本发明专利技术提供表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法。在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时框体不会变形，此外在将表膜构件粘贴在掩模上后，表膜构件框体自身也能追随掩模因自重而产生的挠曲。表膜构件框体为矩形，该表膜构件框体的应变度α为0.06％以下，下述通用式（1）所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长边的追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm～2100mm，并且该表膜构件框体的内侧面积为15000cm2以上。β=（1/表膜构件的挠曲量）×厚度×宽度（1）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及作为表膜构件(pellicle)的构成构件的框体、特别是作为长边长度大于1400_的超大型表膜构件的构成构件的表膜构件框体及使用了表膜构件框体的表膜构件和表膜构件框体的使用方法，上述表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(IXD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序所用的光掩模、中间掩模(reticIe)上附着异物。
技术介绍
本专利技术是涉及作为表膜构件的构成构件的框体和表膜构件的技术，首先说明表膜构件。以往，在制造半导体电路图案等时，使用通常被称作表膜构件的防尘部件来防止异物附着于光掩模、中间掩模上。表膜构件是这样形成的在形状与例如光掩模或中间掩模的形状相匹配的、厚度为几毫米左右的框体的上表面上铺展并粘接厚度为10 μ m以下的硝酸纤维素或纤维素衍生物(cellulose derivative)或氟系聚合物等透明的高分子膜(以下称作“表膜”)，且在该框体的下表面上涂覆粘合材料，并且以规定的粘接力在该粘合材料上粘接保护膜，从而形成表膜构件。上述粘合材料用于将表膜构件粘着于光掩模或中间掩模上，另外，保护膜用于保护该粘合材料的粘接面，以在该粘合材料被用于上述用途之前维持该粘合材料的粘接力。通常,该种表膜构件由制造表膜构件的生产商供应给制造光掩模或中间掩模的生产商，光掩模或中间掩模的生产商将表膜构件粘贴在光掩模或中间掩模上之后再供应给半导体生产商、面板生产商等进行光刻处理的生产商。近年来，随着各种多媒体的推广，需要高画质、能够高精度地显示的大型的彩色TFTIXD (薄膜晶体管液晶显示器)。相应地，人们希望开发出一种能够应用于在光刻工序中使用的大型的光掩模、中间掩模的大型的表膜构件。作为能够应用于在大型的TFTIXD (薄膜晶体管液晶显示器)等的光刻工序中使用的大型的光掩模、中间掩模中的表膜构件的框体，通常是具有长边和短边的矩形的框体。在将表膜粘贴在该框体上时，框体的边因该表膜的张力而向内侧变形，该变形有时使光掩模、中间掩模的有效曝光区域减小，随着表膜的铺展面积的增大(表膜变大)，上述的有效曝光区域减小的现象越加明显。针对该现象，在极力维持住表膜构件框体的内侧面积(以下称作有效面积)的状态下提高表膜构件框体的刚性，能够防止上述现象发生(例如参照专利文献I)。专利文献I :日本国特开2001-109135号公报但是，随着近年来的进一步大型化而产生了新的问题。该问题是近年来的进一步大型化要求光掩模、中间掩模(以下简称作掩模)本身也大型化，由此出现了在以往的掩模大型化中未构成问题的、因掩模本身进一步大型化而导致掩模因自身的重量增加而发生挠曲的问题。S卩，由于表膜构件在与掩模紧密接触的状态下使用，因此，在表膜构件不能追随掩模的挠曲的情况下，掩模与表膜构件的粘贴面剥离，在掩模与表膜构件之间产生气体通路，存在不能获得想要利用表膜构件获得的效果。特别是，在操作工序方面，针对被粘接在掩模等上之后的表膜构件，多数情况下是把持掩模的短边侧部分而对表膜构件进行处理，因此要求表膜构件的框体追随长边侧的掩模等的挠曲。如上所述，在以往的表膜构件的大型化中，针对防止表膜构件自身挠曲的这一问题，将提高表膜构件的刚性作为解决方案，但是表膜构件的进一步大型化(超大型化)不仅需要提高表膜构件的刚性，还需要使表膜构件追随粘贴有该表膜构件的掩模因本身的大型化而导致的自身的挠曲、特别是在操作工序上追随长边侧的挠曲。换言之，可以说要求超大 型化的表膜构件兼具刚性和柔软性这两者。这样，掩模的超大型化使应用于该种掩模的超大型表膜构件产生了新的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决由表膜构件的超大型化产生的新的问题，第一技术方案的目的在于提供这样的表膜构件框体在将表膜铺展并粘接于表膜构件框体上时该框体不会变形，此外，在将表膜构件粘贴在掩模上后，表膜构件框体自身也能追随掩模因自身的重量而产生的挠曲。此外，在超大型表膜构件中同时也谋求下述特性在进行从将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上后到将表膜构件粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形。第二技术方案的目的在于提供这样的表膜构件框体在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时，框体不会变形，而且在进行从将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上后到将该表膜构件粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形，此外在将表膜构件粘贴在掩模上之后，表膜构件框体自身也能追随掩模因自身的重量而产生的挠曲。为了达到上述目的，本专利技术人进行了潜心研究，结果发现通过限定超大型表膜构件框体的应变度α、追随度β，能够达到上述目的，由此提出了本专利技术中的第一技术方案。另外，本专利技术人发现通过相对于表膜构件框体的长边Ia的宽度Wa以指定的比例增大短边Ib的宽度Wb，能够达到上述目的，由此提出了本专利技术中的第二技术方案。S卩，本专利技术如下所述。(I)一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的应变度α为O. 06%以下，下述通用式(I)所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长边的追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm 2100mm，并且该表膜构件框体的内侧面积为15000cm2以上。β= (I/表膜构件的挠曲量)X厚度X宽度 (I)(2)根据第(I)技术方案所述的表膜构件框体，该表膜构件框体的短边宽度是长边宽度的I. 05倍 I. 50倍。(3) 一种表膜构件框体,其为矩形，该表膜构件框体的长边宽度Wa为13. Omm 30. 0mm，短边宽度Wb与长边宽度Wa之比Wb/Wa为1.05 I. 50，长边长度为1400mm 2100mm,框体的内侧面积为16000cm2以上。(4)根据第(I) (3)技术方案中任意一项所述的表膜构件框体,构成该表膜构件框体的材料是铝或铝合金。(5)根据第(I) (4)技术方案中任意一项所述的表膜构件框体,对表膜构件框体的表面实施铝钝化处理、黑色化处理以及封孔处理，该封孔处理是对因进行了铝钝化处理而形成的微小的孔的开口部实施的处理，从而实际上在该表面上不存在微裂纹(micro-crack)。(6)—种表膜构件,其是通过将表膜铺展在第(I) (5)技术方案中任意一项所述的表膜构件框体上而获得的该表膜构件。(7) 一种表膜构件框体的使用方法,分别把持第(6)技术方案所述的表膜构件的、表膜构件框体的相对的一组短边中的各短边的至少一处，将表膜构件粘贴在掩模上，之后 将粘贴有该表膜构件的掩模使用于曝光处理。本专利技术的表膜构件框体具有适度的刚性和柔软性，因此，在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时，框体不会变形，而且也不会减小表膜构件的以内侧面积计的有效曝光区域。此外，由于在将表膜构件粘贴在掩模上之后表膜构件也能追随掩模的挠曲，因此也不会在掩模与表膜构件的粘接面上产生气体通路。此外，采用第二技术方案，在进行从将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上之后到将表膜构件粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形。另外，本专利技术的表膜构件框体在超大型表膜构件的情况下效果显著，详细而言，在有效面积为15000cm2以上的超大型表膜构件的情况下，本专利技术的表膜构件框体能够起到显著的效果。附图说明图I是表示本专利技术的表膜构件框体和使用了该框体的表膜构件的结构的立体图。图2是图I的表膜构件框体的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的应变度α为0.06％以下，下述通用式（1）所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长边的追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm～2100mm，并且该表膜构件框体的内侧面积为15000cm2以上，β=（1/表膜构件的挠曲量）×厚度×宽度????????（1）。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：北岛慎太郎，栗山芳真，
申请(专利权)人：旭化成电子材料株式会社，
类型：发明
国别省市：
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