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一种氧化铝前驱体溶液及其制备方法与应用技术

技术编号:8903788 阅读:220 留言:0更新日期:2013-07-11 00:56
本发明专利技术公开了一种氧化铝前驱体溶液及其制备方法与应用,包括如下步骤:(a)将冰醋酸加热后加入无水氯化铝,恒温反应8~10分钟后得到半透明的醋酸铝胶体;(b)将上述醋酸铝胶体放入高速离心机,高速离心10~15分钟后得到醋酸铝颗粒;(c)将步骤(b)中的醋酸铝颗粒放入去离子水、丙酮或者醇类溶剂中,配制成质量浓度为20%~40%的溶液,震荡或者搅拌后即为所述的氧化铝前驱体溶液。本发明专利技术所述方法操作简便,成本低,制得的前驱体溶液储存期长,由此溶液低温制备的氧化铝以及氧化铝薄膜,性能优异,特别是薄膜的厚度均一、连续致密,适用于光电和化学领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种氧化铝前驱体溶液、其制备方法以及该溶液在制备氧化铝与氧化铝薄膜中的应用。
技术介绍
氧化铝是一种非常理想的氧化物材料,具有强的体积效应、量子尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应,在光、电、热力学和化学反应等许多方面表现出一系列的优异性能,广泛用作精细陶瓷、复合材料、荧光材料、湿敏性传感器及红外吸收材料等领域。氧化铝薄膜具有无毒,良好的介电常数和化学稳定性,以及低的表面态密度,在光电领域和化学领域有着广泛的应用,如太阳能电池、薄膜晶体管、探测器、闪存、存储器、电容器、反相器、发光二极管等光电电子器件,以及化学催化剂等。制备方法对材料,特别是薄膜材料的特性有着重要影响。目前,用于制备氧化招以及氧化招薄膜的方法有原子层沉积(atomic layer deposition)、化学气相沉积(chemical vapour deposition)、激光沉积(plus vapour deposition)、等离子加强原子层沉积(plasma-enhanced atomic-layer-deposition)、磁控灘身寸(magnetronsputtering)以及溶胶-凝胶法(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化铝前驱体溶液的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(a)?将冰醋酸于100~120℃加热20~30分钟,再加入无水氯化铝,于100~120℃反应8~10分钟后得到半透明的醋酸铝胶体;无水氯化铝与冰醋酸的质量比为1∶5~10;(b)?将上述醋酸铝胶体放入高速离心机,于6000~8000rpm离心10~15分钟后得到醋酸铝颗粒;(c)?将步骤(b)中的醋酸铝颗粒放入去离子水、丙酮或者醇类溶剂中,配制成质量浓度为20%~40%的溶液,震荡或者搅拌8~12小时即为所述的氧化铝前驱体溶液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:马万里彭军
申请(专利权)人:苏州大学
类型:发明
国别省市:

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