一种掩模框架及其对应的掩模组件制造技术

本实用新型专利技术公开了一种掩模框架及其对应的掩模组件，其中掩模框架包括包含两组对边的内框、置于内框外侧的强化杆及用于连接内框和强化杆的连接机构；内框与强化杆接触部分有支撑机构，造成两者之间存在一定的间隙，同时，内框与强化杆对应区域有配合孔，配合孔的排布可根据受力情况进行计算排布；掩模框架还可以包括支撑杆和弹性部件，可以进一步降低掩模板的下垂现象。提升产品质量、精度以及良品率，同时也可以制备尺寸更大的面板。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子印刷领域，尤其涉及一种掩模框架及其对应的掩模组件。
技术介绍
与现行IXD技术相较，利用有机发光二级管(OLED)技术所制成的显示器不仅具有可全彩化、反应时间快、高亮度(100-14，000cd/m2)、高流明效率(16_381m/W)、170度以上的视角、无一般LCD残影、可制作成大尺寸与可挠曲性面板、能够在摄氏-30°C _80°C的范围内作业等优势，而且制程简单、整体厚度也能缩小至Imm以下、成本更仅有TFT-1XD的30_40%。因此，利用OLED技术所制成的显示器深得社会欢迎。目前，OLED技术所制成的显示器在小尺寸上已经达到量产，而且相对较为成熟。但为了通过同时制造多个OLED显示器以实现产量的提高，或者是制造出大尺寸的OLED显示器，就需要增大传统大衬底的尺寸，相应的就必须增大用于蒸镀有机材料的掩模组件的尺寸。图1所示是传统用于蒸镀有机材料的掩模组件的结构示意图，其包括外框11及通过焊点120固定在外框11上的掩模部12，掩模部12是通过在两端施加拉力绷紧后焊接到外框11上，焊接后释放拉力。掩模组件水平放置时，由于掩模部12沿原来拉力反方向回缩导致外框11上下(图1中上下方位)支撑部分出现图中所示内凹现象，从而使得掩模部12出现下垂(特别是掩模部12中间区域)，如此造成的后果是蒸镀得到的图案位置精度、尺寸大小相对都会有一定的偏差，从而影响产品的质量及良率。中国专利申请号为2010101136655公开了一种掩模组件及用于使用该掩模组件的平板显示器的沉积设备，其主要结构在于:掩模组件的外框上设置有横跨外框构成的开口区域的支撑棒，从而减少掩模部的下垂量。中国专利专利号为01138161.2提供了一种用于制造大尺寸显示面板的掩模，其包括:具有多个孔的主框架，自掩模根据要制造的尺寸和图案而装配在主框架的孔内。以上方式在实现OLED显示器量产上有一定的作用，但在制作大尺寸显示屏上依然存在掩模部12下垂问题，影响大尺寸显示屏制造的良品率和精度要求，因此依然具有一定局限。
技术实现思路
有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本技术提供了一种掩模框架及其对应的掩模组件，所述掩模框架包括内框，所述内框用来与掩模板周边连接固定，起到将掩模板绷紧的作用；强化杆，所述强化杆置于所述内框外侧与所述内框相互作用，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用；及连接机构，所述连接机构用于连接所述内框和所述强化杆，起到支撑所述强化杆，将所述内框向内收缩的边框向外进行拉伸，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用。根据本专利
技术介绍
中对现有技术所述，如图1所示，当外框11的边受到向内的拉力时，外框11上下(图1中上下方位)支撑部分出现图1所示的内凹现象，从而造成了掩模部的下垂；此时调节所述连接机构则可以降低或弥补外框支撑部分向内凹的情况，改善广品的精度、质量，并提闻良品率。另外，根据本技术公开的掩模框架的还具有如下附加技术特征:所述内框包括两组对边，所述两组对边构成一个中空封闭矩形框架。进一步地，所述封闭矩形框架为一体成型或由所述两组对边通过连接部件连结构成。本技术公开的一种掩模框架更倾向于解决制备大尺寸面板的产品，虽然一体成型的所述封闭矩形框架在此方面有一定的优势，但当尺寸进一步增大时，则由通过连接部件连接构成的所述封闭矩形框架具有更明显的优势。所述内框和强化杆在接触部位具有对应的支撑机构，且所述支撑机构使所述内框和所述强化杆连接时具有间隙。进一步地，所述对应的支撑机构是分别位于所述内框和所述强化杆接触部位具有定位作用的凸起结构和凹陷结构或者是简单的单边凸起结构而无相应的凹陷结构。简单的单边突起结构可以起到造成内框和强化杆之间具有间隙的作用，并且制备起来相对更加简单，成本低廉；而具有定位作用的凸起结构和凹陷结构则使定位更加精确。优选地，所述具有定位作用的凸起结构和凹陷结构是半径相同、配合后二者能够实现重合的圆柱体或者是可配合的梯形凸起结构和可与所述梯形凸起结构配合定位的凹陷结构或者是η大于等于I个柱状凸起结构和可与所述柱状凸起结构配合的凹陷结构，所述柱状突起结构和所述柱状凸起结构配合的凹陷结构的中心线重合且垂直于所述接触部位表面。所述连接机构是螺丝结构。优选地，所述螺丝结构为密纹螺丝结构。连接结构可以是常见的、简便的螺丝结构，其在维修组装更换时更加便捷，而优选地的密纹螺丝结构则能够调节更加精细和承受更强的支撑力。所述强化杆和所述对边设置有用于螺丝连接的对边配对孔和强化杆配对孔。进一步地，所述对边配对孔在所述对边上为螺纹盲孔。进一步地，所述强化杆上设置有圆柱阶梯通孔。所述螺纹盲孔可以避免操作中浆料顺着通孔溢出的可能，也可以进一步减少对内框整体结构受力的影响。进一步地，所述配对孔在所述对边和所述强化杆长度方向上按规律排列。通常状态下的操作中，内框对边上所受的力会呈规律排布，一般会出现中间部位受力较大，两侧受力较低，因此所述配对孔会根据受力情况进行合理更优排布。优选地，所述配对孔为中间密集、两端稀疏规则排列或均匀排列或中间稀疏、两端S集排列。根据本技术的实施例，所述掩模框架还包括支撑杆，所述支撑杆用来进一步减少掩模板的下垂量。当需要制作的产品尺寸进一步增大时，掩模板的尺寸也相应的增大，由此带来的下垂量也必将进一步增大，单纯的强化杆的作用有可能难以达到预期效果，此时支撑杆则可以进一步的减少所述掩模板中间区域的下垂。根据本技术的实施例，所述掩模框架还包括用于增加所述强化杆和所述内框之间支撑力的弹性部件。优选地，所述弹性部件是弹簧。根据本技术的实施例，所述强化杆还包括与有突起平台，所述突起平台与所述内框对边下表面紧密接触，掩膜组件水平放置时，所述突起平台起到支撑内框的作用。进一步地，所述突起平台与所述内框对边的内侧均设置有倒角结构或过渡曲线结构。如此设计可以减少组件对有机发光材料的阻挡，有利于有机发光材料的蒸镀过程。本技术还公开了一种对应的掩模组件，包括本技术提供的所述掩模框架和掩模部件，所述掩模部件固定连接在所述掩模框架的所述内框上。另外，根据本技术公开的对应的掩模组件的还具有如下附加技术特征:所述掩模部件是多块掩模板拼接而成，或者是一体成型的单块掩模板构成。所述掩模部件与构成掩模框架的内框的结合部为胶水粘接或激光焊接连接结构。一体成型的单块掩模板在持续增加尺寸时，一方面在制作本身将遇到许多困难，另一方面，其内部结构刚性不断降低，下垂现象则更加严重；因此多块掩模板的拼接则可以更好地解决此类问题。本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从以下结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中:图1是传统用于蒸镀有机材料的掩模组件的结构示意图；图2是本技术一种掩模框架的实施例示意图；图3是图2中20部分放大示意图；图4为本技术一实施例掩模框整体平面图；图5为图4中41部分放大示意图；图6为图4中42区域A-A截面示意图；图7是掩模组件的结构示意图；图8是图7中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模框架，其特征在于,包括：内框,所述内框用来与掩模板周边连接固定，起到将掩模板绷紧的作用；强化杆,所述强化杆置于所述内框外侧与所述内框相互作用，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用；及连接机构，所述连接机构用于连接所述内框和置于所述内框外侧的所述强化杆，起到支撑所述强化杆，将所述内框向内收缩的边框向外进行拉伸，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用。

【技术特征摘要】
1.一种掩模框架,其特征在于，包括: 内框，所述内框用来与掩模板周边连接固定，起到将掩模板绷紧的作用； 强化杆，所述强化杆置于所述内框外侧与所述内框相互作用，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用； 及连接机构，所述连接机构用于连接所述内框和置于所述内框外侧的所述强化杆，起到支撑所述强化杆，将所述内框向内收缩的边框向外进行拉伸，起到减少或弥补当所述内框将所述掩模板绷紧时产生的所述内框边框向内收缩量的作用。2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述内框包括两组对边，所述两组对边构成一个中空封闭矩形框架。3.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，所述中空封闭矩形框架为一体成型或由所述两组对边通过连接部件连结构成。4.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述内框和强化杆在接触部位具有对应的支撑机构，且所述支撑机构使所述内框和所述强化杆连接时具有间隙。5.根据权利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述对应的支撑机构是分别位于所述内框和所述强化杆接触部位具有定位作用的凸起结构和凹陷结构或者是简单的单边凸起结构而无相应的凹陷结构。6.根据权利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述具有定位作用的凸起结构和凹陷结构是半径相同、配合后二者能够实现重合的圆柱体或者是可配合的梯形凸起结构和可与所述梯形凸起结构配合定位的凹陷结构或者是η大于等于I个柱状凸起结构和可与所述柱状凸起结构配合的凹陷结构，所述柱状突起结构和所述柱状凸起结构配合的凹陷结构的中心线重合且垂直于 所述接触部位表面。7.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述连接机构是螺丝结构。8.根据权利要求7所述的掩模框架，其特征在于，所述螺丝结构为密纹螺丝结构。9.根据权利要求1、2所...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，高小平，张炜平，
申请(专利权)人：昆山允升吉光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：