研磨液供应臂定位辅助工具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种研磨液供应臂定位辅助工具，用于调整研磨液供应臂的位置，所述研磨液供应臂的一端设有喷嘴，所述研磨液供应臂定位辅助工具包括参考垫，所述参考垫同心铺设于研磨平台上，所述参考垫与所述研磨平台的形状和大小相应，所述参考垫的上表面设有用于指示研磨液供应臂一端的喷嘴与参考垫的中心之间的位置关系的若干同心圆凹槽，若干同心圆凹槽以所述参考垫的中心为圆心。使用时，操作人员可以通过参照所述参考垫的上表面设有的用于指示研磨液供应臂一端的喷嘴与参考垫的中心之间的位置关系的若干同心圆凹槽的位置，进行对研磨液供应臂，从而可以快速到达正确的位置，因而实现了对研磨液供应臂的准确、快速定位。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种研磨液供应臂定位辅助工具。
技术介绍
在半导体的生产工艺中，经常需要进行化学机械研磨(Chemical MechanicalPolishing, CMP)工艺，化学机械研磨也称为化学机械平坦化(Chemical MechanicalPlanarization)。化学机械研磨工艺是一个复杂的工艺过程,它是将晶圆(Wafer)表面与研磨垫(Pad)的研磨表面接触,然后,通过晶圆表面与研磨表面之间的相对运动将晶圆表面平坦化，通常采用化学机械研磨设备，也称为研磨机台或抛光机台来进行化学机械研磨工艺。所述研磨装置包括一研磨头(Head)，进行研磨工艺时，将要研磨的晶圆附着在研磨头上，该晶圆的待研磨面向下并接触相对旋转的研磨垫，研磨头提供的下压力将该晶圆紧 压到研磨垫上，所述研磨垫是粘贴于研磨平台上，当该研磨平台在马达的带动下旋转时，研磨头也进行相应运动；同时，研磨液通过研磨液供应臂(TSDA, Tunable Slurry DistributeArm)输送到研磨垫上,并通过离心力均勻地分布在研磨垫上。请参阅图I，在进行研磨制程之前，先要将研磨头4和研磨液供应臂3设置于研磨平台2上方的正确位置上，对于直径为15英寸(即381毫米)的研磨平台，设置研磨头4的中心01与所述研磨平台2的中心02的距离hi为5英寸(S卩127毫米)。而研磨液供应臂3的位置需要操作人员通过目测手动调整。一般是通过目测观察研磨头4的切线和研磨液供应臂3的喷嘴(Nozzle) 31的距离来确定研磨液供应臂3的位置。由于通过目测寻找研磨头4的切线，会因个人的熟练程度而有所区别，经常出现研磨液供应管3的位置设置不准确的情况，一方面，容易导致研磨液供应臂3碰撞研磨头4，另一方面，容易使得研磨液的供应不符合要求，造成产品良率降低。因此，如何提供一种可以实现研磨液供应臂的准确、快速定位的研磨液供应臂定位辅助工具是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种研磨液供应臂定位辅助工具，可以实现对研磨液供应臂的准确、快速定位，以提高研磨效果和研磨效率。为了达到上述的目的，本技术采用如下技术方案—种研磨液供应臂定位辅助工具，用于调整研磨液供应臂的位置，所述研磨液供应臂的一端设有喷嘴，所述研磨液供应臂定位辅助工具包括参考垫，所述参考垫同心铺设于研磨平台上，所述参考垫与所述研磨平台的形状和大小相应，所述参考垫的上表面设有用于指示研磨液供应臂一端的喷嘴与参考垫的中心之间的位置关系的若干同心圆凹槽，若干同心圆凹槽以所述参考垫的中心为圆心。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述若干同心圆凹槽包括密集型同心圆凹槽组和稀疏型同心圆凹槽组，所述密集型同心圆凹槽组位于所述稀疏型同心圆凹槽组的内部。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述密集型同心圆凹槽组包括3-8个小同心圆凹槽，相邻的小同心圆凹槽之间的距离相等。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述稀疏型同心圆凹槽组包括2-3个大同心圆凹槽，相邻的大同心圆凹槽的距离与相邻的大、小同心圆凹槽之间的距离相坐寸ο优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述密集型同心圆凹槽组包括4个小同心圆凹槽，所述稀疏型同心圆凹槽组包括2个大同心圆凹槽。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述密集型同心圆凹槽组中位于最内侧的小同心圆凹槽的半径是90毫米，相邻的小同心圆凹槽之间的距离是7毫米，相邻的大同心圆凹槽的距离以及相邻的大、小同心圆凹槽之间的距离均是14毫米。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，还包括若干半径线，所述半径线均匀分布于所述参考垫的下半圆内。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，相邻的半径线之间的夹角是30度。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述参考垫的材质是聚亚安酯。优选的，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述若干同心圆凹槽中每个同心圆凹槽边上标有表示各自距离参考垫的中心的距离的标记。本技术提供的研磨液供应臂定位辅助工具，采用参考垫，所述参考垫同心铺设于研磨平台上，所述参考垫与所述研磨平台的形状和大小相应，所述参考垫的上表面设有用于指示研磨液供应臂一端的喷嘴与参考垫的中心之间的位置关系的若干同心圆凹槽，所述若干同心圆凹槽以所述参考垫的中心为圆心，操作人员通过参照所述若干同心圆凹槽的位置，使研磨液供应臂可以快速到达正确的位置，因而实现了对研磨液供应臂的准确、快速定位。附图说明本技术的研磨液供应臂定位辅助工具由以下的实施例及附图给出。图I为现有的研磨液供应臂调整方法的结构示意图。图2为本技术一实施例的研磨液供应臂定位辅助工具的结构示意图。图3为研磨后的理想的晶圆表面状态示意图。图4为采用现有的方法对研磨液供应臂调整后进行研磨的晶圆表面状态示意图。图5为采用本技术一实施例的研磨液供应臂定位辅助工具对研磨液供应臂调整后进行研磨的晶圆表面状态示意图。图中，I-参考垫、11-小同心圆凹槽、12-大同心圆凹槽、13-半径线、2-研磨平台、3-研磨液供应臂、31-喷嘴、4-研磨头。具体实施方式下面将参照附图对本技术进行更详细的描述，其中表示了本技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本技术而仍然实现本技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本技术的限制。为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本技术由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。为使本技术的目的、特征更明显易懂，以下结合附图对本技术的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。请参阅图2，并结合图1，本实例提供的研磨液供应臂定位辅助工具，用于调整研磨液供应臂3的位置，所述研磨液供应，3的一端设有喷嘴31，所述研磨液供应臂3的另一·端枢接于研磨机台的机架(未图示)，所述研磨液供应臂3能够绕其另一端进行旋转，所述研磨液供应臂定位辅助工具包括参考垫1，所述参考垫I同心铺设于研磨平台2上，所述参考垫I的中心O与所述研磨平台2的中心重合。所述参考垫I与所述研磨平台2的形状和大小相应，所述参考垫I的上表面设有用于指示研磨液供应臂3 —端的喷嘴31与参考垫I的中心O之间的位置关系的若干同心圆凹槽，所述若干同心圆凹槽以所述参考垫I的中心O为圆心。当需要设置研磨液供应臂3的位置时，操作人员通过参照所述若干同心圆凹槽的位置，转动所述研磨液供应臂3，直至使得喷嘴31到达指定的位置，从而，可以实现对研磨液供应臂3的准确、快速定位。本实施例中，在上述的研磨液供应臂定位辅助工具中，所述若干同心圆凹槽包括密集型同心圆凹槽组和稀疏型同心圆凹槽组，所述密集型同心圆凹槽组位于所述稀疏型同心圆本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨液供应臂定位辅助工具，用于调整研磨液供应臂的位置，所述研磨液供应臂的一端设有喷嘴，其特征在于，所述研磨液供应臂定位辅助工具包括参考垫，所述参考垫同心铺设于研磨平台上，所述参考垫与所述研磨平台的形状和大小相应，所述参考垫的上表面设有用于指示研磨液供应臂一端的喷嘴与参考垫的中心之间的位置关系的若干同心圆凹槽，所述若干同心圆凹槽以所述参考垫的中心为圆心。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王琳，江思明，丁涛，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：