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一种无源器件电学参数的去嵌测量方法和系统技术方案

技术编号:46498765 阅读:4 留言:0更新日期:2025-09-26 19:15
一种无源器件电学参数的去嵌测量方法和系统,包括:构建包含待测无源器件的原始测试电路,将原始测试电路中的待测无源器件移除得到的开路测试电路,以及将开路测试电路的开路进行短路得到的短路测试电路;分别测量各个测试电路的S参数得到S参数矩阵并进行参数转换得到对应的Y参数矩阵;根据Y参数矩阵计算待测无源器件对地的导纳参数以及待测无源器件进行参数剥离后的阻抗参数,根据导纳参数和阻抗参数计算去嵌后的待测无源器件的Y参数矩阵;将待测无源器件的Y参数矩阵进行参数转换得到对应的S参数矩阵,通过待测无源器件的S参数矩阵提取所需的无源器件的电学参数。本发明专利技术能实现对无源器件的高精度去嵌,便于有效得到待测器件本身的电学特性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无源器件测量领域,特别是指一种无源器件电学参数的去嵌测量方法和系统


技术介绍

1、在高频(如射频、毫米波)集成电路测试中,直接测量器件的真实性能(如s参数)会受到测试坏境(探针、焊盘、互连线等)的寄生效应影响。这些非理想因素会引入误差,导致测量结果无法反映器件本身的特性。而gsg是一种常见的微波测试结构,其“地-信号-地”的布局能在一定程度上减少串扰、提供稳定的参考地,广泛用于片上器件的高频测量。然而,gsg结构本身包括非被测器件(如焊盘、传输线)的寄生参数,这些寄生效应会叠加在待测器件(dut)的测量中。如何从gsg测试结构的整体测量数据中剥离寄生效应(如焊盘电阻、传输线损耗),提取dut的真实性能,这是去嵌技术需要解决的关键问题。

2、在集成电路高速发展的今天,无源器件的设计与制作材料也在不断发展,如具有高电容密度的深槽电容器等,其由于深槽结构以及电极材料的影响,电极间耦合的复杂度也随之上升,由于高频下寄生效应与dut特性相互影响产生的非线性耦合,使得更加难以直接分离寄生参数。同时不同的gsg布局(如尺寸、间距等)会导致寄生本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,采用以下公式将所述S参数矩阵进行参数转换得到对应的Y参数矩阵:

3.如权利要求1所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,根据所述原始测试电路和所述开路测试电路对应的Y参数矩阵计算所述待测无源器件进行参数剥离后的阻抗参数Zdut:

4.如权利要求3所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,测试电路的所述输入端口、所述输出端口和所述金属传输线引起的串联电阻和串联电感之和Zro计算如下:

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【技术特征摘要】

1.一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,采用以下公式将所述s参数矩阵进行参数转换得到对应的y参数矩阵:

3.如权利要求1所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,根据所述原始测试电路和所述开路测试电路对应的y参数矩阵计算所述待测无源器件进行参数剥离后的阻抗参数zdut:

4.如权利要求3所述的一种无源器件电学参数的去嵌测量方法,其特征在于,测试电路的所述输入端口、所述输出端口和所述金属传输线引起的串联电阻和串联...

【专利技术属性】
技术研发人员:许荣彬叶智侨窦宇航
申请(专利权)人:厦门大学
类型:发明
国别省市:

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