一种MEMS扫描探头制造技术

技术编号:8752904 阅读:200 留言:0更新日期:2013-05-30 07:27
本实用新型专利技术涉及一种MEMS扫描探头,包括基座(1)、光纤(2)、透镜(3)、柔性双金属结构(8)、微镜底座(7)、以及设置在微镜底座(7)下表面的MEMS微镜(4),各个部件按照本实用新型专利技术的设计要求相互进行连接,其中,微镜底座(7)下表面上与基座(1)最接近的边和基座(1)的端部对设置于微镜底座(7)下表面的MEMS微镜(4)的自倾斜状态进行了限位;本实用新型专利技术设计的MEMS扫描探头在实现MEMS微镜在自倾斜状态的基础上,能够方便、准确的控制MEMS微镜的自倾斜角度。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

一种MEMS扫描探头
本技术涉及一种MEMS扫描探头。
技术介绍
微型化、高性能、低成本、大批量是当今器件制造的追求目标。微机电系统技术此时应运而生,被广大设备制造商广泛应用。使用微机电系统技术制造的器件主要可分成两大类,其一就是单纯微型化传统器件,如微型光学平台,其优点集中体现在可以拓展微型化的系统的使用范围;其二使用革新原理制造出传统方法无法制作的器件,如地磁传感器。现有的光学平台在应用MEMS技术方面,如MEMS扫描探头、OCT内窥镜探头等等,但是现有的产品设备也存在一些不尽如人意的地方,如MEMS扫描探头,现有的设计中针对光学对准的标准,已经实现了使MEMS微镜在无源的初始状态下呈自倾斜状态,在无源的初始状态下,就实现了 MEMS微镜的光学对准,现有技术的实现方式是通过采用具有不同热膨胀系数的材料组成的柔性连接件将MEMS微镜与扫描探头基座进行连接,加工冷却,使得柔性连接件达到弯曲的效果,实现MEMS微镜在无源的初始状态下呈自倾斜状态,实现光学对准,但是这样的方式,需要精确考虑到柔性连接件中导致弯曲度的各项因素要求,需要精确的计算,并配以相对准确精准的加工工艺才能完成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种MEMS扫描探头,包括基座(1)、光纤(2)、透镜(3)、微镜底座(7)、以及设置在微镜底座(7)下表面的MEMS微镜(4),其中,基座(1)的下表面沿其轴向方向设置有两端开口的光学定位槽(6);光纤(2)设置在光学定位槽(6)内;通过设置在光学定位槽(6)内的透镜定位槽(9),将透镜(3)设置在光纤(2)的一端;其特征在于:还包括柔性双金属结构(8),微镜底座(7)的一边通过柔性双金属结构(8)与基座(1)上靠近透镜(3)的端部相连接,其中,柔性双金属结构(8)的两端分别连接基座(1)端部的上表面和微镜底座(7)的上表面;柔性双金属结构(8)使得设置于微镜底座(7)下表面的MEMS微镜(...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈巧谢会开周亮丁金玲
申请(专利权)人:无锡微奥科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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