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蒸镀遮罩、蒸镀系统及材料的提纯方法技术方案

技术编号:8903771 阅读:167 留言:0更新日期:2013-07-11 00:55
本发明专利技术公开了一种蒸镀遮罩,配置于蒸镀源和基板之间,包括:管状的主体部,包括一开口部;部分遮挡所述开口部的遮挡部,用以控制来自蒸镀源的蒸发物质在开口部的辐射角度。本发明专利技术还公开了一种蒸镀系统及材料的提纯方法。本发明专利技术的蒸镀遮罩,不仅可以控制蒸镀材料的辐射角度,还可以对蒸镀材料进行提纯回收,节约材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种蒸镀遮罩,以及应用该遮罩的系统和采用该蒸镀遮罩进行材料提纯的方法。
技术介绍
蒸镀工艺被广泛应用于电子器件的生产过程,例如有机电致发光器件(0LED),而在有机电致发光显示器或者OLED照明面板中,各个有机发光单元就是以蒸镀工艺所制成。通常是在一基板上(例如是玻璃)设置由氧化铟锡(indium tin oxide, ITO)等透明电极所构成的阳极,以及铝、镁或钙合金等低功函数的金属电极所构成的阴极,在两个电极之间一次沉积有机功能层和发光层等有机材料;其中,该有机发光层与金属电极均采用蒸镀方法形成。传统的镀膜设备大多是采用单点蒸镀源技术,其材料利用率仅5%,换言之,100公克的有机发光材料进入使用单点蒸镀源技术的设备后,将只有5公克可真正被应用到AMOLED面板中, 而剩下的95%材料则在制程中被浪费掉,对面板厂而言无疑是增加成本。有鉴于此,有必要提供一种新型的蒸镀遮罩。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种,不仅可以控制蒸镀材料的辐射角度,还可以对蒸镀材料进行提纯并二次回收,节约材料。为了实现上述目的,本申请提供的技术方案如下:一种蒸镀遮罩,配置于蒸镀源和基板之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀遮罩,配置于蒸镀源和基板之间,其特征在于,包括:管状的主体部,包括一开口部;部分遮挡所述开口部的遮挡部,用以控制来自蒸镀源的蒸发物质在开口部的辐射角度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:廖良生丁磊周东营
申请(专利权)人:苏州大学
类型:发明
国别省市:

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