一种新型显影处理单元结构制造技术

本发明专利技术提供的一种新型显影处理单元结构，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴，所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。本发明专利技术的新型显影处理单元结构的技术方案，其结构简单、制作方便、使用和制作均较为简便。运用多个喷嘴形成多个喷涂通道，可以很好的控制面内的CDU问题，有效的节约成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体领域，涉及ー种显影过程中的装置，尤其涉及ー种新型显影处理单元结构。
技术介绍
集成电路制造技术随着摩尔定律快速向前发展，在关键尺寸的不断縮小的同时，对于光刻胶的要求也越来越高，因此对于定义不同的图形时就需要研发出不同特性的光刻胶，而不同特性的光刻胶对于显影液的反应特性又随之不同，从而对于传统的DEV(develop，显影)nozzle (喷嘴)的运动方式而言，出现ー个⑶U (特征尺寸均匀性)的问题，对于不同的光刻胶，甚至不同层次需要研发出不同的显影程式来解决CDU的问题。如图1中所示,对于传统的LD nozzle而言,显影液从显影喷头I中喷洒到wafer(晶圆)2上，同时显影喷头I会开始沿直径的方向扫过整个wafer 2表面。显影喷头I移动速度的快慢直接影响到显影液涂布到wafer 2表面时的均一性。对于反应速度慢的，移动速度应当设定较慢；对于反应速度较快的，移动速度应当设定较快。另如图2中所示，对于传统的GP、MGP nozzle而言,单一喷嘴(nozzle) 3在wafer 2中心喷洒显影液。同时,旋转wafer 2将显影液散开,而达到均勻涂布的目的。而对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型显影处理单元结构，其特征在于，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴，所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。

【技术特征摘要】
1.一种新型显影处理单元结构，其特征在于，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴， 所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。2.如权利要求1所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述喷嘴均匀分布于所述连接面上。3.如权利要求2所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述连接面为圆形。4.如权利要求3所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述连接面的面积为8-12寸。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：何伟明，邢精成，朱骏，张旭昇，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：