【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种阵列膜的制备方法,尤其是一种。
技术介绍
金属银有序多孔阵列膜在催化、表面增强拉曼散射等领域有着重要的应用前景,也可将其用来对硅材料进行湿法刻蚀以获得有序硅纳米线阵列。近期,人们为了获得金属银有序多孔阵列膜,做出了不懈的努力,如在2010年9月29日公布的中国专利技术专利申请文件CN 101844743A中披露的“一种制备金属亚微米微球阵列薄膜的方法及电沉积装置”。该申请文件中提及的方法为,先将聚苯乙烯微球通过垂直自组装的方法获得生长在导电玻璃上的有序微球阵列薄膜,并用它作为起始模板,采用溶胶-凝胶法合成二氧化硅大孔纳米网并用作第二步模板,再利用电化学沉积的方法得到附着于导电玻璃上的金属亚微米微球阵列薄膜。然而,这种制备方法虽获得了金属银亚微米微球阵列薄膜,却也存在着不足之处,首先,最终产物的品质难以保证,其缘由为,一是通过基片表面改性处理使聚苯乙烯微球与基片的结合力较弱,致使其放入溶液中时,聚苯乙烯微球很容易脱落,造成模板的缺陷增多,二是在第二模板(反蛋白质膜)的形成过程中,要用到胶体溶液,由于胶体溶液本身的粘度系数较大,若聚苯乙烯微球膜太厚 ...
【技术保护点】
一种金属银有序多孔阵列膜的制备方法,包括模板法,其特征在于完成步骤如下:步骤1,先将浓度为2.3~2.7wt%的球直径为500~2000nm的聚苯乙烯球溶液涂敷至基片上,再将其上置有聚苯乙烯球的基片置于等离子体清洗机中使用等离子体刻蚀至少3min,得到其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片;步骤2,先将硝酸银、浓度为38~42wt%的氢氟酸和水按照重量比为0.83~0.87∶5∶992.15~996.15的比例混合后搅拌均匀,得到成核溶液,再将其上置有松散状有序排列的聚苯乙烯球模板的基片置于25~29℃下的成核溶液中水平静置沉积至少80s,得到基片上的聚苯乙烯球之间生 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:叶长辉,吴摞,
申请(专利权)人:中国科学院合肥物质科学研究院,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。