防尘薄膜组件制造技术

提供一种给予贴附后的光掩模的形状的影响极小，可大幅度抑制光掩模的变形的防尘薄膜组件。本发明专利技术为，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架11构成的防尘薄膜组件10，在其防尘薄膜组件框架11上掩模粘着层12至少在2处上形成的同时，其掩模粘着层12之间的领域中无间隙地形成非粘着性的树脂形成的弹性体层13。然后，本发明专利技术的掩模粘着层12在包括角部的防尘薄膜组件框架11上的部位形成为优选，也可进在防尘薄膜组件框架的直线部形成。再者，该掩模粘着层，其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为防尘薄膜组件框架11的内周长的10％至70％的范围为优选。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在半导体装置，IC封装，印刷基板，液晶面板或有机EL面板等的制造中作为防尘器使用的防尘薄膜组件。
技术介绍
在LSI，超LSI等的半导体或液晶面板等的制造中，要对半导体晶片或液晶用玻璃板上进行紫外光照射，来进行图案的制作，此时如使用的光掩模上有灰尘附着，该灰尘就会将紫外光遮蔽，反射，由此就会发生转印的图案的变形，短路等，使品质受损。因此，这些的作业通常无尘室中进行，但是即使如此也难总是保持光掩模的清洁。因此，要在光掩模表面上将作为防尘器的防尘薄膜组件贴附后再进行曝光。在该场合，异物不在光掩模的表面上直接附着，而是在防尘薄膜组件上附着，这样，光刻时只要将焦点对准光掩模的图案，防尘薄膜组件上的异物就与转印没有关系了。一般，防尘薄膜组件，是将透光良好的由硝酸纤维素，醋酸纤维素或氟树脂等构成的透明的防尘膜接着于由铝，不锈钢，工程塑料等构成的防尘薄膜组件框架的一个面上而形成。然后，在防尘薄膜组件框架的另一个面上，设置为了将防尘薄膜组件安装在光掩模上的由聚丁烯树脂，聚醋酸乙烯基树脂，丙烯酸树脂，有机硅树脂等构成的粘着层以及以保护粘着层为目的的离模型层(分离片)。近年，伴随着曝光图案的细微化，防尘薄膜组件的贴附所造成的光掩模的变形也就成了问题。光掩模和防尘薄膜组件框架通过掩模粘着剂材料结合在一起，防尘薄膜组件框架的形状对光掩模的形状施加影响，由此，光掩模表面描绘的图案就会发生变形，所以期望得到一种对安装后的光掩模形状影响极小的防尘薄膜组件。作为上述课题的解决方法，有例如可以使掩模粘着剂材料变得柔软以及使防尘薄膜组件框架的平面度变高的提议。但是，这些的提议，虽然可以将防尘薄膜组件框架对光掩模形状的影响减少，但是不充分。其原因为，防尘薄膜组件框架以及光掩模的平面度，都不完美，所以根据它们的组合方式，其影响可以变大，也可以变小。因此，也就有了从根本上解决问题的提议，即使防尘薄膜组件框架的刚性尽量变小，使其对光掩模的形状的追从性变好，例如，可以使用树脂等的刚性低的材质，使防尘薄膜组件框架的高度变低或者对截面形状进行改变，例如，使截面积减小(专利文献1，2以及3参照)。先行技术文献专利文献【专利文献1】日本特开2011－7933【专利文献2】日本特开2011－7934【专利文献3】日本特开2011－7935但是，为了在对防尘膜的贴附状况进行维持的同时又要从制造到贴附的作业中不发生变形以及防尘膜的褶皱，防尘薄膜组件框架的刚性越高越优选，刚性过大地降低，对制造以及处理会造成障碍。因此，这些提议在实际中不能使防尘薄膜组件框架的刚性实质性降低。再者，为使防尘薄膜组件框架的高度变低，不失为提高对光掩模变形的追从性的有效的手段，但是在该场合，有因为防尘膜和光掩模的图案面的距离变近，从而不能得到本来的散焦性的问题。再者，如为了将截面积减小使刚性降低，在防尘薄膜组件框架的内面设置凹洞等，有可能产生异物。因此，现在，特别需要的是，提供一种在维持适度的框架刚性以及没有制造以及使用上的问题的同时，尽可能维持高的散焦距离以及在贴附后对光掩模的形状的影响极小的防尘薄膜组件。因此，本专利技术，就是鉴于上述情况而成的，本专利技术的目的为，提供以一种对光掩模的形状影响极小，从而对光掩模的变形进行抑制的防尘薄膜组件。本专利技术的专利技术人，为达成上述的目的，进行了深入的研究，得知如果将掩模粘着层在防尘薄膜组件框架的框面的全部连续地配置的话，对光掩模的缔结力过强，贴附后的光掩模的变形大。通过进一步的研究，发现如仅在防尘薄膜组件框架一部分上形成掩模粘着层，同时，在掩模粘着层之间的领域无间隙地形成非粘着性的弹性体层的话，与掩模粘着层在全周上连续地形成的以往的场合相比，对光掩模的缔结力减缓，从而可以将对光掩模的形状的影响抑制在极小，从而完成了本专利技术。
技术实现思路
即，本专利技术的防尘薄膜组件，由具有长边和短边的矩形的防尘薄膜组件框架构成，其特征在于，掩模粘着层在该防尘薄膜组件框架上的至少2处上形成，同时，在掩模粘着层与掩模粘着层之间的领域，无间隙地形成由非粘着性的树脂形成的弹性体层。另外，所述该掩模粘着层，优选在长边和短边的任一方或者其两方的各边的至少1处上形成。再者，本专利技术的掩模粘着层形成部位优选含有防尘薄膜组件框架的角部，但是仅在防尘薄膜组件框架的直线部分上形成也可。然后，该掩模粘着层，优选其沿防尘薄膜组件框架内侧上的长度的总和为在防尘薄膜组件框架的内周长的10％至70％的范围。进一步，本专利技术的掩模粘着层，各个的表面优选进行平面度为30μm以下的平面加工，各个的厚度也以最大值和最小值的差为0.1mm以下为优选。另外，本专利技术的弹性体层优选为在对其进行表面为平面度30μm以下的平面上加工的同时，与掩模粘着层的表面为同一平面，其硬度为硬度计硬度(Durometer-hardness)A50以下，其材质优选从由SBS树脂，SEBS树脂，SEPS树脂，氟系树脂，有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂形成的群中选择。专利技术的效果根据本专利技术，由于在至少2处形成的掩模粘着层之间的领域上形成非粘着性的由树脂形成的弹性体层，与掩模粘着层在防尘薄膜组件框架的全周上连续地形成的以往的场合相比，防尘薄膜组件框架和光掩模和的缔结状态柔和，防尘薄膜组件框架对光掩模的形状的影响可以减少，因此，可以得到对防尘薄膜组件的安装后的光掩模的变形进行大幅度抑制的效果。附图说明图1本专利技术的防尘薄膜组件的一实施方式的斜视图。图2本专利技术的防尘薄膜组件的一实施方式的平面图。具体实施方式以下，对本专利技术的一实施方式基于附图进行详细说明，但是本专利技术并不限于此。本专利技术的防尘薄膜组件，在光掩模的变形特别成问题的半导体的制造的用途上适用时，特别有效果，但是其用途不限定于此。例如，它不仅适用一条边为150mm前后的半导体的制造，在一条边为200至300mm的印刷基板的制造用途以及一条边达到500至2000mm的液晶，有机EL面板的制造用途中，只要具有由于防尘薄膜组件贴附为原因的光掩模的变形问题，都可以使用本专利技术的防尘薄膜组件。图1为，本专利技术的防尘薄膜组件10的一实施方式的斜视图，是从防尘薄膜组件10的掩模粘着层12侧观测的图。通常，在掩模粘着层12的表面上，安装保护用的分离片，图1中，分离片的图示被省略。图1的具体例为，在构成矩形的防尘薄膜组件框架11的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防尘薄膜组件，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架构成，其特征在于，在所述防尘薄膜组件框架上掩模粘着层至少在2处形成的同时，各掩模粘着层之间的领域无间隙地形成由非粘着性的树脂构成的弹性体层。

【技术特征摘要】
2014.12.25 JP 2014-2617691.一种防尘薄膜组件，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框
架构成，其特征在于，在所述防尘薄膜组件框架上掩模粘着层至少在2处
形成的同时，各掩模粘着层之间的领域无间隙地形成由非粘着性的树脂构
成的弹性体层。
2.根据权利要求1的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层
在所述长边和所述短边的任一方或者两方的各边的至少1处上形成。
3.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所
述掩模粘着层的形成部位含有防尘薄膜组件框架的角部。
4.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所
述掩模粘着层，仅在所述防尘薄膜组件框架的直线部分形成。
5.根据权利要求1至4的任一项所述的防尘薄膜组件，其特征在于，
所述掩模粘着层，其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：关原一敏，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP