【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在半导体装置,印刷基板或液晶表示装置等的制造中使用的作为防尘器使用的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件框架,其制造方法以及防尘薄膜组件。
技术介绍
在L S I,超L S I等的半导体制造以及液晶表示装置等的制造中,要对半导体晶片或液晶用原板进行光照射,以制作图案,此时使用的光掩模以及中间掩模(以下,简称光掩模)上如有灰尘附着,这样的灰尘会吸收光或使光弯曲,从而使转印的图案变形,边沿不齐,基底脏黑等,使尺寸,品质,外观等受损。由此,这样的作业通常在无尘室中进行,但是即使如此,也难以使光掩模总是保持总是清洁,因此,要先在光掩模表面贴附防尘的防尘薄膜组件,然后再进行曝光。这样的场合,异物就不会再光掩模的表面直接附着,而是防尘薄膜组件上附着。因此,再光刻时,只要将焦点对准光掩模上的图案上,防尘薄膜组件上的异物就与为转印无关了。防尘薄膜组件,一般,将光可以良好地透过的硝酸纤维素,乙酸纤维素,或氟树脂等形成的透明的防尘薄膜贴附于由铝,不锈钢,聚乙烯等形成的防尘薄膜组件框架的上端面而形成。进一步,在防尘薄膜件框架的下端面上为了贴附光掩模,通常设置聚丁烯树脂,聚乙酸乙烯 ...
【技术保护点】
一种防尘薄膜组件框架,其为防尘薄膜绷紧覆盖的多边形的框体,其特征在于:将碳纤维在形成该框架的各边的长方向取向的被浸渍有树脂的复合材料,沿多边形进行缠绕叠层,使所述树脂固化而成为一体。
【技术特征摘要】
2011.11.04 JP 2011-2423441.一种防尘薄膜组件框架,其为防尘薄膜绷紧覆盖的多边形的框体,其特征在于:将碳纤维在形成该框架的各边的长方向取向的被浸溃有树脂的复合材料,沿多边形进行缠绕叠层,使所述树脂固化而成为一体。2.权利要求1所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述复合材料为连续的单一材料的缠绕叠层而成,或由多个至少缠绕I周的多个材料进行叠层而成。3.权利要求1或2所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述复合材料为将取向的多根所述碳纤维用所述树脂浸溃的片状。4.权利要求1一 3中的任一项所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述框体的表面被研磨以及/或切削而平滑化。5.权利要求1一 4的任一项所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述框体的表面,用树脂覆盖膜覆盖。6.一种防尘薄膜组件框架的制造方法,其特征在于:包括 基础材料形成工序:在比期望的内尺寸小的呈多边形的框体的芯材上,用具有比所述框体的所期望的高更大的宽度以及至少具有缠绕所...
【专利技术属性】
技术研发人员:关原一敏,
申请(专利权)人:信越化学工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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