【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光设备,尤其是涉及一种抛光液添加装置。
技术介绍
化学机械抛光技术(ChemicalMechanical Polishing,简称 CMP)是 1965 年由Monsanto提出来的,在磨盘和研磨料的作用下,先通过抛光衆料的化学作用使材料表面薄层软化,随后在磨料、磨盘及抛光布的机械作用下将其磨掉并带走,从而实现平坦化。主要应用于超大规模集成电路(ULSI)制造中,已成为半导体加工行业实现硅片全局平面化的实用技术和核心技术([I]董伟.化学机械抛光技术研究现状及进展[J].制造技术与机床,2012,(07) :93-97.)。CMP抛光加工过程中需要添加抛光液,目前的抛光液添加方法都是从抛光机旁边引出两根管道并置于抛光垫上方,一根用来添加蒸馏水,另一根用来添加抛光液。使用该方法,会导致抛光时抛光液无法均匀分布在工件的表面及其附近区域,影响工件的表面质量。由于在抛光过程中,工件夹具旋转,一部分抛光液在得到利用之前会被夹具旋转时所产生的离心力甩出去,造成了极大的浪费。相比较而言,如果采用从工件夹具周围向工件表面喷射抛光液的方法,将大大提高抛光液的利用效率及抛光效果。
技术实现思路
本专利技术针对传统抛光液添加方法造成抛光液极大浪费的问题,提供一种能够提高抛光液的利用效率,减少花费及提高抛光效果的抛光液添加装置。本专利技术包括工件夹具连接座、工件夹具、上端盖、下端盖、箱体和电子节流阀;夹具连接座外接抛光机转轴,夹具连接座与工件夹具上端螺接,工件夹具内设有引流槽,引流槽进口露于工件夹具外表面,引流槽出口设有至少3个,各引流槽出口分布在工件夹具底表面;箱 ...
【技术保护点】
一种抛光液添加装置,其特征在于包括工件夹具连接座、工件夹具、上端盖、下端盖、箱体和电子节流阀;夹具连接座外接抛光机转轴,夹具连接座与工件夹具上端螺接,工件夹具内设有引流槽,引流槽进口露于工件夹具外表面,引流槽出口设有至少3个,各引流槽出口分布在工件夹具底表面;箱体套在工件夹具外部,上端盖和下端盖分别固于箱体的上端面和下端面,箱体壁上设有通液孔,电子节流阀设于箱体外壁上,电子节流阀出液口与箱体壁上的通液孔及引流槽连通,工件夹具通过轴承与箱体转动配合。
【技术特征摘要】
1.一种抛光液添加装置,其特征在于包括工件夹具连接座、工件夹具、上端盖、下端盖、 箱体和电子节流阀;夹具连接座外接抛光机转轴,夹具连接座与工件夹具上端螺接,工件夹具内设有引流槽,引流槽进口露于工件夹具外表面,引流槽出口设有至少3个,各引流槽出口分布在工件夹具底表面;箱体套在工件夹具外部,上端盖和下端盖分别固于箱体的上端面和下端面,箱体壁上设有通液孔,电子节流阀设于箱体外壁上,电子节流阀出液口与箱体壁上的通液孔及引流槽连通,工件夹具通过轴...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭隐彪,吴沿鹏,杨炜,梁恺,叶卉,
申请(专利权)人:厦门大学,
类型:发明
国别省市:
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