掩模对准光学系统技术方案

本发明专利技术提供掩模对准光学系统，其利用透射照明方式而性能良好，且能有效应用掩模。掩模对准光学系统在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室（1）中，进行基板（6）与金属掩模（102）的对准，并且具备固定框架（101）和载物台（201），固定框架（101）形成在金属掩模的周围且在四角上形成有“L”字状的导光路，载物台（201）在表面上搭载基板，且在其四角上形成有“L”字状的导光路，利用由导入到形成在固定框架的一部分上的导光路（103）及形成在载物台的一部分上的导光路内的光形成的对准标记的透射像，进行与金属掩模的对准。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及为了制造有机EL设备而用于相对于基板配置金属掩模的掩模对准，尤其涉及利用了掩模的框架的一部分的掩模对准光学系统。
技术介绍
作为制造有机EL (电致发光)设备的有力的方法有真空蒸镀法。在该真空蒸镀中，需要将基板和掩模对准。另外，近年来，对于有机EL设备，其处理基板的大型化的风浪不断涌来，例如，G6世代的基板尺寸是1500mmX 1800mm,随之，在基板尺寸的大型化的同时，当然掩模也大型化，其尺寸甚至达到了 2000mmX2000mm左右。尤其是在使用钢制的掩模的有机EL设备中，其重量还达到了 300kg，以往，将基板及掩模水平放置后使其对位。再者，该现有技术例如已经在下述专利文献I中公开。专利文献1:日本特开2006 - 302896号公报在有机EL蒸镀装置中，用金属掩模将发光材料蒸镀在基板上，此时，随着设备的大型化，需要高精度的对准系统。另外，有机EL蒸镀设备在使用金属掩模和作为目标的基板上的标记进行对准之后，在将该金属掩模和基板紧贴的状态下进行蒸镀。此时的配置按以下顺序进行，首先配置蒸镀源，其次配置掩模，之后配置基板，可是此时，尤其是由于蒸镀源的特性，不能在该蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模对准光学系统，在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室中，进行该基板与由金属薄膜构成的金属掩模的对准，其特征在于，具备固定框架和载物台，所述固定框架形成在所述金属掩模的周围，且在其四角上形成有“L”字状的导光路，所述载物台在表面上搭载所述基板，且在其四角上在与所述固定框架的导光路相对应的位置上形成有“L”字状的导光路，利用设在所述金属掩模的一部分上的金属掩模标记和设在所述基板的一部分上的对准标记的由透射照明形成的像，进行与金属掩模的对准，所述透射照明是由导入到形成在所述固定框架上的导光路及形成在所述载物台上的导光路内的光形成的。

【技术特征摘要】
2011.10.28 JP 2011-2368561.一种掩模对准光学系统，在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室中，进行该基板与由金属薄膜构成的金属掩模的对准，其特征在于， 具备固定框架和载物台， 所述固定框架形成在所述金属掩模的周围，且在其四角上形成有“L”字状的导光路， 所述载物台在表面上搭载所述基板，且在其四角上在与所述固定框架的导光路相对应的位置上形成有“L”字状的导光路， 利用设在所述金属掩模的一部分上的金属掩模标记和设在所述基板的一部分上的对准标记的由透射照明形...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本房重，龟山大树，郑载勋，李相雨，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：