chamber)102内设置利用卡盘(chuck)夹持晶圆101端面等的晶圆承载台103，通过旋转轴104支撑上述晶圆承载台103。上述旋转轴104连接在电机(没有图示)上，通过电机驱动，使晶圆承载台103上夹持的晶圆101旋转。晶圆承载台103上方具有供给喷嘴105，从上述供给喷嘴105向晶圆承载台103上的晶圆101依次供给有机溶剂等洗涤液、漂洗用纯水、氮气等干燥用流体，洗涤、漂洗、并干燥上述晶圆101。在上述供给喷嘴105的底部设置温度传感器106，用于测定上述供给喷嘴105输送的洗涤液、纯水、干燥用流体的温度。另外，图24中的标记107是排液口，标记108是排气口。另外，如专利文献2所述，提出了浸渍方式的洗涤装置，即在洗涤装置中，在洗涤槽内装满洗涤液后，将一片晶圆加入到上述洗涤液中，利用超声波振动，将晶圆表面及背面同时洗涤。专利文献1日本特开2000-21840号公报专利文献2日本特开平5-13397号公报但是，在图24所示的旋转方式的洗涤装置100中，由于在洗涤时注入到晶圆101表面101A上的洗涤液蔓延到晶圆101的背面101B，同时利用晶圆承载台103的卡盘等夹持晶圆101端面，所以难以清洗与卡盘等连接的端面等。另外，在上述洗涤装置100中，由于晶圆101设置成水平状态，所以洗涤装置100整体的安装空间变大。而且，洗涤装置100具有作为旋转结构部的晶圆承载台103和旋转轴104，所以部件数量增多且这些旋转结构部的调整需要很多时间。另外，在上述洗涤装置100中，由于是利用供给喷嘴105向旋转的晶圆101供给洗涤液等，所以难以将洗涤液向晶圆101的表面101A均匀供给，且难以控制洗涤液等的温度。而且，在上述洗涤装置100中，由于利用晶圆承载台103来旋转晶圆101，所以因上述旋转而产生的气流(紊流等)作用，难以适当排出容器102内、或设置在上述容器102中的杯筒(cup)109内的不需要气体。另外，在浸渍方式的洗涤装置中，由于是在洗涤槽内加入洗涤液，将晶圆加入到其中进行洗涤，所以晶圆表面将会被污染的背面污染，产生污染转移。
技术实现思路
鉴于上述情况而提出本专利技术，其目的是提供能够同时洗涤或漂洗被处理物的表面和/或背面并且能够确实防止已洗涤或漂洗过背面的洗涤用流体将污染转移到表面的。权利要求1所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，上述洗涤装置是利用洗涤槽内的洗涤用流体来洗涤或漂洗放置在上述洗涤槽中的被处理物，上述洗涤装置具有一侧壁，其在与装置主体连接构成上述洗涤槽的同时，形成有与上述被处理物外形对应的开口部；支持设备，其从上述一侧壁的外侧通过上述开口部支持进入上述一侧壁内侧的上述被处理物背面，将上述被处理物支持成纵向竖直状态；间隙形成部件，其设置在上述一侧壁内面的上述开口部周围，通过接触上述被处理物的背面，在上述被处理物和上述开口部周围之间形成间隙。权利要求2所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，上述一侧壁的开口部周围与纵向竖直设置的被处理物之间的间隙设定为上方部分比下方部分宽。权利要求3所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，在上述洗涤装置中，将超声波振动装置设置成与被处理物相向且平行。权利要求4所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，上述一侧壁可相对装置主体沿开口部的轴向移动，在上述一侧壁与上述装置主体分离时，搬入被处理物，利用支持设备来支持，通过上述一侧壁和上述装置主体相接构成洗涤槽。权利要求5所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求4所述的专利技术中，上述支持设备利用旋回流产生的负压作用，以非接触状态支持被处理物背面。权利要求6所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求5所述的专利技术中，上述支持设备设置在上述一侧壁上，可相对一侧壁在开口部的轴向相对移动，在洗涤槽内供给洗涤用流体时，该设备从被处理物处退出，以解除对上述被处理物的支持。权利要求7所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，在上述一侧壁内面的开口部周围下方设置承载部件，上述承载部件以点接触状态支撑被处理物。权利要求8所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，向上述洗涤槽内循环供给利用设置在上述洗涤槽外部的过滤器过滤的洗涤用流体。权利要求9所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求1所述的专利技术中，上述洗涤槽连接设置有用于将干燥用流体引入洗涤槽内的干燥用流体供给槽。权利要求10所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求9所述的专利技术中，上述干燥用流体供给槽具有用于供给高温有机溶剂和惰性气体的2个流体喷嘴，上述有机溶剂和惰性气体的温度是从上述2个流体喷嘴喷射并同时气化的上述流体的温度。权利要求11所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求10所述的专利技术中，上述有机溶剂利用连接在两个流体喷嘴的管中的卷绕的面状发热体来加热。权利要求12所述的专利技术涉及的洗涤装置，其特征在于，在权利要求9所述的专利技术中，作为上述干燥用流体首先使用有机溶剂蒸气，接着使用已加热的惰性气体。权利要求13所述的专利技术涉及的洗涤方法，其特征在于，所述方法包括被处理物搬入工艺，其中将被处理物搬入洗涤槽内，使上述被处理物表面冲向上述洗涤槽内，而使其背面冲向上述洗涤槽外，在上述被处理物和上述洗涤槽之间设置间隙，将上述被处理物放置在上述洗涤槽中；洗涤、漂洗工艺，其中在上述洗涤槽内流动洗涤用流体，与上述洗涤用流体接触的上述被处理物的上述表面利用上述洗涤用流体洗涤或漂洗，同时利用由于上述洗涤槽内的洗涤用流体的压力作用而流出上述间隙的洗涤用流体，进行上述被处理物背面的洗涤或漂洗。权利要求14所述的专利技术涉及的洗涤方法，其特征在于，在权利要求13所述的专利技术中，所述方法具有干燥工艺，即在结束上述洗涤、漂洗工艺后，在将被处理物装入洗涤槽内的状态下，将干燥用流体引入洗涤槽内，干燥上述被处理物。权利要求15所述的专利技术涉及的洗涤方法，其特征在于，在权利要求13所述的专利技术中，上述洗涤、漂洗工艺中，将超声波振动装置设置成与装在洗涤槽中的被处理物相向且平行，利用上述超声波振动装置的超声波来实施洗涤。权利要求16所述的专利技术涉及的洗涤方法，其特征在于，在权利要求14所述的专利技术中，在上述干燥工艺中，作为干燥用流体首先使用有机溶剂蒸气，接着使用已加热的惰性气体。权利要求17所述的专利技术涉及的支持设备，其特征在于，在利用洗涤槽内的洗涤用流体洗涤或漂洗所述洗涤槽中的被处理物的洗涤装置中具有在与装置主体连接构成所述洗涤槽的同时形成有与所述被处理物外形对应的开口部的一侧壁，以及从所述一侧壁的外侧通过所述开口部支持装入所述一侧壁内侧的所述被处理物背面、并将所述被处理物支持成纵向竖直状态的支持设备，所述支持设备利用旋回流产生的负压作用以非接触状态支持被处理物背面。权利要求18所述的专利技术涉及的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种洗涤装置，其特征在于，所述洗涤装置是利用洗涤槽内的洗涤用流体来洗涤或漂洗放置在上述洗涤槽中的被处理物，所述洗涤装置具有：一侧壁，该一侧壁在与装置本体连接构成所述洗涤槽的同时，形成有与所述被处理物外形对应的开口部；支持设备，该支持设备从所述一侧壁的外侧通过所述开口部支持装入所述一侧壁内侧的所述被处理物的背面，并使所述被处理物支持成纵向竖直的状态；以及间隙形成部件，该间隙形成部件设置在所述一侧壁的内面的所述开口部周围，用于通过与所述被处理物的背面接触，而在所述被处理物和所述开口部周围之间形成间隙。

【技术特征摘要】
JP 2005-7-26 特愿2005-216217;JP 2005-3-31 特愿2005-1041.一种洗涤装置，其特征在于，所述洗涤装置是利用洗涤槽内的洗涤用流体来洗涤或漂洗放置在上述洗涤槽中的被处理物，所述洗涤装置具有一侧壁，该一侧壁在与装置本体连接构成所述洗涤槽的同时，形成有与所述被处理物外形对应的开口部；支持设备，该支持设备从所述一侧壁的外侧通过所述开口部支持装入所述一侧壁内侧的所述被处理物的背面，并使所述被处理物支持成纵向竖直的状态；以及间隙形成部件，该间隙形成部件设置在所述一侧壁的内面的所述开口部周围，用于通过与所述被处理物的背面接触，而在所述被处理物和所述开口部周围之间形成间隙。2.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，位于所述一侧壁的开口部周围和纵向竖直设置的被处理物之间的间隙设定为上方部分比下方部分宽。3.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，在所述洗涤装置中，将超声波振动装置设置成与被处理物相对且平行。4.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，所述一侧壁可相对于装置主体沿开口部的轴向移动，在所述一侧壁与所述装置主体分离时搬入被处理物，并利用支持设备来支持，同时通过所述一侧壁和所述装置主体相连接，构成洗涤槽。5.如权利要求4所述的洗涤装置，其特征在于，所述支持设备利用旋回流产生的负压作用，以非接触状态支持被处理物的背面。6.如权利要求5所述的洗涤装置，其特征在于，所述支持设备设置成可相对于一侧壁沿开口部的轴向相对移动，在向洗涤槽内供给洗涤用流体时，该支持设备能够从被处理物退出，以解除对所述被处理物的支持。7.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，在所述一侧壁的内面的开口部周围下方设置承载部件，所述承载部件以点接触状态支撑被处理物。8.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，向所述洗涤槽内循环供给利用设置在所述洗涤槽外部的过滤器来过滤的洗涤用流体。9.如权利要求1所述的洗涤装置，其特征在于，所述洗涤槽连接设置用于将干燥用流体引入洗涤槽内的干燥用流体供给槽。10.如权利要求9所述的洗涤装置，其特征在于，所述干燥用流体供给槽具有用于供给高温有机溶剂和惰性气体的2个流体喷嘴，所述有机溶剂和惰性气体的温度是从所述2个流体喷嘴喷射并同时气化的所述流体的温度。11.如权利要求10所述的洗涤装置，其特征在于，所述有机溶剂利用连接在2个流体喷嘴的管中的卷绕的面状发热体来加热。12.如权利要求9所述的洗涤装置，其特征在于，作为所述干燥用流体首先使用有机溶剂蒸气，接着使用已加热的惰性气体。13.一种洗涤方法，其特征在于，所述方法包括被处理物搬入工艺，其中将被处理物搬入洗涤槽内，将所述被处理物的表面冲向所述洗涤槽内，而将其背面冲向所述洗涤槽外，在所述被处理物和所述洗涤槽之间设置间隙，将所述被处理物放置在所述洗涤槽中；洗涤、漂洗工艺，其中在所述洗涤槽内流动洗涤用流体，与所述洗涤用流体接触的所述被处理物的所述表面利用所述洗涤用流体来洗涤或漂洗，同时利用由于所述洗涤槽内的洗涤用流体的压力作用而流出所述间隙的洗涤用流体，来洗涤或漂洗所述被处理物的背面。14.如权利要求13所述的洗涤方法，其特征在于，所述方法具有干燥工艺，即在结束所述洗涤、漂洗工艺后，在将被处理物装入洗涤槽内的状态下，将干燥用流体引入洗涤槽内，干燥所述被处理物。15.如权利要求13所述的洗涤方法，其特征在于，所述洗涤、漂洗工艺中，将超声波振动装置设置成与装在洗涤槽中的被处理物相面对且平行，利用所述超声波振动装置的超声波来实施洗涤。16.如权利要求14所述的洗涤方法，其特征在于，所述干燥工艺中，作为干燥用流体首先使用有机溶剂蒸气，接着使用已加热的惰性气体。17.一种支持设备，其特征在于，在利用洗涤槽内的洗涤用流体洗涤或漂洗所述洗涤槽中的被处理物的洗涤装置中具有在与装置主体连接构成所述洗涤槽的同时形成有与所述被处理物外形对应的开口部的一侧壁，以及从所述一侧壁的外侧通过所述开口部可支持装入所述一侧壁内侧的所述被处理物的背面、并将所述被处理物支持成纵向竖直状态的支持设备，所述支持设备利用旋回流产生的负压作用以非接触状态支持被处理物的背面。18.一种干燥装置，其特征在于，所述干燥装置是利用干燥槽内的干燥用流体来干燥...

【专利技术属性】
技术研发人员：泽木晃，河野通久，
申请(专利权)人：株式会社华祥，
类型：发明
国别省市：JP[日本]