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本发明提供掩模对准光学系统，其利用透射照明方式而性能良好，且能有效应用掩模。掩模对准光学系统在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室（1）中，进行基板（6）与金属掩模（102）的对准，并且具备固定框架（101）和载物台（201），固定框架（10...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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