【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及作为表膜构件(pellicle)的构成构件的框体、特别是作为长边长度大于1400_的超大型表膜构件的构成构件的表膜构件框体及使用了表膜构件框体的表膜构件和表膜构件框体的使用方法,上述表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(IXD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序所用的光掩模、中间掩模(reticIe)上附着异物。
技术介绍
本专利技术是涉及作为表膜构件的构成构件的框体和表膜构件的技术,首先说明表膜构件。以往,在制造半导体电路图案等时,使用通常被称作表膜构件的防尘部件来防止异物附着于光掩模、中间掩模上。表膜构件是这样形成的在形状与例如光掩模或中间掩模的形状相匹配的、厚度为几毫米左右的框体的上表面上铺展并粘接厚度为10 μ m以下的硝酸纤维素或纤维素衍生物(cellulose derivative)或氟系聚合物等透明的高分子膜(以下称作“表膜”),且在该框体的下表面上涂覆粘合材料,并且以规定的粘接力在该粘合材料上粘接保护膜,从而形成表膜构件。上述粘合材料用于将表膜构件粘着于光掩模或中间掩模上,另外,保护膜用于保护该粘合材料的粘 ...
【技术保护点】
一种表膜构件框体,其为矩形,该表膜构件框体的应变度α为0.06%以下,下述通用式(1)所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上,该表膜构件框体的长边的追随度β为32mm以下,且框体的长边长度为1400mm~2100mm,并且该表膜构件框体的内侧面积为15000cm2以上,β=(1/表膜构件的挠曲量)×厚度×宽度????????(1)。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:北岛慎太郎,栗山芳真,
申请(专利权)人:旭化成电子材料株式会社,
类型:发明
国别省市:
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