传动机构、基板定位装置和机器人制造方法及图纸

技术编号:8981303 阅读:121 留言:0更新日期:2013-07-31 23:22
本发明专利技术涉及传动机构、基板定位装置和机器人。所述传动机构包括:驱动带轮,所述驱动带轮设置在驱动轴上并且包括具有预定的节宽的外部齿;从动带轮,所述从动带轮设置在从动轴上并且包括具有所述节宽的外部齿;以及带,所述带包括具有所述节宽的内部齿,所述内部齿与所述驱动带轮和所述从动带轮的所述外部齿啮合。此外,所述带包括具有周期性变化特征的子带,在所述周期性变化特征中,所述节宽周期性地变化,并且这些子带被设置在其周期性变化特征的相位彼此移位的状态。

【技术实现步骤摘要】

本文所公开的实施方式涉及传动机构、基板定位装置和机器人
技术介绍
常规地,已知一种传动机构,该传动机构包括马达、带和带轮等,以在两个平行轴之间传递马达的旋转。传动机构被使用在对准装置等中,当诸如晶片的基板在形成于所谓的局部清洁装置(例如,设备前端模块(EFEM))中的空间中由机器人搬运时,所述对准装置等执行该基板的定位。在下文中,对准装置被描述为“基板定位装置”。具体地,基板定位装置构造成使得,第一带轮被固定到马达的输出轴,第二带轮被固定到供安装基板的台的支承轴上,并且带围绕所述第一带轮和第二带轮缠绕。因此,基板定位装置通过基于马达的运动来移动所述台而执行基板的定位(例如,参见日本专利特开第2004 - 200643号公报)。此外,由橡胶制成的齿形带通常被用作所述带。然而,在使用齿形带的常规传动机构中,马达的旋转可能不被精确地传递。这是因为齿形带的齿节之间的宽度(在下文中,被称为“齿节宽”)可能因成形时的误差而变化。在基板定位装置以及通过使用所述传动机构来驱动臂的机器人中都能够以相同的方式出现这种问题。
技术实现思路
鉴于上述,提供一种传动机构、基板定位装置和机器人,所述传动机构、基板定位装置和机器人即使在使用 具有其中齿节宽变化的周期性变化特征的带的情况下,也能够以比节宽的变化更低的高精度来传递驱动源的旋转。根据本文所公开的实施方式的一方面的传动机构包括驱动带轮、从动带轮和带。所述驱动带轮设置在驱动轴上并且包括具有预定的节宽的外部齿。所述从动带轮设置在从动轴上并且包括具有所述节宽的外部齿。所述带具有与所述驱动带轮和所述从动带轮的所述外部齿啮合的内部齿,并且所述内部齿具有与所述驱动带轮和所述从动带轮的所述外部齿相同的节宽。此外,所述带包括具有周期性变化特征的子带,在所述周期性变化特征中,所述齿节宽周期性地变化,并且这些子带被设置在齿节宽的周期性变化特征的相位彼此移位的状态。根据所公开的实施方式的该方面,即使在使用具有其中齿节宽周期性地变化的周期性变化特征的子带的情况下,也能够以比所述齿节宽的变化更低的高精度来传递驱动源的旋转。附图说明本公开内容的目的和特征从结合附图给出的实施方式的下述说明将显而易见,在附图中:图1是示出包括根据实施方式的基板定位装置和机器人的搬运系统的总体构造的不意图;图2A是示出根据实施方式的基板定位装置的构造的示意性立体图;图2B是传感器单元的示意性放大图;图3A是根据实施方式的传动机构的示意性俯视图;图3B是图3A所示的部分Ml的示意性放大图;图4A和图4B是用于示出使得带的相位移位的示例的视图;图5是示出从动带轮和驱动带轮之间的相移的图;图6A和图6B是示出从动带轮和驱动带轮之间的相移的量的实验结果的图;图7A是示出子带的成型的示例的图;图7B是示出子带的布置的示例的图;图7C是示出子带的布置的另一示例的图;以及图8是示出根据实施方式的机器人的构造的示意性侧视图。具体实施例方式在下文中,将参照形成实施方式的一部分的附图来详细地描述传动机构、基板定位装置和机器人的实施方式。此外,实施方式并不旨在局限于下述的具体细节。此外,将利用例`如构造成使用机器人来搬运半导体晶片的搬运系统来给出下述说明。在本文中,“半导体晶片”简单地被称为“晶片”,并且机器人的“末端执行器”被称为“手”,并且“齿形带”被称为“带”。首先,将参照图1来描述根据实施方式的包括基板定位装置和机器人的搬运系统的总体构造。图1示出了包括根据实施方式的基板定位装置和机器人的搬运系统I的总体构造。为了便于理解说明,在图1中示出了包括Z轴的三维笛卡尔坐标系,该Z轴的正向和负向分别竖直向上和向下(即,“竖直方向”)。因此,沿着XY平面的方向被称为“水平方向”。该笛卡尔坐标系能够以相同的方式被示出在用于下述说明的其他附图中。此外,在下述说明中,附图标记可被分配给多个部件之中的仅一个部件,并且可以省除对其他部件分配附图标记。在该情况下,假定其他部件与分配有附图标记的部件具有相同的构造。如图1所示,搬运系统I包括基板搬运单元2、基板供给单元3和基板处理单元4。基板搬运单元2包括机器人10和供设置该机器人10的壳体20。基板供应单元3设置在壳体20的一个侧面21上,并且基板处理单元4设置在壳体20的另一侧面22上。此外,附图中的附图标记100表示搬运系统I的安装面。机器人10包括臂单元12,该臂单元具有手11,所述手11能够以两段(即,上段和下段)的方式保持待被搬运的晶片W。臂单元12被支承为能够沿水平方向旋转,并且能够相对于基座13竖直地移动。基座13被安装在基座安装框架23上,该基座安装框架23形成壳体20的底壁。此外,将在下文参照图8来描述机器人10。在壳体20中,借助过滤单元24形成清洁空气的向下流,该过滤单元是所谓的设备前端模块(EFEM)并且设置在壳体20的顶部处。借助所述向下流,壳体20的内部保持处于高清洁度的状态。此外,在基座安装框架23的下表面上设置腿部25,以支承壳体20,而在壳体20与安装面100之间保持预定间隙C。基板供应单元3包括:箍30,所述箍沿竖直方向以多段的方式容纳多个晶片W ;以及开箍器(未示出),所述开箍器执行箍30的盖的打开和关闭,以允许将晶片W取出到壳体20中。此外,能够在具有预定高度的台31上以预定间隔设置均包括箍30和开箍器的多个组。基板处理单元4是在半导体制造过程中对晶片W执行诸如清洁处理、成膜处理和光刻处理之类的预定处理的处理单元。基板处理单元4包括执行该预定处理的处理装置40。处理装置40设置在壳体20的与基板供应单元3相对的另一侧面22上,而使机器人10位于该处理装置40和基板供应单元3之间。此外,在壳体20中设置基板定位装置50,以执行晶片W的定位。将参照图2A等在下文详细地描述基板定位装置50。基于这种构造,在搬运系统I中,晶片W由执行升降和旋转操作的机器人10从箍30取出并通过基板定位装置50装载到处理装置40中。接着,将已经在处理装置40中经受了预定处理的晶片W借助机器人10的升降和旋转操作而卸载和搬运,然后被容纳在箍30中。接下来,将参照图2A来描述根据实施方式的基板定位装置50的构造。图2A是示出根据实施方式的基板定位装置50的构造的示意性立体图。如图2A所示,基板定位装置50包括马达51、传动机构52、安装台53和传感器单元54。传动机构52包括驱动带轮52a、从动带轮52b和带52c。马达51是用于使得轴AXl旋转的驱动源。在马达51的输出轴(即,驱动轴,在下文中被描述为轴AXl)处,设置有传动机构52的驱动带轮52a,并且该驱动带轮52a随着马达51的旋转而旋转。此外,马达51的旋转角度(即,驱动带轮52a的旋转角度)由编码器(未示出)等来检测。从动带轮52b相对于围绕轴AX2的旋转轴(未示出)(即,从动轴,在下文中被描述为轴AX2)以可旋转的方式设置。此外,带52c围绕驱动带轮52a和从动带轮52b缠绕。带52c传递驱动带轮52a的旋转,以使得从动带轮52b旋转。将参照图3A和图3B详细地描述驱动带轮52a、从动带轮52b和带52c的形状等。此外,用于供安装晶片W的安装台53被连接到从动带轮52b。当从动带轮52b被驱动以旋转时,安装台53使得所安本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种传动机构,所述传动机构包括:驱动带轮,所述驱动带轮设置在驱动轴上并且包括具有预定的节宽的外部齿;从动带轮,所述从动带轮设置在从动轴上并且包括具有所述节宽的外部齿;以及带,所述带包括具有所述节宽的内部齿,所述内部齿与所述驱动带轮和所述从动带轮的所述外部齿啮合;其中,所述带包括具有周期性变化特征的子带,在所述周期性变化特征中,所述节宽周期性地变化,并且这些子带被设置在其周期性变化特征的相位彼此移位的状态。

【技术特征摘要】
2012.01.30 JP 2012-0168711.一种传动机构,所述传动机构包括: 驱动带轮,所述驱动带轮设置在驱动轴上并且包括具有预定的节宽的外部齿; 从动带轮,所述从动带轮设置在从动轴上并且包括具有所述节宽的外部齿;以及带,所述带包括具有所述节宽的内部齿,所述内部齿与所述驱动带轮和所述从动带轮的所述外部齿哨合; 其中,所述带包括具有周期性变化特征的子带,在所述周期性变化特征中,所述节宽周期性地变化,并且这些子带被设置在其周期性变化特征的相位彼此移位的状态。2.根据权利要求1所述的传动机构,其中,所述子带的数量是n,并且这些子带之间的相移是360/n度。3.根据权利要求2所述的传动机构,其中,所述子带的数量是2,并且这些子带之...

【专利技术属性】
技术研发人员:古市昌稔
申请(专利权)人:株式会社安川电机
类型:发明
国别省市:

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