一种基于电镀工艺的静电驱动式微型扭转器件及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种基于电镀工艺的静电驱动式微型扭转器件，其典型应用是微型扭转器件，其包括硅衬底1、由下至上依次生长于所述硅衬底1上的氧化硅层2、氮化硅层3、金属铝层4、金属Cr层5、金属Cu层6和金属Ni层7。本发明专利技术结构工作原理和制备工艺简单，成本低廉，同时功能完备，可提供足够大的偏转角度，适用于大规模工业化生产，具有重要的实用价值和产业化前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微型光学器件领域，特别是涉及。
技术介绍
静电驱动式微型扭转器件具有驱动方式简单，频率响应好，工艺兼容性好等优点，广泛应用于光学微机电系统领域(M0EMS)。目前主流的静电驱动式微镜器件有两种，德州仪器(TI, Texas Instrument)公司的 DMD (Digital Micro-mirror Device)和基于 SOI 娃片的梳齿式驱动微镜。这些器件各有利弊:前者为平板驱动式器件，电极之间的间距小，转角范围小，转角与驱动电压之间的线性度差，但在小角度转动下可做线性近似处理，其制造工艺为表面牺牲层工艺，对横向和纵向结构的尺度精度高，对工艺均匀性和设备的要求也比较高。后者为梳齿式驱动器件，改善了转角与驱动电压之间的线性度，其制造工艺为体娃工艺，需要使用SOI硅片进行制备，另外还需要有深刻蚀专用设备，工艺成本较高。
技术实现思路
针对上述现有技术中的不足，本专利技术的目的是简化静电驱动式微镜器件的制备工艺流程，降低工艺成本和对工艺设备的要求，同时使其能够完成足够大偏角的转动，符合光路系统的整体设计要求。为实现上述专利技术目的，本申请提供了如下技术方案:—种基于电镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于电镀工艺的静电驱动式微型扭转器件，其特征在于：所述微型扭转器件包括硅衬底（1），依次生长于硅衬底（1）上并进行了图形化刻蚀的氧化硅层（2）、氮化硅层（3），生长于硅衬底（1）以及氮化硅层（3）表面并进行了图形化腐蚀的金属铝层（4），依次生长于硅衬底（1）、氮化硅层（3）以及金属铝层（4）表面的金属Cr层（5）、金属Cu层（6），经光刻定义图形区域后电镀生长于金属Cu层（6）上的金属Ni层（7）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李志宏，刘坤，
申请(专利权)人：北京大学，
类型：发明
国别省市：