一种垂直大位移MEMS微镜及加工工艺制造技术

技术编号:8681715 阅读:259 留言:0更新日期:2013-05-09 01:50
本发明专利技术涉及一种垂直大位移MEMS微镜及加工工艺,其中装置包括微镜边框(1)、镜体(2)和驱动臂(3),镜体(2)边缘通过驱动臂(3)与微镜边框(1)相连接;所述驱动臂(3)包括两根直梁(4)和与之相对应的三个双层膜Bimorph结构连接件(5),双层膜Bimorph结构连接件(5)上设置数个加热电阻(7);驱动臂(3)上还设置有与加热电阻(7)相连接的第一导电走线;本发明专利技术设计的垂直大位移MEMS微镜使镜体(2)相对于微镜边框(1),处于垂直大位移的位置,能够扩大镜体(2)的运动轨迹,提高MEMS微镜的工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种垂直大位移MEMS微镜及加工工艺
技术介绍
微型化,高性能,低成本,大批量是当今器件制造的追求目标。微机电系统技术此时应运而生,被广大制造制造商广泛应用。使用微机电系统技术制造的器件主要可分成两大类,其一就是单纯微型化传统器件,如微型光学平台,其优点集中体现在可以拓展微型化的系统的使用范围;其二使用革新原理制造出传统方法无法制作的器件,如地磁传感器。MEMS微镜作为微机电系统(MEMS)的杰出代表,其种类丰富,性能优良。MEMS微镜的大力发展当然也离不开市场对MEMS微镜的急切需求。现今,MEMS微镜的应用领域有微型投影扫描,医疗成像中的光学扫描探头,光通信中的光开关,光可变衰减器,微型光谱仪坐坐寸寸ο其中MEMS微镜的驱动结构常用的有四大类:静电驱动,电磁驱动,压电驱动和电热驱动。其中每一种驱动结构都有自己的优点,如静电驱动型驱动电压高,功耗低,但是转角小,比较适合光可变衰减器;电磁驱动型驱动电压低,扫描频率低,旋转角度大,适合微型投影仪;压电驱动型由于制作材料的性能有限,使得微镜的旋转角度小,使用范围有限;电热驱动型研究的最彻底,使用范围也最广泛,同时由于其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种垂直大位移MEMS微镜,包括微镜边框(1)、镜体(2)和驱动臂(3),镜体(2)边缘通过驱动臂(3)与微镜边框(1)相连接,驱动臂(3)上设置有第一导电走线,其特征在于:所述驱动臂(3)包括两根直梁(4)和与之相对应的三个双层膜Bimorph结构连接件(5),双层膜Bimorph结构连接件(5)上设置数个加热电阻(7),第一导电走线与加热电阻(7)相连接;各根直梁(4)之间、直梁(4)与微镜边框(1)之间、直梁(4)与镜体(2)边缘之间均通过双层膜Bimorph结构连接件(5)进行连接,使镜体(2)相对于微镜边框(1)处于垂直大位移的位置。

【技术特征摘要】
1.一种垂直大位移MEMS微镜,包括微镜边框(I)、镜体(2)和驱动臂(3),镜体(2)边缘通过驱动臂(3)与微镜边框(I)相连接,驱动臂(3)上设置有第一导电走线,其特征在于:所述驱动臂(3)包括两根直梁(4)和与之相对应的三个双层膜Bimorph结构连接件(5),双层膜Bimorph结构连接件(5)上设置数个加热电阻(7),第一导电走线与加热电阻(7)相连接;各根直梁(4 )之间、直梁(4 )与微镜边框(I)之间、直梁(4 )与镜体(2 )边缘之间均通过双层膜Bimorph结构连接件(5 )进行连接,使镜体(2 )相对于微镜边框(I)处于垂直大位移的位置。2.根据权利要求1所述一种垂直大位移MEMS微镜,其特征在于:还包括分别设置在镜体(2)表面上和双层膜Bimorph结构连接件(5)上的热敏电阻(6)。3.根据权利要求2所述一种垂直大位移MEMS微镜,其特征在于:所述热敏电阻(6)为Pt或者多晶硅材料。4.根据权利要求2所述一种垂直大位移MEMS微镜,其特征在于:所述设置在镜体(2)表面上的热敏电阻(6)采用蛇形分布的方式设置在镜体(2)表面上。5.根据权利要求2所述一种垂直大位移MEMS微镜,其特征在于:所述驱动臂(3)上还设置与所述热敏电阻(6)相连接的第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:丁金玲谢会开陈巧
申请(专利权)人:无锡微奥科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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