基板处理装置和基板处理装置中的基板输送装置制造方法及图纸

一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述输送轨道上移动，输送交接基板的基板输送装置构成，在同一输送轨道上至少设置２个以上的上述基板输送装置，上述基板输送装置可以以多个处理槽作为相互可以移动的通用范围。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利说明基板处理装置和基板处理装置中的基板输送装置 本专利技术是关于对硅片等基板进行清洗等处理的基板处理装置、以及设置在此基板处理装置上的、把硅片等基板输送到处理槽的基板输送装置的专利技术。在设置有多个分别贮存各种处理液(药液、漂洗液)的处理槽、干燥槽的基板处理装置中，利用基板输送装置把硅片等基板按处理工艺顺序浸渍到处理槽的处理液中。在基板处理装置的前面，设置有储料器和基板交替装置，接收未处理的基板，输送到要送往设在基板处理装置上的基板输送装置的交接位置。储料器是把未处理基板送向基板处理装置、把经过基板处理装置的处理后基板送向后面工序的装置。一般从前面工序以多张未处理基板排列放置在盒内的状态送入，作为输送手段有输送各个盒的盒式输送方式，以及仅拿起盒内的基板输送的所谓无盒输送方式，装置的结构可以适当选择某一种结构。基板交替装置是由未处理基板交替装置和处理后基板交替装置组成，未处理基板交替装置是从盒式输送方式输送的储料器上盒中一下把全部基板卡紧取出，输送到送往上述基板处理装置的基板输送装置的交接位置，处理后基板交替装置是从基板输送装置的交接位置接收处理后基板，储存在盒内，输送到储存器。图8为表示现有基板处理装置50的主要部位结构的简图。如图8所示，基板处理装置50具有多个贮存各种处理液的处理槽10～15，夹头清洗槽8、9、干燥槽20、未处理基板交替装置35、处理后基板交替装置36、在轨道上移动的基板输送装置R1、R2、R3。此外图8中表示了基板输送装置R1、R2、R3的可以移动的范围。基板输送装置R1、R2、R3的结构是在1条轨道4上移动。基板输送装置R1是把被输送的基板从未处理基板交替装置35按处理槽10、11、12、13顺序输送后浸渍到槽中。被输送的基板在处理槽10～13进行清洗处理。基板输送装置R2把在处理槽13处理后的基板按后面的处理槽14、15的顺序输送后浸渍在槽中，在处理槽14、15进行基板清洗等处理后的基板被输送到干燥槽20。用干燥槽20完成干燥处理的基板利用基板输送装置R3放到处理后基板交替装置36。在处理槽13进行基板输送装置R1和基板输送装置R2的基板交接，此外在干燥槽20进行基板输送装置R2和基板输送装置R3的基板交接。把用基板输送装置进行基板交接的处理槽称之为转接槽。进行向转接槽以外其他处理槽输送基板的基板输送装置被固定。再有图8所示的基板输送装置R1、R2、R3为盒式方式。下面对制作用于进行基板输送装置R1、R2、R3等控制的调度程序数据进行说明。基板输送装置R1、R2、R3用以各处理槽处理时间等控制参数的秘诀(控制程序)为基础生成的调度程序数据进行控制。图9为表示用现有程序机的基板处理装置控制程序制作的流程图。如图9所示，开始时用键盘等输入装置进行处理槽设置数目、各处理槽的处理时间、处理液的种类、基板输送装置的移动范围、输送时间、升降机动作时间等有关处理条件、输送条件的数据，或进行输送时间、升降机动作时间的测定(训练)(第S20步)。计算机以输入的数据为基础，制作处理的调度程序(第S21步)。调度程序从各处理槽的处理时间、处理液种类数据，计算出把基板放入各处理槽的开始时间、取出时间。此外要根据处理槽中处理液种类判断是否需要对基板输送装置的夹头部分进行清洗。由此确定全部处理槽的处理开始时间、处理终了时间和基板输送装置向各处理槽装入和取出基板的时间。然后从基板输送装置的装入取出时间检查基板输送装置动作是否不重叠(第S22、23步)。在基板输送装置动作不重叠的情况下，转到第S25步。在基板输送装置动作重叠的情况下，转到第S24步，变更由调度程序制作的装入基板的时间，使其延迟(第S24步)，转到第S22步。在判断基板输送装置可以进行处理的情况下确定调度程序(第S25步)。把确定的调度程序数据传给基板处理装置1的控制装置(第S26步)，基板处理装置1开始处理(第S27步)。这样未处理基板交替装置35的基板利用基板输送装置RT1被输送到第1处理槽，开始处理。引用文献[专利文献1]，特公平7-22144号公报[专利文献2]，特开平10-172939号公报[专利文献3]，特开2002-172367号公报可是由于预先由调度程序数据规定了各处理槽的各个处理时间，经过各处理槽的处理时间后，必须把基板从处理槽取出，直接送到下一个处理槽。而由于现有基板处理装置处理槽之间移动范围是固定的，在移动范围内在基板输送装置输送基板的动作过程中，在移动范围内其他处理槽需要输送基板的情况下，就不能向其他处理槽存取。因此在基板输送装置动作完成之前，其他处理槽的基板输送就必须等待。附图说明图10为以时间序列表示各处理槽的基板处理的时刻图。图10中的箭头表示利用基板输送装置进行基板输送动作，各处理槽的追逐线表示正在处理中，追逐线的长度表示处理时间。如图10所示，从未处理基板交替装置35把图10所示的基板组(用圆圈表示的第1批、第2批、第3批)按顺序从第1处理槽10装入后，由于规定了各处理槽各自的处理时间，图10中表示的t1、t2也就是从处理槽10到11、从处理槽12到13输送时，必须2个处理槽同时输送基板。由于从处理槽10到13的基板输送装置为1台，1个处理槽的基板输送完成前，另一个处理槽要等待。为了解决此问题，必须把向第1处理槽装入基板延迟，使处理槽完成处理的时间不重叠，如图11所示，在现有的方式中使向第1处理槽装入基板组(第1批、第2批)延迟，避免基板输送的重叠。可是由于延迟向处理槽装入基板，基板处理装置50的吞吐量受到限制，在规定时间内基板处理件数减少。因此成为要提高基板处理装置50的基板处理吞吐量的课题。本专利技术的目的是提供一种基板处理装置和基板处理装置上的基板输送装置，可以不扩大基板处理装置占用的面积，利用多个基板输送装置使处理槽之间基板输送装置移动范围重叠，同时在处理槽之间进行基板输送，以实现提高基板处理的吞吐量。本专利技术的基板处理装置是由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述轨道上移动，交接基板进行输送的基板输送装置构成的基板处理装置，在同一输送轨道上至少设置2个以上的上述基板输送装置，上述基板输送装置可以以多个处理槽为相互通用的动作范围进行动作。本专利技术基板处理装置是由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述轨道上移动，交接基板进行输送的基板输送装置构成的基板处理装置，在比上述基板输送装置高的位置上，与上述输送轨道平行设置有输送未处理基板的传送器。本专利技术基板处理装置是由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述轨道上移动，交接基板进行输送的基板输送装置构成的基板处理装置，在同一轨道上至少设置2个以上的上述基板输送装置，上述基板输送装置可以以多个处理槽为相互通用的动作范围进行动作，以及设置有在比上述基板输送装置高的位置上，与上述输送轨道平行设置有输送未处理基板的传送器。此外本专利技术的基板处理装置还设置有作为夹头清洗手段的专用清洗槽，进行清洗上述各基板输送装置上上述基板输送装置的基板夹头部分。本专利技术的基板处理装置设置有从上述传送器接收未处理基板，使未处理基板降低到上述基板输送装置交接位置的传送器下降机。本专利技术的基板处理装置设置有使未处理基板提升，输送到上述传送器的传送器提升机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述输送轨道上移动，输送交接基板的基板输送装置构成，在同一输送轨道上至少设置2个以上的上述基板输送装置，上述基板输送装置可以以多个处理槽作为相互可以移动的通用范围。2.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、在上述输送轨道上移动，输送交接基板的基板输送装置构成，在比上述基板输送装置高的位置与上述输送轨道平行设置输送未处理基板的传送器。3.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置由处理基板的处理槽、沿上述处理槽设置的输送轨道、以及在上述输送轨道上移动且输送交接基板的基板输送装置构成，在同一输送轨道上至少设置2个以上的上述基板输送装置，设置有以多个处理槽作为相互可以移动的通用范围进行工作的上述基板输送装置以及输送未处理基板的传送器，所述传送器在比所述基板输送装置高的位置上与所述输送轨道平行。4.如权利要求1或3所述的基板处理装置，其特征在于，设置有作为进行清洗上述各基板输送装置中上述基板输送装置的基板夹头部件清洗手段的专用槽。5.如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：大霜努，福井亨，板仓纯一，京谷直树，
申请(专利权)人：株式会社华祥，
类型：发明
国别省市：